JP2009226542A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009226542A5 JP2009226542A5 JP2008074777A JP2008074777A JP2009226542A5 JP 2009226542 A5 JP2009226542 A5 JP 2009226542A5 JP 2008074777 A JP2008074777 A JP 2008074777A JP 2008074777 A JP2008074777 A JP 2008074777A JP 2009226542 A5 JP2009226542 A5 JP 2009226542A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask blank
- manufacturing
- acid
- substrate according
- blank substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 21
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 15
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims 13
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 claims 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims 3
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 claims 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 claims 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 claims 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008074777A JP5317092B2 (ja) | 2008-03-23 | 2008-03-23 | マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法、並びに反射型マスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008074777A JP5317092B2 (ja) | 2008-03-23 | 2008-03-23 | マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法、並びに反射型マスクの製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013140176A Division JP2013214095A (ja) | 2013-07-03 | 2013-07-03 | マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法、並びに反射型マスクの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009226542A JP2009226542A (ja) | 2009-10-08 |
| JP2009226542A5 true JP2009226542A5 (enExample) | 2011-03-31 |
| JP5317092B2 JP5317092B2 (ja) | 2013-10-16 |
Family
ID=41242565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008074777A Active JP5317092B2 (ja) | 2008-03-23 | 2008-03-23 | マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法、並びに反射型マスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5317092B2 (enExample) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2638813C (en) | 2006-03-03 | 2015-11-24 | Mayekawa Mfg. Co., Ltd. | Azospirillum and herbaspirillum bacteria and method for control of plant disease using the same |
| WO2014130979A1 (en) * | 2013-02-25 | 2014-08-28 | Exogenesis Corporation | Defect reduction in a substrate treatment method |
| WO2012099195A1 (ja) * | 2011-01-21 | 2012-07-26 | 大塚製薬株式会社 | 耐熱性好酸性菌増殖抑制方法 |
| JP5598371B2 (ja) * | 2011-02-21 | 2014-10-01 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板の研磨方法 |
| JP5647056B2 (ja) * | 2011-03-31 | 2014-12-24 | Hoya株式会社 | ハードディスク用ガラス基板の製造方法 |
| JP5168387B2 (ja) * | 2011-06-08 | 2013-03-21 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
| JP5906107B2 (ja) * | 2012-03-22 | 2016-04-20 | Hoya株式会社 | ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、及び、反射型マスクの製造方法 |
| US9690189B2 (en) * | 2013-06-21 | 2017-06-27 | Hoya Corporation | Mask blank substrate, mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device |
| JP6350054B2 (ja) * | 2014-07-11 | 2018-07-04 | 旭硝子株式会社 | 研磨パッドの洗浄方法 |
| CN108028312B (zh) * | 2015-09-15 | 2021-03-26 | 日本碍子株式会社 | 复合基板的制造方法 |
| JP6737124B2 (ja) * | 2016-10-20 | 2020-08-05 | Agc株式会社 | マスクブランク用基板の製造方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08107094A (ja) * | 1994-10-05 | 1996-04-23 | Toshiba Corp | 基板の洗浄方法 |
| JP2006053965A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 磁気記録媒体用基板の製造方法並びにそれに用いる両面研磨装置及び基板研磨用キャリア |
| JP2006348160A (ja) * | 2005-06-15 | 2006-12-28 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 導電性インク |
| JP4926521B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2012-05-09 | Hoya株式会社 | 反射型マスクブランクス及び反射型マスク並びに半導体装置の製造方法 |
| JP2007301721A (ja) * | 2007-08-29 | 2007-11-22 | Kao Corp | 研磨液組成物 |
-
2008
- 2008-03-23 JP JP2008074777A patent/JP5317092B2/ja active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2009226542A5 (enExample) | ||
| JP2010123919A5 (ja) | マスクブランク用基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法及び反射型マスクの製造方法 並びにマスクブランク用基板 | |
| TWI540109B (zh) | 具有抗反射層的玻璃構件和製造方法 | |
| JP5849970B2 (ja) | 低反射膜を有する物品 | |
| CN116157369A (zh) | 具防眩表面及薄的耐用抗反射涂层的显示器制品 | |
| KR20100019922A (ko) | 나노 다공성 반사방지막 및 그의 제조방법 | |
| JP2010510671A5 (enExample) | ||
| WO2009038441A3 (en) | Method for etching glass or metal substrates using negative photoresist and method for fabricating cliche using the same | |
| JP2009098305A (ja) | 光学膜の形成方法及びこれを有する光学素子 | |
| CN101523242A (zh) | 防反射膜形成用涂料组合物及形成有防反射膜的物品 | |
| JP2007165934A5 (enExample) | ||
| JP2012256038A5 (enExample) | ||
| CN114409265B (zh) | 微晶玻璃刻蚀液、防眩光微晶玻璃、壳体组件和电子设备 | |
| JP2011107359A5 (ja) | 光学物品および光学物品の製造方法 | |
| JP2011127221A5 (enExample) | ||
| JP2009160681A5 (enExample) | ||
| WO2003003076B1 (fr) | Composition de resine photosensible pour substrat reflechissant de diffusion de lumiere, substrat reflechissant de diffusion de lumiere et procedes de production associes | |
| JP2015049319A (ja) | 透明基材と防汚性反射防止膜とを備える物品およびその製造方法 | |
| CN106292045A (zh) | 镜面显示装置的出光侧基板及其制备方法、镜面显示装置 | |
| CN101788693B (zh) | 一种基于层状组装技术制备抗反射防雾涂层的方法 | |
| JP2009160680A5 (enExample) | ||
| CN112462454A (zh) | 在玻璃基板与微结构层之间具有高键合强度的微光学元件 | |
| JP2015161791A (ja) | 反射防止膜付き基材および物品 | |
| JP2005247904A5 (enExample) | ||
| JP2000302474A5 (enExample) |