JP2010199002A5 - - Google Patents

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  1. 回転可能な試料ステージと、試料からの信号を検出する検出器と、を備えた荷電粒子ビーム装置において、
    前記検出器が、前記試料ステージを中心に回転可能であることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
  2. 請求項1記載の荷電粒子ビーム装置において、
    電子ビームを照射する電子ビーム光学系と、イオンビームを照射するイオンビーム光学系とを備え、
    前記電子ビーム光学系と前記イオンビーム光学系のクロスポイントを中心に、前記検出器が回転可能であることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
  3. 請求項2記載の荷電粒子ビーム装置において、
    前記検出器が、前記電子ビーム光学系の光軸上であって、前記試料を透過した前記電子ビームが通過する位置に移動できることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
  4. 請求項3記載の荷電粒子ビーム装置において、
    前記試料ステージが、当該試料ステージに保持されている前記試料の試料面が前記電子ビーム光学系を向くように回転できることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
  5. 請求項2記載の荷電粒子ビーム装置において、
    前記検出器が、前記イオンビーム光学系の光軸に対して、前記電子ビームの光軸と該検出器の主軸が線対称となる位置に移動できることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
  6. 請求項5記載の荷電粒子ビーム装置において、
    前記試料ステージが、当該試料ステージに保持されている前記試料の試料面が前記イオンビーム光学系を向くように回転できることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
  7. 請求項2記載の荷電粒子ビーム装置において、
    前記検出器が、前記試料面の法線に対して、前記電子ビーム光学系の主軸と該検出器の主軸が線対称となる位置に移動できることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
  8. 請求項7記載の荷電粒子ビーム装置において、
    前記試料ステージが、当該試料ステージに保持されている前記試料の試料面が前記イオン光学系の光軸と平行となるように回転できることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
  9. 請求項2記載の荷電粒子ビーム装置において、
    前記検出器が、前記試料面の法線に対して、前記イオンビーム光学系の主軸と該検出器の主軸が線対称となる位置に移動できることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
  10. 請求項9記載の荷電粒子ビーム装置において、
    前記試料ステージが、当該試料ステージに保持されている前記試料の試料面が前記電子ビーム光学系を向くように回転できることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
  11. 請求項2記載の荷電粒子ビーム装置において、
    前記検出器が、透過電子像及び2次粒子像を取得できることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
  12. 請求項1記載の荷電粒子ビーム装置において、
    前記検出器が、回転半径方向に伸縮できることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
  13. 請求項1記載の荷電粒子ビーム装置において、
    前記検出器が、前記試料ステージから離れる方向に退避できることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
  14. イオンビーム光学系と、電子ビーム光学系と、保持する試料の傾斜方向を変更可能な試料ステージと、当該試料からの信号を検出する検出器と、を備えた荷電粒子ビーム装置において、
    前記検出器が、
    前記電子ビーム光学系の光軸上であって、前記試料を透過した電子ビームが通過する位置と、
    前記イオンビーム光学系の光軸に対して、前記電子ビームの光軸と該検出器の主軸が線対称となる位置と、
    前記試料面の法線に対して、前記電子ビーム光学系の主軸と該検出器の主軸が線対称となる位置と、
    前記試料面の法線に対して、前記電子ビーム光学系の主軸と該検出器の主軸が線対称となる位置と、
    に移動できることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
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