JP2009252854A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009252854A5 JP2009252854A5 JP2008096699A JP2008096699A JP2009252854A5 JP 2009252854 A5 JP2009252854 A5 JP 2009252854A5 JP 2008096699 A JP2008096699 A JP 2008096699A JP 2008096699 A JP2008096699 A JP 2008096699A JP 2009252854 A5 JP2009252854 A5 JP 2009252854A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- charged particle
- inspection apparatus
- image
- probe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Claims (17)
- 荷電粒子源と、
前記荷電粒子源から放出される荷電粒子線を試料に照射する荷電粒子線光学系と、
前記試料から放出される二次電子を検出する検出器と、
前記試料に接触する探針と、
前記探針からの信号に基づいて画像を形成する試料検査装置において、
前記荷電粒子線の照射により前記探針に流入する電流又は探針間の電圧に基づいて試料像を形成し、
前記試料像を複数の異なる試料の温度において取得し、
前記複数の試料像の信号を加算若しくは除算することにより、新たな画像を形成することを特徴とする試料検査装置。 - 請求項1記載の試料検査装置において、
前記温度の異なる複数の試料像の、一部または全部について重み付けをした画像の信号に加算または除算をすることにより新たな画像を形成することを特徴とする試料検査装置。 - 請求項1または2記載の試料検査装置において、
前記複数の試料像について、各試料像の位置合わせ及び/又は倍率を補正した画像を用いることを特徴とする試料検査装置。 - 荷電粒子源と、
前記荷電粒子源から放出される荷電粒子線を試料に照射する荷電粒子線光学系と、
前記試料から放出される二次電子を検出する検出器と、
前記試料に接触する探針と、
前記探針からの信号に基づいて画像を形成する試料検査装置において、
前記荷電粒子線の照射により前記探針に流入する電流又は探針間の電圧に基づいて試料像を形成し、
前記試料像を複数の異なる荷電粒子光学系の条件において取得し、
前記複数の試料像の信号を加算若しくは除算することにより、新たな画像を形成することを特徴とする試料検査装置。 - 請求項4記載の試料検査装置において、
試料に照射される荷電粒子源の加速電圧,荷電粒子線量,荷電粒子線入射角を変更することにより、前記異なる荷電粒子光学系の条件が変更されることを特徴とする試料検査装置。 - 請求項4記載の試料検査装置において、
前記複数の試料像の、一部または全部について重み付けをした画像の信号に加算または除算をすることにより新たな画像を形成することを特徴とする試料検査装置。 - 請求項4ないし6記載の試料検査装置のいずれか1つにおいて、
前記複数の試料像について、各試料像の位置合わせ及び/又は倍率を補正した画像を用いることを特徴とする試料検査装置。 - 荷電粒子源と、
前記荷電粒子源から放出される荷電粒子線を試料に照射する荷電粒子線光学系と、
前記試料から放出される二次電子を検出する検出器と、
前記試料に接触する探針と、
前記探針からの信号に基づいて画像を形成する試料検査装置において、
前記荷電粒子線の照射により前記探針に流入する電流又は探針間の電圧に基づいて試料像を形成し、
前記試料像を複数の異なる探針の位置において取得し、
前記複数の試料像の信号を加算若しくは除算することにより、新たな画像を形成することを特徴とする試料検査装置。 - 請求項8記載の試料検査装置において、
前記試料の有する配線上の異なる位置に探針を接触させて試料像を取得することを特徴とする試料検査装置。 - 請求項8又は9記載の試料検査装置において、
前記複数の試料像の、一部または全部について重み付けをした画像の信号に加算または除算をすることにより新たな画像を形成することを特徴とする試料検査装置。 - 請求項8ないし10記載の試料検査装置のいずれか1つにおいて、
前記複数の試料像について、各試料像の位置合わせ及び/又は倍率を補正した画像を用いることを特徴とする試料検査装置。 - 荷電粒子源と、
前記荷電粒子源から放出される荷電粒子線を試料に照射する荷電粒子線光学系と、
前記試料から放出される二次電子を検出する検出器と、
前記試料に接触する探針と、
前記探針からの信号に基づいて画像を形成する試料検査装置において、
前記荷電粒子線の照射により前記探針に流入する電流又は探針間の電圧に基づいて試料像を形成し、
前記試料像を、試料の深さ方向の異なる位置に荷電粒子線の焦点をあわせて取得し、
前記複数の試料像を試料深さ方向に重ね、各試料像間の信号量を補完することにより、前記試料像と垂直な面を有する新たな画像を形成することを特徴とする試料検査装置。 - 請求項12記載の試料検査装置において、
試料に照射される荷電粒子源の加速電圧,荷電粒子線量を変更することにより、
前記異なる荷電粒子光学系の条件が変更されることを特徴とする試料検査装置。 - 請求項12または13記載の試料検査装置において、
前記複数の試料像の、一部または全部について重み付けをした画像の信号に加算または除算をすることにより新たな画像を形成することを特徴とする試料検査装置。 - 請求項12ないし14記載の試料検査装置のいずれか1つにおいて、
前記複数の試料像について、各試料像の位置合わせ及び/又は倍率を補正した画像を用いることを特徴とする試料検査装置。 - 荷電粒子源と、
前記荷電粒子源から放出される荷電粒子線を試料に照射する荷電粒子線光学系と、
前記試料から放出される二次電子を検出する検出器と、
前記試料に接触する探針と、
前記探針からの信号に基づいて画像を形成する試料検査装置において、
当該試料検査装置は、前記試料の帯電量を検出する検出器を有し、
当該検出器は、探針の移動時の試料の電位を検出し、
当該探針を当該試料の電位に近づけることを特徴とする試料検査装置。 - 請求項16記載の試料検査装置において、
前記探針の電位を試料の電位に近づけた後に、当該探針を試料に接触させ、更に当該探針の電位を変更することを特徴とする試料検査装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008096699A JP5459973B2 (ja) | 2008-04-03 | 2008-04-03 | 試料検査装置 |
US12/416,914 US7989766B2 (en) | 2008-04-03 | 2009-04-01 | Sample inspection apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008096699A JP5459973B2 (ja) | 2008-04-03 | 2008-04-03 | 試料検査装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009252854A JP2009252854A (ja) | 2009-10-29 |
JP2009252854A5 true JP2009252854A5 (ja) | 2011-06-16 |
JP5459973B2 JP5459973B2 (ja) | 2014-04-02 |
Family
ID=41132389
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008096699A Active JP5459973B2 (ja) | 2008-04-03 | 2008-04-03 | 試料検査装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7989766B2 (ja) |
JP (1) | JP5459973B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5315076B2 (ja) * | 2009-02-06 | 2013-10-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子線の影響を考慮した半導体検査方法及び装置 |
JP5481401B2 (ja) | 2011-01-14 | 2014-04-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡 |
US9859089B2 (en) * | 2011-05-20 | 2018-01-02 | Hermes Microvision Inc. | Method and system for inspecting and grounding an EUV mask |
US9485846B2 (en) * | 2011-05-20 | 2016-11-01 | Hermes Microvision Inc. | Method and system for inspecting an EUV mask |
JP2016042037A (ja) * | 2014-08-14 | 2016-03-31 | 富士通株式会社 | 評価方法及び装置、並びにプログラム |
TW201704766A (zh) * | 2015-03-19 | 2017-02-01 | 帝喜科技股份有限公司 | 加熱粒子束以識別缺陷 |
JP6594434B2 (ja) | 2015-09-02 | 2019-10-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 回路検査方法および試料検査装置 |
KR102592921B1 (ko) * | 2015-12-31 | 2023-10-23 | 삼성전자주식회사 | 패턴 결함 검사 방법 |
WO2019042905A1 (en) | 2017-08-31 | 2019-03-07 | Asml Netherlands B.V. | ELECTRON BEAM INSPECTION TOOL |
DE102017120408B4 (de) * | 2017-09-05 | 2020-11-19 | scia Systems GmbH | Verfahren und Anordnung zum Ermitteln eines elektrischen Potentials und zum Ermitteln einer Verteilungsdichtefunktion eines Stromes von einem Strahl von Teilchen |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1261022B1 (en) * | 2000-02-25 | 2009-11-04 | Hitachi, Ltd. | Apparatus for detecting defect in device and method of detecting defect |
JP2002353279A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-06 | Hitachi Ltd | 回路パターン検査方法とその装置 |
JP3955445B2 (ja) * | 2001-06-11 | 2007-08-08 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置の検査方法及び試料検査装置 |
JP2003086913A (ja) | 2001-09-11 | 2003-03-20 | Brother Ind Ltd | フレキシブル配線基板の接続構造及び接続方法 |
JP2004296771A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Renesas Technology Corp | 半導体検査装置及び検査方法 |
JP4248465B2 (ja) * | 2004-09-03 | 2009-04-02 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビーム装置の制御方法 |
JP2006105960A (ja) * | 2004-09-13 | 2006-04-20 | Jeol Ltd | 試料検査方法及び試料検査装置 |
JP4467588B2 (ja) | 2007-02-28 | 2010-05-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料検査装置及び吸収電流像の作成方法 |
-
2008
- 2008-04-03 JP JP2008096699A patent/JP5459973B2/ja active Active
-
2009
- 2009-04-01 US US12/416,914 patent/US7989766B2/en active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2009252854A5 (ja) | ||
JP5269041B2 (ja) | X線撮像装置およびx線撮像方法 | |
JP2016081929A5 (ja) | ||
JP2011242406A5 (ja) | ||
JP2008153085A5 (ja) | ||
JP2012118061A5 (ja) | ||
JP2016045206A5 (ja) | ||
JP2010199002A5 (ja) | ||
JP2007180403A5 (ja) | ||
RU2011153725A (ru) | Система визуализации с массивом из множества детекторов | |
JP2012104426A5 (ja) | ||
JP2013101918A5 (ja) | ||
JP2012122746A5 (ja) | ||
JP2015511405A5 (ja) | ||
CN104267426B (zh) | 电子束斑的测量方法和设备 | |
JP6198406B2 (ja) | マイクロ回折方法及び装置 | |
JP2013140846A5 (ja) | ||
JP2009156788A5 (ja) | X線検査装置 | |
TWI582449B (zh) | 用於決定飛行物體軌跡的測量配置 | |
RU152734U1 (ru) | Устройство для измерения профилей протонных пучков ускорителей высоких энергий | |
JP2009236622A (ja) | 蛍光x線分析機能付き高分解能x線顕微装置 | |
Jing-jin et al. | Influence of geomagnetic field on the imaging performance of a streak tube | |
TWI456622B (zh) | 掃描電子顯微鏡及利用該裝置的原電子電流量的測量方法 | |
JPWO2016047538A1 (ja) | エネルギー弁別電子検出器及びそれを用いた走査電子顕微鏡 | |
JP6278457B2 (ja) | 非破壊検査方法およびその装置 |