JP2009230017A - レジスト露光方法 - Google Patents
レジスト露光方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009230017A JP2009230017A JP2008077878A JP2008077878A JP2009230017A JP 2009230017 A JP2009230017 A JP 2009230017A JP 2008077878 A JP2008077878 A JP 2008077878A JP 2008077878 A JP2008077878 A JP 2008077878A JP 2009230017 A JP2009230017 A JP 2009230017A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- resist
- light
- negative resist
- exposure amount
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】第1回目の露光工程においては、フォトマスク38を透過した光を露光用マスク29に垂直に照射して通常の露光を行う。第2回目の露光工程においては、回折格子35を備えた露光用マスク29を用い、回折格子35の1次回折光で斜め方向からネガレジスト32に露光し、現像することによって斜面を形成する。
【選択図】図2
Description
以下、本発明の実施形態1による露光方法を説明する。図3は、本発明にかかるレジスト露光方法(マスクアライナ)に用いるプロキシミティ(近接)露光装置21の概略図である。この露光装置21は、光源22、楕円集光鏡23、第1平面鏡24(コールドミラー)、インテグレータ25、第2平面鏡26(ハーフミラー)、コンデンサレンズ27、モニター受光器28、露光用マスク29によって構成されている。ワークに対して露光を行う場合には、露光用マスク29に対して数十μm〜数百μmの間隙をあけて露光用マスク29の直下にワーク30を配置する。
L=〔(p−1)/p〕・〔λ/(n−1)〕
ここで、L:回折格子深さ
p:レベル数(マルチレベル素子の場合)
λ:入射光の波長
n:回折格子の屈折率
L=λ/(n−1)
Λ(sinα±sinβ)=mλ
ここで、L:回折格子深さ
λ:入射光の波長
n:回折格子の屈折率
Λ:回折格子の周期
α:入射角度
β:出射角度
m:回折次数(m=0、±1、±2、...)
実施形態1の図5〜図7の方法では露光工程を2回必要としたが、フォトマスク34としてHEBSマスクやハーフトーンクロムマスクといったグレイスケールマスクを用いることで一回の露光工程で行うことができる。
図11及び図12は断面逆テーパー状の電鋳物を作製する工程を示す。図11(a)に示すように、第1回目の露光工程において、通常のフォトマスク38を用いて適正露光量中央値100Uの露光光をネガレジスト32に照射した後、第2回目の露光工程を行う。
図13〜図15は断面5角形状の電鋳物を作製する工程を示す。図13(a)に示すように、第1回目の露光工程において、通常のフォトマスク38を用いて適正露光量中央値100Uの露光光をネガレジスト32に照射した後、第2回目の露光工程を行う。
図16は別な実施形態であって、矩形状断面の一つのコーナー部を斜めに面取りした形状の凹部を形成することができる。また、図17は矩形状断面の二つのコーナー部を斜めに面取りした形状の凹部を形成することができる。いずれも製造工程はこれまでの実施形態と同じであるので、詳細は省略する。
図18はワーク30の異なる形態を示す。図18のワーク30では、基材31の上面に反射防止膜51を形成し、その上にネガレジスト32を設けている。あるいは、反射防止膜51を設ける代わりに、基材31の上面を粗化処理して光を拡散反射させるようにしてもよい。
図19は、露光用マスク29の別な実施形態を示す。図4に示した露光用マスク29では、遮光部33を備えたフォトマスク34の下面に、回折格子35を備えた回折光学素子36を貼り合わせてあったが、図19の露光用マスク29では、フォトマスク34の上面に遮光部33を設けるとともに、下面に回折格子35を形成している。かかる実施形態によれば、フォトマスク34と回折格子35を一体化できるので、部品点数を減らしてコストを安価にできる。
22 光源
29 露光用マスク
30 ワーク
31 基材
32 ネガレジスト
33 遮光部
33a 透孔窓
34 フォトマスク
35 回折格子
36 回折光学素子
37 バンドパスフィルタ
38 フォトマスク
39 凹部
40 電鋳物
51 反射防止膜
Claims (9)
- 光学素子により照射光の方向を制御してネガレジストの所定の位置に所定の角度で光を露光することで、前記ネガレジストにより斜面を有するレジスト残膜を形成することを特徴とするレジスト露光方法。
- 前記光学素子としてブレーズ型の回折格子を用いた露光方法であって、
前記回折格子は1次から3次までの回折光が得られるように設計され、各回折光はそれぞれ20°、40°、60°以下の回折角を有することを特徴とする、請求項1に記載のレジスト露光方法。 - 前記ネガレジストの露光部分は、ネガレジストが形成されている基材との界面における露光量が最小露光量以上最大露光量以下であり、前記基材との界面以外の露光領域は最小露光量以上であることを特徴とする、請求項1に記載のレジスト露光方法。
- 前記ネガレジストの露光部分は、ネガレジストが形成されている基材との界面における露光量が最小露光量以上最大露光量以下であり、型として用いる残膜表面は最小露光量以上で、型として用いない残膜表面の少なくとも一部が最小露光量以下であることを特徴とする請求項1に記載のレジスト露光方法。
- 前記ネガレジストに露光させるための光は、レーザ光やLED光などの干渉性の高い光源であることを特徴とする、請求項1に記載のレジスト露光方法。
- 前記光学素子は、被露光物である前記ネガレジストの近傍に配置されていることを特徴とする、請求項1に記載のレジスト露光方法。
- 前記光学素子は、遮光部を有するフォトマスクと一体に形成されていることを特徴とする、請求項1に記載のレジスト露光方法。
- 前記レジスト残膜は、前記ネガレジストが形成されていた基材との界面に反射防止層を有することを特徴とする、請求項1に記載のレジスト露光方法。
- 前記レジスト残膜は、電鋳法により電鋳品を形成するための型であることを特徴とする請求項2から請求項8に記載のレジスト露光方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008077878A JP5194925B2 (ja) | 2008-03-25 | 2008-03-25 | レジスト露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008077878A JP5194925B2 (ja) | 2008-03-25 | 2008-03-25 | レジスト露光方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009230017A true JP2009230017A (ja) | 2009-10-08 |
JP5194925B2 JP5194925B2 (ja) | 2013-05-08 |
Family
ID=41245453
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008077878A Expired - Fee Related JP5194925B2 (ja) | 2008-03-25 | 2008-03-25 | レジスト露光方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5194925B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010131679A1 (ja) | 2009-05-14 | 2010-11-18 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
JP2012113095A (ja) * | 2010-11-24 | 2012-06-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2012123206A (ja) * | 2010-12-08 | 2012-06-28 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2012150322A (ja) * | 2011-01-20 | 2012-08-09 | Toppan Printing Co Ltd | フォトマスクおよびそれを用いた視差クロストークフィルタの製造方法 |
JP2012173693A (ja) * | 2011-02-24 | 2012-09-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2021007174A (ja) * | 2020-10-08 | 2021-01-21 | 日東電工株式会社 | 配線回路基板の製造方法 |
CN113741144A (zh) * | 2021-09-26 | 2021-12-03 | 中国科学院半导体研究所 | 一种三维梯度渐变图形光刻方法及底托 |
WO2022243598A1 (en) * | 2021-05-17 | 2022-11-24 | Dispelix Oy | Method for fabricating a blazed grating |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5877231A (ja) * | 1981-11-04 | 1983-05-10 | Hitachi Ltd | レジストパタ−ンのテ−パ形成方法 |
JPS61201428A (ja) * | 1985-03-04 | 1986-09-06 | Mitsubishi Electric Corp | 逆台形パタ−ン形成方法 |
JPH0381770A (ja) * | 1989-08-25 | 1991-04-08 | Nec Corp | 半導体集積回路の製造用ホトマスク |
JPH06202341A (ja) * | 1993-01-04 | 1994-07-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 微細構造体の形成方法 |
JPH09260258A (ja) * | 1996-03-26 | 1997-10-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | X線リソグラフィ用マスク |
JPH1050576A (ja) * | 1996-07-31 | 1998-02-20 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 微細構造体製造用金型の製造方法および微細構造体の製造方法 |
JP2001210588A (ja) * | 2000-12-14 | 2001-08-03 | Nikon Corp | 露光方法及びその露光方法を用いた回路パターン素子製造方法、並びに露光装置 |
JP2007501951A (ja) * | 2003-08-07 | 2007-02-01 | コミツサリア タ レネルジー アトミーク | フォトリソグラフィによる傾斜側面を有するパターンの形成方法 |
JP2008281996A (ja) * | 2007-04-04 | 2008-11-20 | Korea Advanced Inst Of Sci Technol | 物質のパターン、それを利用した金型、金属薄膜パターン、金属パターン、および、それらの形成方法 |
JP2009151257A (ja) * | 2007-12-24 | 2009-07-09 | Ind Technol Res Inst | 傾斜露光リソグラフシステム |
-
2008
- 2008-03-25 JP JP2008077878A patent/JP5194925B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5877231A (ja) * | 1981-11-04 | 1983-05-10 | Hitachi Ltd | レジストパタ−ンのテ−パ形成方法 |
JPS61201428A (ja) * | 1985-03-04 | 1986-09-06 | Mitsubishi Electric Corp | 逆台形パタ−ン形成方法 |
JPH0381770A (ja) * | 1989-08-25 | 1991-04-08 | Nec Corp | 半導体集積回路の製造用ホトマスク |
JPH06202341A (ja) * | 1993-01-04 | 1994-07-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 微細構造体の形成方法 |
JPH09260258A (ja) * | 1996-03-26 | 1997-10-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | X線リソグラフィ用マスク |
JPH1050576A (ja) * | 1996-07-31 | 1998-02-20 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 微細構造体製造用金型の製造方法および微細構造体の製造方法 |
JP2001210588A (ja) * | 2000-12-14 | 2001-08-03 | Nikon Corp | 露光方法及びその露光方法を用いた回路パターン素子製造方法、並びに露光装置 |
JP2007501951A (ja) * | 2003-08-07 | 2007-02-01 | コミツサリア タ レネルジー アトミーク | フォトリソグラフィによる傾斜側面を有するパターンの形成方法 |
JP2008281996A (ja) * | 2007-04-04 | 2008-11-20 | Korea Advanced Inst Of Sci Technol | 物質のパターン、それを利用した金型、金属薄膜パターン、金属パターン、および、それらの形成方法 |
JP2009151257A (ja) * | 2007-12-24 | 2009-07-09 | Ind Technol Res Inst | 傾斜露光リソグラフシステム |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010131679A1 (ja) | 2009-05-14 | 2010-11-18 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
EP3633723A2 (en) | 2009-05-14 | 2020-04-08 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP2012113095A (ja) * | 2010-11-24 | 2012-06-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2012123206A (ja) * | 2010-12-08 | 2012-06-28 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2012150322A (ja) * | 2011-01-20 | 2012-08-09 | Toppan Printing Co Ltd | フォトマスクおよびそれを用いた視差クロストークフィルタの製造方法 |
JP2012173693A (ja) * | 2011-02-24 | 2012-09-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2021007174A (ja) * | 2020-10-08 | 2021-01-21 | 日東電工株式会社 | 配線回路基板の製造方法 |
WO2022243598A1 (en) * | 2021-05-17 | 2022-11-24 | Dispelix Oy | Method for fabricating a blazed grating |
CN113741144A (zh) * | 2021-09-26 | 2021-12-03 | 中国科学院半导体研究所 | 一种三维梯度渐变图形光刻方法及底托 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5194925B2 (ja) | 2013-05-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5194925B2 (ja) | レジスト露光方法 | |
CN106019850B (zh) | Euv焦点监控系统和方法 | |
TW574597B (en) | Mask for use in lithography, method of making a mask, lithographic apparatus, and device manufacturing method | |
JP3287236B2 (ja) | 回折光学素子の製作方法 | |
JP4791198B2 (ja) | フォトマスク、そのフォトマスクを用いたパターン形成方法及びマスクデータ作成方法 | |
US7691549B1 (en) | Multiple exposure lithography technique and method | |
JP4034745B2 (ja) | ピッチ基準のサブレゾル−ション補助構造体(sraf)設計 | |
US20070184359A1 (en) | Photomask, pattern formation method using photomask and mask data creation method | |
CN1898609A (zh) | 用于图形化不同宽度的线的复合光学光刻方法 | |
TWI414900B (zh) | 曝光方法及儲存電腦程式之記憶媒體 | |
KR100263900B1 (ko) | 마스크 및 그 제조방법 | |
US6569608B2 (en) | Method of manufacturing an element with multiple-level surface | |
JP2006179516A (ja) | 露光装置、露光方法及び半導体装置の製造方法 | |
JP2001272764A (ja) | 投影露光用フォトマスク、およびそれを用いた投影露光方法 | |
JP2005017689A (ja) | マスク、露光量調整方法及び半導体デバイスの製造方法 | |
KR101019115B1 (ko) | 위상 시프트 마스크 | |
JP2877200B2 (ja) | 露光用フォトマスクおよびその製造方法 | |
JP3848301B2 (ja) | レジスト感度の評価方法及びレジストの製造方法 | |
US20140370719A1 (en) | Method of focus measurement, exposure apparatus, and method of manufacturing semiconductor device | |
JP2002075857A (ja) | レジストパタン形成方法 | |
JPH081890B2 (ja) | 半導体素子の露光方法およびダミーマスク | |
US6803154B1 (en) | Two-dimensional phase element and method of manufacturing the same | |
JP6356510B2 (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
JP6370755B2 (ja) | マスク及びパターン形成方法 | |
KR20090109492A (ko) | 다계조 포토마스크, 다계조 포토마스크의 제조 방법, 패턴 전사 방법, 및 박막 트랜지스터의 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110107 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120726 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120731 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120910 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130108 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130121 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160215 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |