TWI456622B - 掃描電子顯微鏡及利用該裝置的原電子電流量的測量方法 - Google Patents

掃描電子顯微鏡及利用該裝置的原電子電流量的測量方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI456622B
TWI456622B TW100135369A TW100135369A TWI456622B TW I456622 B TWI456622 B TW I456622B TW 100135369 A TW100135369 A TW 100135369A TW 100135369 A TW100135369 A TW 100135369A TW I456622 B TWI456622 B TW I456622B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
electron
detector
filter
scanning
original
Prior art date
Application number
TW100135369A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201314732A (zh
Inventor
Souk Kim
Jae Hyung Ahn
Soon Bong Kang
Original Assignee
Snu Precision Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Snu Precision Co Ltd filed Critical Snu Precision Co Ltd
Publication of TW201314732A publication Critical patent/TW201314732A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI456622B publication Critical patent/TWI456622B/zh

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/28Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/244Detectors; Associated components or circuits therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/245Detection characterised by the variable being measured
    • H01J2237/24507Intensity, dose or other characteristics of particle beams or electromagnetic radiation
    • H01J2237/24514Beam diagnostics including control of the parameter or property diagnosed
    • H01J2237/24535Beam current

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Claims (6)

  1. 一種掃描電子顯微鏡,包括:一鏡筒,其內部形成收容空間;電子源,其設置在所述鏡筒內部,用於向所述鏡筒外部的樣品產生帶電的原電子;一過濾器,其設置在所述鏡筒內部中所述電子源的下部,用於改變所述原電子或所述原電子與所述樣品衝撞後所放射出的二次電子兩者中至少一者的移動路徑;一第一檢測器,其設置在所述過濾器和所述樣品之間的所述鏡筒內部,用於檢測由於所述過濾器中產生的電磁場而改變移動路徑的所述原電子所形成的電流量;一第二檢測器,其設置在所述電子源和所述過濾器之間的所述鏡筒內部,用於檢測由於所述過濾器而改變移動路徑的所述二次電子;其中,所述鏡筒之內部的收容空間收容了所述電子源、所述過濾器、所述第一檢測器和所述第二檢測器;一過濾器控制部,其用於控制所述過濾器,以選擇性地改變所述原電子及所述二次電子的移動路徑,在沿著一第一方向掃描所述原電子時,使所述二次電子流入所述第二檢測器,且在沿著一第二方向掃描所述原電子時,使所述原電子流入所述第一檢測器,其中,所述第二方向垂直於所述第一方向。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之掃描電子顯微鏡,其中所述掃描電子顯微鏡是對於行依次掃描所述樣品的掃描領域的光柵掃描方式。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之掃描電子顯微鏡,其中所述過濾器控制部在對所述樣品的掃描領域中的其中一行掃描原電子的期 間,控制所述過濾器使所述二次電子流入所述第二檢測器,並在為了向所述樣品的下一行掃描原電子,移動原電子的入射位置的途中,控制所述過濾器以使所述原電子流入所述第一檢測器。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之掃描電子顯微鏡,其中,進一步包括:檢查部,其用於分析由所述第一檢測器及所述第二檢測器測出的電流量;及電子源控制部,其根據由所述檢查部傳遞的結果值,控制從電子源掃描的所述原電子的電流量。
  5. 一種利用申請專利範圍第1項至第4項其中任一項所述之掃描電子顯微鏡的原電子電流量的測量方法,包括:控制過濾器,以在對樣品的檢測領域中的一行掃描帶電的所述原電子的同時,將所述二次電子導引至所述第二檢測器;及控制過濾器,以在將所述原電子的掃描位置移動到下一行的同時,將所述原電子導引至所述第一檢測器。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之掃描電子顯微鏡的原電子電流量的測量方法,進一步包括:比較分析由所述第一檢測器和所述第二檢測器測出的結果值,並調節所述電子源的所述原電子的產生量的檢查步驟。
TW100135369A 2011-09-27 2011-09-29 掃描電子顯微鏡及利用該裝置的原電子電流量的測量方法 TWI456622B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110097829A KR101348581B1 (ko) 2011-09-27 2011-09-27 주사전자현미경 및 이를 이용한 1차전자의 전류량 측정 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201314732A TW201314732A (zh) 2013-04-01
TWI456622B true TWI456622B (zh) 2014-10-11

Family

ID=47995930

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW100135369A TWI456622B (zh) 2011-09-27 2011-09-29 掃描電子顯微鏡及利用該裝置的原電子電流量的測量方法

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5826942B2 (zh)
KR (1) KR101348581B1 (zh)
CN (1) CN103890896B (zh)
TW (1) TWI456622B (zh)
WO (1) WO2013047920A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI767278B (zh) * 2019-07-26 2022-06-11 荷蘭商Asml荷蘭公司 多重著陸能量掃描電子顯微鏡系統及方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015016632A1 (ko) * 2013-07-31 2015-02-05 케이맥(주) 비행시간을 이용한 조성 및 정량 분석 장치 및 방법, 이에 이용되는 패러데이 컵 어셈블리
KR101493215B1 (ko) * 2013-07-31 2015-02-16 케이맥(주) 이온 및 전자 빔 전류 측정을 위한 패러데이 컵
KR101756171B1 (ko) 2015-12-15 2017-07-12 (주)새론테크놀로지 주사 전자 현미경

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05258703A (ja) * 1991-05-30 1993-10-08 Nippon K L Ee Kk 電子ビーム検査方法とそのシステム
JPH07105888A (ja) * 1993-10-05 1995-04-21 Jeol Ltd 走査電子顕微鏡
TW200818230A (en) * 2006-08-23 2008-04-16 Sii Nanotechnology Inc Charged particle beam apparatus
TW201021077A (en) * 2008-10-23 2010-06-01 Hermes Microvision Inc An electron beam apparatus

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04115447A (ja) * 1990-09-04 1992-04-16 Jeol Ltd イオンビーム装置
JP3101114B2 (ja) * 1993-02-16 2000-10-23 日本電子株式会社 走査電子顕微鏡
JP3376793B2 (ja) * 1995-12-20 2003-02-10 株式会社日立製作所 走査形電子顕微鏡
JP2003187733A (ja) * 2001-12-14 2003-07-04 Ebara Corp 電子線装置及びこの装置を用いたデバイス製造方法
JP4636897B2 (ja) * 2005-02-18 2011-02-23 株式会社日立ハイテクサイエンスシステムズ 走査電子顕微鏡
JP5075375B2 (ja) 2006-08-11 2012-11-21 株式会社日立ハイテクノロジーズ 走査電子顕微鏡
JP5276860B2 (ja) 2008-03-13 2013-08-28 株式会社日立ハイテクノロジーズ 走査電子顕微鏡

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05258703A (ja) * 1991-05-30 1993-10-08 Nippon K L Ee Kk 電子ビーム検査方法とそのシステム
JPH07105888A (ja) * 1993-10-05 1995-04-21 Jeol Ltd 走査電子顕微鏡
TW200818230A (en) * 2006-08-23 2008-04-16 Sii Nanotechnology Inc Charged particle beam apparatus
TW201021077A (en) * 2008-10-23 2010-06-01 Hermes Microvision Inc An electron beam apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI767278B (zh) * 2019-07-26 2022-06-11 荷蘭商Asml荷蘭公司 多重著陸能量掃描電子顯微鏡系統及方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130033877A (ko) 2013-04-04
CN103890896B (zh) 2016-08-17
TW201314732A (zh) 2013-04-01
JP2014528154A (ja) 2014-10-23
KR101348581B1 (ko) 2014-01-09
JP5826942B2 (ja) 2015-12-02
WO2013047920A1 (ko) 2013-04-04
CN103890896A (zh) 2014-06-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI620225B (zh) 粒子束系統及物件之粒子光學檢查的方法
KR101653080B1 (ko) 주사 전자 현미경
JP2013058314A5 (zh)
US8912509B2 (en) Adjustable cathodoluminescence detection system and microscope employing such a system
TWI592976B (zh) Charged particle beam device and inspection method using the device
US10121632B2 (en) Charged particle beam apparatus
JP5947928B2 (ja) 順応性のあるカソードルミネッセンス検出システム及びそのようなシステムを採用したマイクロスコープ
TWI456622B (zh) 掃描電子顯微鏡及利用該裝置的原電子電流量的測量方法
SE2050142A1 (en) Analyser arrangement for particle spectrometer
JP2016527658A5 (zh)
WO2011104011A3 (de) Röntgenröhre sowie system zur herstellung von röntgenbildern für die zahnmedizinische oder kieferorthopädische diagnostik
JP2012104426A5 (zh)
JP2009252854A5 (zh)
US8471202B2 (en) Method for producing a representation of an object by means of a particle beam, as well as a particle beam device for carrying out the method
JP2020017415A (ja) 荷電粒子線装置
CN104094376A (zh) 带电粒子束装置
JP5622779B2 (ja) 試料分析装置および試料分析方法
US20230170181A1 (en) Multiple particle beam system with a mirror mode of operation, method for operating a multiple particle beam system with a mirror mode of operation and associated computer program product
US9269533B2 (en) Analysis apparatus and analysis method
JP5277008B2 (ja) パターン測定条件設定方法、及びパターン測定条件設定装置
WO2012001883A1 (ja) 電子ビームの照射方法及び走査電子顕微鏡
CN107329246A (zh) 一种扫描粒子束显微镜系统及聚焦控制方法
KR20140138688A (ko) 주사 x-선 빔을 생성하기 위한 전자기 주사 장치
JP2008107335A (ja) カソードルミネッセンス測定装置及び電子顕微鏡
TWI820158B (zh) 發射x射線輻射之x射線源及產生x射線輻射之方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees