JP2009235293A - 有機無機複合体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】平均分散粒径が1nm以上かつ20nm以下の正方晶ジルコニア粒子と、主鎖あるいは側鎖に窒素原子を含有する親水性樹脂とを含有してなる有機無機複合体。前記親水性樹脂は、ポリビニルピロリドン、ポリオキサゾリンのいずれかからなる。前記正方晶ジルコニア粒子は、前記親水性樹脂中に分散してなる。
【選択図】なし
Description
また、プラスチック材料の屈折率を向上させるための無機酸化物フィラーとしては、ジルコニア、チタニアなどの酸化物微粒子が高屈折率フィラーとして利用されている。
また、無機酸化物フィラーを樹脂と複合化するために、水系溶媒や有機溶媒中に無機酸化物フィラーを分散させた分散液が開発され、樹脂の屈折率の向上について検討されている。
この複合化の例としては、粒径10〜100nmのジルコニア粒子と樹脂とを複合化したジルコニア粒子複合化プラスチックを用いた高屈折率かつ高透明性の厚み数ミクロンの膜が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
これら光学用途の親水性樹脂としては、屈折率を任意に制御する試みとして、ポリビニルアルコールに金属酸化物を複合化させた組成物が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
例えば、上述した従来のジルコニア粒子複合化プラスチックからなる膜の場合、厚みを数μmとすることで高屈折率、高透明性を確保したものであるから、厚みが数十μm、あるいはそれ以上になると、透明性を維持するのが困難になる。
そこで、一般的な解決法として、金属酸化物粒子の表面を疎水化するために、有機高分子分散剤などを金属酸化物粒子の表面に付与することにより、金属酸化物粒子と樹脂との相溶性を高める工夫がなされている。
また、耐熱性および耐薬品性に優れているとされたプラスチックレンズにおいても、屈折率が低く、耐熱性もそれほど高いものではなく、高い熱安定性、高屈折率などの要求に応えることは難しかった。
しかしながら、従来の複合材料では、一次粒子径が数μmの粗大なものから数nmの微細なものまでのいずれの高屈折率フィラーであっても、凝集が激しく、樹脂中に混練しても粒子径が数μmの粗大粒の状態で存在するため、樹脂中に高屈折率フィラーを均一に分散させることができなかった。したがって、複合材料の可視光線に対する光透過率、屈折率および靭性をさらに向上させることが難しいという問題点があった。
前記正方晶ジルコニア粒子は、前記親水性樹脂中に分散してなることが好ましい。
前記正方晶ジルコニア粒子の含有率は1質量%以上かつ90質量%以下であることが好ましい。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
図1は、本発明の有機無機複合体を備えた複合基材の一実施形態を示す概略断面図である。
この実施形態の複合基材10は、平板状の透明基材11と、この透明基材11の一方の面11aに形成された有機無機複合体12とから概略構成されており、透明基材11と有機無機複合体12全体が光透過領域をなしている。
このように、正方晶ジルコニア粒子は、ナノサイズの粒子であるから、樹脂と複合化して透明複合体としても、光散乱が小さく、複合体の透明性を維持することが可能である。
ここで、正方晶ジルコニア粒子の含有率を1質量%以上かつ90質量%以下と限定した理由は、下限値の1質量%は屈折率、機械的特性および熱的特性の向上が可能となる添加率の最小値であるからであり、一方、上限値の90質量%は樹脂自体の特性(柔軟性)を維持することができる添加率の最大値であるからである。
この可視光透過率は、有機無機複合体12における正方晶ジルコニア粒子の含有率により異なり、正方晶ジルコニア粒子の含有率が1質量%では95%以上、正方晶ジルコニア粒子の含有率が40質量%では80%以上である。
また、正方晶ジルコニア粒子は、単斜晶ジルコニア粒子に比べてマルテンサイト変態による靭性値の向上を期待できる上に、靭性、硬度が高く、複合体の機械的特性向上に適している。
また、正方晶ジルコニア粒子は、ナノサイズの粒子であるから、樹脂と複合化させた場合においても、光散乱が小さく、複合体の透明性を維持することが可能である。
ポリオキサゾリンとしては、特に限定されないが、例えば、分子量が1000以上かつ1000000以下のものが用いられる。
また、主鎖あるいは側鎖に窒素原子を含有する親水性樹脂としては、上記以外に、ポリ2−メチル2−オキサゾリン、ポリ2−ブチル2−オキサゾリンなどのポリオキサゾリン類、ポリアクリルアミド、ポリジメチルアクリルアミド、ポリイソプロピルアクリルアミド、ポリビニルホルムアミド、ポリビニルアセトアミド、ポリビニルイソブチルアミドなどのポリアミド類が挙げられる。
ここで、親水基を有することは、この樹脂中に表面処理を施さない正方晶ジルコニア粒子を分散させるための必須条件である。さらに、樹脂が水溶性であれば、正方晶ジルコニア粒子の水分散液に樹脂を溶解させることができるから、容易に、水中で正方晶ジルコニア粒子と樹脂とを均一に混合させることができる。そして、混合後に水を除去することにより、容易に、樹脂中に正方晶ジルコニア粒子を均一に分散させた有機無機複合体を製造することができる。
上記以外の無機酸化物粒子としては、例えば、単斜晶または立方晶のジルコニア粒子、酸化チタン、酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモン添加酸化スズ(ATO)、スズ添加酸化インジウム(ITO)などが挙げられる。
無機材料からなる基材としては、例えば、石英ガラス、ソーダライムガラス、白板ガラスなどのガラスや、サファイヤなどのセラミックスからなる基材が挙げられる。
樹脂基材としては、例えば、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリシクロヘキシルメタクリレートなどのアクリレート、ポリカーボネート(PC)、ポリスチレン(PS)、ポリエーテル、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアクリル酸エステル、ポリアミド、フェノール−ホルムアルデヒド(フェノール樹脂)、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、アクリロニトリル・スチレン共重合体(AS樹脂)、メチルメタクレート・スチレン共重合体(MS樹脂)、ポリ−4−メチルペンテン、ノルボルネン系ポリマー、ポリウレタン、エポキシ、シリコーンなどからなる基材が挙げられる。
次に、本発明の有機無機複合体の製造方法を説明する。
この有機無機複合体を作製する際、以下に示すジルコニア透明分散液を用いる。
このジルコニア透明分散液は、分散粒径が1nm以上かつ20nm以下の正方晶ジルコニア粒子と、分散媒とを含む分散液である。
上記の有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、オクタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトンなどのエステル類、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル(メチルセロソルブ)、エチレングリコールモノエチルエーテル(エチルセロソルブ)、エチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素、ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアセトアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド類が好適に用いられ、これらの溶媒のうち1種または2種以上を用いることができる。
また、上記の液状の樹脂オリゴマーとしては、ウレタンアクリレート系オリゴマー、エポキシアクリレート系オリゴマー、アクリレート系オリゴマーなどが好適に用いられる。
ここで、正方晶ジルコニア粒子の含有率を1質量%以上かつ70質量%以下と限定した理由は、この範囲は正方晶ジルコニア粒子が良好な分散状態を取りうる範囲であり、含有率が1質量%未満では、正方晶ジルコニア粒子としての効果が低下し、一方、70質量%を超えると、ゲル化や凝集沈澱が生じ、分散液としての特徴を消失するからである。
正方晶ジルコニア粒子以外の無機酸化物粒子としては、単斜晶または立方晶のジルコニア粒子、酸化チタン、酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモン添加酸化スズ(ATO)、スズ添加酸化インジウム(ITO)などが挙げられる。
この可視光線透過率は、ジルコニア粒子の含有率により異なり、正方晶ジルコニア粒子の含有率が1質量%では95%以上、正方晶ジルコニア粒子の含有率が40質量%では80%以上である。
次いで、この混合溶液を、スピンコート法、バーコート法、フローコート法、ディップ法などの各種塗布方法により、透明基材11の一方の面11aを覆うように塗布して塗膜を形成した後、この塗膜を加熱して溶媒(分散媒)を除去し、透明基材11上に、樹脂中に正方晶ジルコニア粒子が均一に分散した有機無機複合体12を形成する。
以上により、図1に示す本実施形態の有機無機複合体12を作製することができる。
したがって、高光透過率、高屈折率、高い熱安定性、高硬度および耐候性に優れた有機無機複合体を提供することができる。
(ジルコニア透明分散液の調製)
オキシ塩化ジルコニウム8水塩2615gを純水40L(リットル)に溶解させたジルコニウム塩溶液に、28%アンモニア水344gを純水20Lに溶解させた希アンモニア水を攪拌しながら加え、ジルコニア前駆体スラリーを調整した。
次いで、このスラリーに、硫酸ナトリウム300gを5Lの純水に溶解させた硫酸ナトリウム水溶液を攪拌しながら加えた。このときの硫酸ナトリウムの添加量は、ジルコニウム塩溶液中のジルコニウムイオンのジルコニア換算値に対して30質量%であった。
次いで、この混合物を、乾燥器を用いて、大気中、130℃にて24時間、乾燥させ、固形物を得た。
次いで、この固形物を自動乳鉢により粉砕した後、電気炉を用いて、大気中、500℃にて1時間焼成した。
次いで、この焼成物を純水中に投入し、攪拌してスラリー状とした後、遠心分離機を用いて洗浄を行い、添加した硫酸ナトリウムを十分に除去した後、乾燥器にて乾燥させ、正方晶ジルコニア粒子を作製した。
次いで、このジルコニア透明分散液(Z1)における正方晶ジルコニア粒子の平均分散粒径を測定した。
正方晶ジルコニア粒子の平均分散粒径の測定には、動的光散乱式粒径分布測定装置(Malvern社製)を用い、ジルコニア透明分散液(Z1)中の正方晶ジルコニア粒子の含有量を1質量%に調製したものを測定用試料とした。
その結果、ジルコニア透明分散液(Z1)における正方晶ジルコニア粒子の平均分散粒径は7nmであった。
次いで、上記のジルコニア透明分散液(Z1)1.00gに、メタノール7.11gとポリビニルピロリドン(k30、和光純薬工業社製)0.85gを加えて混合し、ジルコニア/ポリビニルピロリドン混合溶液を調製した。
次いで、50mm×50mm×2mmのソーダライムガラス基板上に、バーコート法により、この混合溶液を塗布した後、乾燥機により60℃にて24時間加熱して予備乾燥した後、減圧下、80℃にて24時間乾燥して、実施例1の有機無機複合体を作製した。
なお、この有機無機複合体は、ジルコニア/ポリビニルピロリドン混合溶液の塗布と乾燥を繰り返し、硬化後の膜厚が100μmとなるように調整した。
得られた有機無機複合体における正方晶ジルコニア粒子の含有率は15質量%であった。
ジルコニア透明分散液(Z1)2.00gに、メタノール6.29gとポリビニルピロリドン(k30、和光純薬工業社製)0.70gを加えた以外は実施例1と同様にして、実施例2の有機無機複合体を作製した。
得られた有機無機複合体における正方晶ジルコニア粒子の含有率は30質量%であった。
ジルコニア透明分散液(Z1)3.33gに、メタノール5.20gとポリビニルピロリドン(k30、和光純薬工業社製)0.50gを加えた以外は実施例1と同様にして、実施例3の有機無機複合体を作製した。
得られた有機無機複合体における正方晶ジルコニア粒子の含有率は50質量%であった。
ジルコニア透明分散液(Z1)4.67gに、メタノール3.69gとポリビニルピロリドン(k30、和光純薬工業社製)0.30gを加えた以外は実施例1と同様にして、実施例4の有機無機複合体を作製した。
得られた有機無機複合体における正方晶ジルコニア粒子の含有率は70質量%であった。
ジルコニア透明分散液(Z1)1.00gに、メタノール7.11gとポリ2−エチル2−オキサゾリン(平均分子量50000、Aldrich製)0.85gを加えた以外は実施例1と同様にして、実施例5の有機無機複合体を作製した。
得られた有機無機複合体における正方晶ジルコニア粒子の含有率は15質量%であった。
ジルコニア透明分散液(Z1)4.67gに、メタノール3.69gとポリ2−エチル2−オキサゾリン(平均分子量50000、Aldrich製)0.30gを加えた以外は実施例1と同様にして、実施例6の有機無機複合体を作製した。
得られた有機無機複合体における正方晶ジルコニア粒子の含有率は70質量%であった。
メタノール7.9gに、ポリビニルピロリドン(k30、和光純薬工業社製)1.0gを加えて混合し、ポリビニルピロリドン溶液を調製した。
次いで、50mm×50mm×2mmのソーダライムガラス基板上に、バーコート法により、このポリビニルピロリドン溶液を塗布した後、乾燥機により60℃にて24時間加熱して予備乾燥した後、減圧下、80℃にて24時間乾燥して、比較例1の有機無機複合体を作製した。
なお、この有機無機複合体は、ポリビニルピロリドン溶液の塗布と乾燥を繰り返し、硬化後の膜厚が100μmとなるように調整した。
ジルコニア透明分散液(Z2)として、アモルファスジルコニア粒子の含有率が20質量%のZirconium(IV)oxide、colloidal dispersion(Alfa−Aesar社製)を用いた。
なお、アモルファスジルコニア粒子の平均粒子径は8nmであった。
次いで、このジルコニア透明分散液(Z2)1.50gに、メタノール6.74gとポリビニルピロリドン(k30、和光純薬工業社製)0.70gを加えて混合し、ジルコニア/ポリビニルピロリドン混合溶液を調製した。
以下、実施例1と同様にして、比較例2の有機無機複合体を作製した。
得られた有機無機複合体におけるアモルファスジルコニア粒子の含有率は30質量%であった。
ジルコニア透明分散液(Z2)2.50gに、メタノール5.95gとポリビニルピロリドン(k30、和光純薬工業社製)0.50gを加えた以外は実施例1と同様にして、比較例3の有機無機複合体を作製した。
得られた有機無機複合体におけるアモルファスジルコニア粒子の含有率は50質量%であった。
ジルコニア透明分散液(Z3)として、微結晶ジルコニア粒子の含有率が20質量%のZirconium(IV)oxide、colloidal dispersion(Alfa−Aesar社製)を用いた。
なお、微結晶ジルコニア粒子の平均粒子径は100nmであった。
次いで、このジルコニア透明分散液(Z3)1.50gに、メタノール6.74gとポリビニルピロリドン(k30、和光純薬工業社製)0.70gを加えて混合し、ジルコニア/ポリビニルピロリドン混合溶液を調製した。
以下、実施例1と同様にして、比較例4の有機無機複合体を作製した。
得られた有機無機複合体における微結晶ジルコニア粒子の含有率は30質量%であった。
ジルコニア透明分散液(Z3)2.50gに、メタノール5.95gとポリビニルピロリドン(k30、和光純薬工業社製)0.50gを加えた以外は実施例1と同様にして、比較例5の有機無機複合体を作製した。
得られた有機無機複合体における微結晶ジルコニア粒子の含有率は50質量%であった。
メタノール7.9gに、ポリ2−エチル2−オキサゾリン(平均分子量50000、Aldrich製)1.0gを加えて混合し、ポリオキサゾリン溶液を調製した。
次いで、50mm×50mm×2mmのソーダライムガラス基板上に、バーコート法により、このポリビニルピロリドン溶液を塗布した後、乾燥機により60℃にて24時間加熱して予備乾燥した後、減圧下、80℃にて24時間乾燥して、比較例6の有機無機複合体を作製した。
なお、この有機無機複合体は、ポリオキサゾリン溶液の塗布と乾燥を繰り返し、硬化後の膜厚が100μmとなるように調整した。
実施例1〜6および比較例1〜6で作製した有機無機複合体の各々について、可視光透過率、屈折率およびガラス転移温度の評価を下記の方法により行った。
分光光度計(V−570、日本分光社製)を用いて、波長350nm〜800nmの範囲で、可視光線の透過率を測定した。
ここでは、50mm×50mm×2mmのソーダライムガラス基板に、ポリビニルピロリドン(k30、和光純薬工業社製)を塗布した厚み100μmの有機膜を基準用試料とし、ガラス基板とポリビニルピロリドン膜の透過率を100%としたとき、可視光線の透過率が95%以上を「○」、95%未満を「×」とした。結果を表1に示す。
実施例1〜6および比較例1〜6にて調製した混合溶液を、スピンコート法によりシリコンウェハー上に塗布し、乾燥して有機無機複合体を形成し、得られた有機無機複合体について、分光エリプソメーターを用いて、屈折率を測定した。
結果を表1に示す。
実施例1〜6および比較例1〜6にて調製した混合溶液を、60℃にて24時間加熱して予備乾燥した後、減圧下、80℃にて24時間乾燥して有機無機複合体を形成し、得られた有機無機複合体について、示差走査熱量計(セイコー電子工業社製)を用いて、窒素ガスフロー下、昇温速度5℃/minの条件でガラス転移温度を測定した。
結果を表1に示す。
一方、比較例1〜6の有機無機複合体は、可視光透過率、屈折率、ガラス転移温度のいずれかの特性が実施例1〜6と比べて劣っていた。
11 透明基材
12 有機無機複合体
Claims (4)
- 平均分散粒径が1nm以上かつ20nm以下の正方晶ジルコニア粒子と、主鎖あるいは側鎖に窒素原子を有する親水性樹脂とを含有してなることを特徴とする有機無機複合体。
- 前記親水性樹脂は、ポリビニルピロリドン、ポリオキサゾリンのいずれかからなることを特徴とする請求項1に記載の有機無機複合体。
- 前記正方晶ジルコニア粒子は、前記親水性樹脂中に分散してなることを特徴とする請求項1または2に記載の有機無機複合体。
- 前記正方晶ジルコニア粒子の含有率は1質量%以上かつ90質量%以下であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の有機無機複合体。
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