JP2009226542A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2638813C (en) 2006-03-03 2015-11-24 Mayekawa Mfg. Co., Ltd. Azospirillum and herbaspirillum bacteria and method for control of plant disease using the same
WO2014130979A1 (en) * 2013-02-25 2014-08-28 Exogenesis Corporation Defect reduction in a substrate treatment method
WO2012099195A1 (ja) * 2011-01-21 2012-07-26 大塚製薬株式会社 耐熱性好酸性菌増殖抑制方法
JP5598371B2 (ja) * 2011-02-21 2014-10-01 旭硝子株式会社 ガラス基板の研磨方法
JP5647056B2 (ja) * 2011-03-31 2014-12-24 Hoya株式会社 ハードディスク用ガラス基板の製造方法
JP5168387B2 (ja) * 2011-06-08 2013-03-21 旭硝子株式会社 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法
JP5906107B2 (ja) * 2012-03-22 2016-04-20 Hoya株式会社 ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、及び、反射型マスクの製造方法
US9690189B2 (en) * 2013-06-21 2017-06-27 Hoya Corporation Mask blank substrate, mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device
JP6350054B2 (ja) * 2014-07-11 2018-07-04 旭硝子株式会社 研磨パッドの洗浄方法
CN108028312B (zh) * 2015-09-15 2021-03-26 日本碍子株式会社 复合基板的制造方法
JP6737124B2 (ja) * 2016-10-20 2020-08-05 Agc株式会社 マスクブランク用基板の製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08107094A (ja) * 1994-10-05 1996-04-23 Toshiba Corp 基板の洗浄方法
JP2006053965A (ja) * 2004-08-10 2006-02-23 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 磁気記録媒体用基板の製造方法並びにそれに用いる両面研磨装置及び基板研磨用キャリア
JP2006348160A (ja) * 2005-06-15 2006-12-28 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 導電性インク
JP4926521B2 (ja) * 2006-03-30 2012-05-09 Hoya株式会社 反射型マスクブランクス及び反射型マスク並びに半導体装置の製造方法
JP2007301721A (ja) * 2007-08-29 2007-11-22 Kao Corp 研磨液組成物

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