JP2009237000A - 電子ビーム描画方法、微細パターン描画システム、凹凸パターン担持体の製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に電子ビームEBを走査して、微細パターン12のエレメント13の形状を描画する際に、描画データに基づき、基板10の所定回転位置でオン信号により電子ビームを照射し、その回転に追従して回転方向に描画し、オフ信号で描画を停止するオン・オフ制御で1周分を描画した後、ビーム照射位置を半径方向に移動させてオン・オフ制御による描画を繰り返すもので、エレメント配置の疎密程度に応じ、密配置部のエレメント描画では、オン・オフ制御のオン時間を、疎配置部の同一エレメント描画でのオン時間より短く設定してドーズ量を調整し、近接効果補正を行う。
【選択図】図4
Description
前記基板を一方向に回転させつつ、該基板の回転に対し、前記微細パターンの描画データに基づき、基板の所定回転位置でオン信号により電子ビームを照射し、基板の回転に追従して回転方向に描画し、オフ信号で描画を停止するオン・オフ制御により1周分の描画を行うのに続いて、前記電子ビームまたは基板を該基板の半径方向に移動させて前記オン・オフ制御による描画を繰り返し、前記エレメントを描画するものであり、
前記エレメント配置の疎密程度に応じ、密配置部におけるエレメント描画では、前記オン・オフ制御のオン時間を、疎配置部における同一エレメント描画でのオン時間より短く設定してドーズ量を調整し、近接効果補正を行うことを特徴とするものである。
11 レジスト
12 サーボパターン
13 サーボエレメント
EB 電子ビーム
A 回転方向
Y 半径方向
20 微細パターン描画システム
21 偏向手段
23 電子銃
24 ブランキング手段
25 アパーチャ
26 ブランキング
40 電子ビーム描画装置
41 回転ステージ
44 スピンドルモータ
45 回転ステージユニット
49 直線移動手段
50 コントローラ
53 エンコーダ
60 信号送出装置
70 インプリントモールド
71 基板
72 微細凹凸パターン
80 磁気ディスク媒体
81 基板
82 磁性層
83 レジスト樹脂層
85 磁気ディスク媒体
90 磁気転写用マスター担体
92 磁性層
Claims (9)
- レジストが塗布され回転ステージに設置された基板上に、前記回転ステージを回転させつつ、電子ビーム描画装置により電子ビームを走査して、該電子ビームの照射径より大きいエレメントで構成される微細パターンを描画する電子ビーム描画方法において、
前記基板を一方向に回転させつつ、該基板の回転に対し、前記微細パターンの描画データに基づき、基板の所定回転位置でオン信号により電子ビームを照射し、基板の回転に追従して回転方向に描画し、オフ信号で描画を停止するオン・オフ制御により1周分の描画を行うのに続いて、前記電子ビームまたは基板を該基板の半径方向に移動させて前記オン・オフ制御による描画を繰り返し、前記エレメントを描画するものであり、
前記エレメント配置の疎密程度に応じ、密配置部におけるエレメント描画では、前記オン・オフ制御のオン時間を、疎配置部における同一エレメント描画でのオン時間より短く設定してドーズ量を調整し、近接効果補正を行うことを特徴とする電子ビーム描画方法。 - 前記回転ステージの回転速度を、描画位置の半径に反比例して内周トラック描画で速く外周トラック描画で遅くなるように、線速度を一定とする回転制御を行い、
前記電子ビームの描画制御信号は、前記回転ステージの回転に連係して生起する描画クロック信号に基づいて作成するものであり、該描画クロック信号は、前記回転ステージの1回転におけるクロック数を、描画位置の半径によらず各トラックで一定値とし、
前記近接効果補正を、前記描画クロック信号における整数個のクロック数を増減することで行うことを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム描画方法。 - 前記微細パターンの描画は、前記基板を一方向に回転させつつ、前記電子ビームを、該基板の半径方向へ往復振動させるとともに、前記オン・オフ制御により基板の所定回転位置に、基板の回転に追従して照射し、前記エレメントの描画を行うことを特徴とする請求項1または2に記載の電子ビーム描画方法。
- 前記微細パターンの描画は、前記基板を一方向に回転させつつ、前記電子ビームを所定半径位置に固定し、前記オン・オフ制御により基板の所定回転位置に照射し、基板の次の回転で電子ビームの照射位置を半径方向に移動させて、前記オン・オフ制御による照射を繰り返して、前記エレメントの描画を行うことを特徴とする請求項1または2に記載の電子ビーム描画方法。
- 前記請求項1〜請求項4のいずれか1項記載の電子ビーム描画方法を実現するための描画データ信号を送出する信号送出装置および電子ビームを走査する電子ビーム描画装置を備えたことを特徴とする微細パターン描画システム。
- 前記電子ビーム描画装置は、レジストが塗布された基板を回転させつつ半径方向に移動可能な回転ステージと、電子ビームを出射する電子銃と、前記電子ビームを前記回転ステージの半径方向に偏向させる偏向手段と、描画部分以外は電子ビームの照射を遮断するオン・オフ制御を行うブランキング手段と、前記各手段による作動を連係制御するコントローラとを備え、
前記信号送出装置は、前記基板に描画する微細パターンの形態に応じたデータに基づき、前記電子ビーム描画装置のコントローラに描画データ信号を送出するものであり、
前記コントローラは、微細パターンの描画データに基づき、基板の所定回転位置でオン信号により電子ビームを照射し、基板の回転に追従して回転方向に描画し、オフ信号で描画を停止するオン・オフ制御により1周分の描画を行うのに続いて、前記電子ビームまたは基板を該基板の半径方向に移動させて前記オン・オフ制御による描画を繰り返し、前記エレメントを描画するとともに、前記エレメント配置の疎密程度に応じ、密配置部におけるエレメント描画では、前記オン・オフ制御のオン時間を、疎配置部における同一エレメント描画でのオン時間より短く設定してドーズ量を調整し、近接効果補正を行うように作成した描画信号に基づいて制御することを特徴とする請求項5に記載の微細パターン描画システム。 - レジストが塗布された基板に、請求項1〜請求項4のいずれか1項記載の電子ビーム描画方法により所望の微細パターンを描画し、該所望の微細パターンに応じた凹凸パターンを形成する工程を経て製造することを特徴とする凹凸パターン担持体の製造方法。
- レジストが塗布された基板に、請求項1〜請求項4のいずれか1項記載の電子ビーム描画方法により所望の微細パターンを描画し、該所望の微細パターンに応じた凹凸パターンを形成する工程を経て作製されたインプリントモールドを用い、該モールドの表面に設けられた前記凹凸パターンに応じた凹凸パターンを転写することを特徴とする磁気ディスク媒体の製造方法。
- レジストが塗布された基板に、請求項1〜請求項4のいずれか1項記載の電子ビーム描画方法により所望の微細パターンを描画し、該所望の微細パターンに応じた凹凸パターンを形成する工程を経て作製された磁気転写用マスター担体を用い、該マスター担体の表面に設けられた前記凹凸パターンに応じた磁化パターンを磁気転写することを特徴とする磁気ディスク媒体の製造方法。
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