JP2009239280A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けするように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えてパターニング付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成されたサポートと、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターニング付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、伸長構造を介してリソグラフィ装置の一部に力を加えるように構成されたアクチュエータとを含み、伸長構造は、その伸長構造中の振動を減衰させるように構成された振動ダンパを備えている。アクチュエータは、リソグラフィ装置の一部を位置決めするように構成された位置決めシステム中で使用されてもよい。当該一部は、サポートおよび/または基板テーブルであってもよい。
【選択図】 図2
Description
[0028] 1.ステップモードでは、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTすなわち「マスクサポート」および基板テーブルWTすなわち「基板サポート」は基本的に静止状態に保たれるが、一方で、放射ビームに与えられた全パターンは一度にターゲット部分Cに投影される(すなわち、単一静止露光)。次に、異なるターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTすなわち「基板サポート」はX方向および/またはY方向にシフトされる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静止露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
[0029] 2.スキャンモードでは、放射ビームに与えられたパターンがターゲット部分Cに投影されている間に、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTすなわち「マスクサポート」および基板テーブルWTすなわち「基板サポート」は同期してスキャンされる(すなわち、単一動的露光)。パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTすなわち「マスクサポート」に対する基板テーブルWTすなわち「基板サポート」の速度および方向は、投影システムPSの拡大(縮小)および像反転特性によって決定されることがある。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光でのターゲット部分の(非スキャン方向の)幅が制限されるが、スキャン移動の長さによってターゲット部分の(スキャン方向の)縦幅が決定される。
[0030] 3.他のモードでは、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTすなわち「マスクサポート」は、プログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に保たれ、基板テーブルWTすなわち「基板サポート」は、放射ビームに与えられたパターンがターゲット部分Cに投影されている間、動かされるか、スキャンされる。このモードでは、一般に、パルス放射源が使用され、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTすなわち「基板サポート」の各移動の後で、またはスキャン中に連続した放射パルスの間で、必要に応じて更新される。この動作モードは、先に言及したような型のプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に応用することができる。
Claims (12)
- 放射ビームを条件付けするように構成された照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを与えてパターニング付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成されたサポートと、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターニング付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
伸長構造を介してリソグラフィ装置の一部に力を加えるように構成されたアクチュエータと
を備え、
前記伸長構造が、当該伸長構造中の振動を減衰させるように構成された振動ダンパを含む、リソグラフィ装置。 - 前記一部が、前記サポートまたは前記基板テーブルである、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アクチュエータが、前記伸長構造を介して前記一部に力を加えるように構成されたリニアモータを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記振動ダンパが、バネおよびダンパを介して前記伸長構造に取り付けられた質量を備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記バネが、板バネである、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ダンパが、前記板バネに接続された弾性材料である、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記弾性材料が、前記板バネの2つの鋼板の間に挟まれている、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記弾性材料が、Viton(登録商標)を備える、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記振動ダンパが、各々バネおよびダンパを介して前記伸長構造に取り付けられた少なくとも2つの質量を備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記少なくとも2つの質量が、2つの鋼板を備える板バネで前記伸長構造に接続され、前記2つの鋼板の間に弾性材料が挟まれている、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 放射感応性材料の層で少なくとも部分的に覆われた基板を基板テーブル上に供給するステップと、
パターニングデバイスをサポート上に供給するステップと、
パターニング付き放射ビームを放射感応性材料の前記層の上へ投影するステップと、
伸長構造を介してアクチュエータを用いて前記基板テーブル、前記サポートまたは両方に力を加えるステップと、
振動ダンパを用いて前記伸長構造内の振動を実質的に抑制するステップと
を含む、デバイス製造方法。 - 前記基板上の感応性材料の前記層を現像するステップと、
前記現像された基板からデバイスを製造するステップと
を含む、請求項11に記載の方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012092298A2 (en) | 2010-12-29 | 2012-07-05 | Newport Corporation | Tunable vibration dampers and methods of manufacture and tuning |
RU2610221C2 (ru) | 2011-06-30 | 2017-02-08 | МЭППЕР ЛИТОГРАФИ АйПи Б.В. | Система для измерения входного электрического тока |
US9376807B2 (en) * | 2011-08-23 | 2016-06-28 | Teledyne Scientific & Imaging, Llc | Passive structures with high stiffness and high damping properties |
WO2013034753A1 (en) | 2011-09-09 | 2013-03-14 | Mapper Lithography Ip B.V. | Vibration isolation module and substrate processing system |
WO2013039401A1 (en) | 2011-09-15 | 2013-03-21 | Mapper Lithography Ip B.V. | Support module for lithography system |
US10031427B2 (en) * | 2015-09-30 | 2018-07-24 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for vibration damping stage |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000018301A (ja) * | 1998-06-30 | 2000-01-18 | Kyocera Corp | 振動減衰部材 |
JP2001102286A (ja) * | 1999-09-29 | 2001-04-13 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP2005030486A (ja) * | 2003-07-11 | 2005-02-03 | Nikon Corp | 制振装置及びステージ装置並びに露光装置 |
WO2006022200A1 (ja) * | 2004-08-24 | 2006-03-02 | Nikon Corporation | ステージ装置及び露光装置 |
JP2007535172A (ja) * | 2004-04-27 | 2007-11-29 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | Uvインプリンティングのためのコンプライアントなハード・テンプレート |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6740464B2 (en) * | 2000-01-14 | 2004-05-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor |
JP4266077B2 (ja) * | 2001-03-26 | 2009-05-20 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷方法 |
JP5090631B2 (ja) * | 2005-05-12 | 2012-12-05 | イーストマン コダック カンパニー | 変性シリカ粒子並びにそれを含む感光性組成物及び感光性平版印刷版 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000018301A (ja) * | 1998-06-30 | 2000-01-18 | Kyocera Corp | 振動減衰部材 |
JP2001102286A (ja) * | 1999-09-29 | 2001-04-13 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP2005030486A (ja) * | 2003-07-11 | 2005-02-03 | Nikon Corp | 制振装置及びステージ装置並びに露光装置 |
JP2007535172A (ja) * | 2004-04-27 | 2007-11-29 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | Uvインプリンティングのためのコンプライアントなハード・テンプレート |
WO2006022200A1 (ja) * | 2004-08-24 | 2006-03-02 | Nikon Corporation | ステージ装置及び露光装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019512064A (ja) * | 2017-03-16 | 2019-05-09 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 物体を保持し、位置付け、かつ/又は動かすための装置、及び、物体を保持し、位置付け、かつ/又は動かすための装置を動作させる方法 |
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