JP2009204288A - 冷却装置 - Google Patents

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昌宏 河合
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Abstract

【課題】直膨式冷却プレートを均等に冷却することができ、ワーク好適に冷却し得る冷却装置を提供する。
【解決手段】冷却装置10は、直膨式冷却プレート50によって冷却されるワークWの温度を検出する温度センサ72と、直膨式冷却プレート50内における冷媒の蒸発圧力を調整する調整弁60と、調整弁60の弁開度を調整するコントローラ70と、を備えている。コントローラは、温度センサにより検出したワークの温度が設定温度よりも低いときには調整弁の弁開度を小さくして直膨式冷却プレート内における冷媒の蒸発圧力を上昇させ、ワークの温度が設定温度よりも高いときには調整弁の弁開度を大きくして直膨式冷却プレート内における冷媒の蒸発圧力を低下させる。
【選択図】図1

Description

本発明は、直膨式冷却プレートによってワークを冷却する冷却装置に関する。
液晶パネル、半導体、太陽電池などの生産工程あるいは検査工程においては、ワークを冷却する冷却プレートを備える冷却装置が使用されている。
冷却装置には、冷凍機ユニットの一次冷媒と熱交換して冷却された二次冷媒を冷却プレートに供給する方式の他、特許文献1に記載されているように、二次冷媒を使用せずに冷凍機ユニットの冷媒を冷却プレートに直接供給する方式のものがある。後者の冷却プレートは、直膨式冷却プレートとも称されている。
特開2005−85801号公報
冷凍機ユニットの冷媒を直膨式冷却プレートに直接供給する冷却装置において、直膨式冷却プレートの温度制御として、一般的に、電動弁構造の冷却制御弁の開度を変更して冷媒循環量を調整する手法、あるいは、圧縮機から吐出された冷媒のホットガスを電動弁構造の加熱制御弁の開度を調整することによって直膨式冷却プレートに供給する手法が採用されている。
冷却負荷が低下して、冷媒循環量を減少したり、ホットガスを供給したりして直膨式冷却プレートの表面温度の維持を行なっている場合には、直膨式冷却プレートの入口温度と冷却プレートの出口温度との間には大きな温度差が生じ、直膨式冷却プレートを均等に冷却することができないという問題が生じる。
上述したような冷却制御弁や加熱制御弁を使用せずに、電子式膨張弁を使用して、直膨式冷却プレートの表面温度を制御する方法も考えられる。しかしながら、冷却負荷が低下したときには同様な問題が発生する。すなわち、冷却負荷が低下したときには、電子膨張弁の開度を絞り、過熱度を徐々に増加して、直膨式冷却プレートの温度制御を行っている。仮に、直膨式冷却プレートの温度センサのポイントを−10℃に制御する場合、直膨式冷却プレートの入口付近では、−20℃で冷媒が蒸発を開始し、冷媒ガスが大きく過熱され、直膨式冷却プレートの出口付近では冷媒温度が、−11℃になっている状況も考えられる。このように、直膨式冷却プレートの表面温度のバラツキが大きくなり、直膨式冷却プレートを均等に冷却することができないという問題が生じる。
そこで、本発明の目的は、直膨式冷却プレートによってワークを冷却する冷却装置であって、直膨式冷却プレートを均等に冷却することができ、ワークを好適に冷却し得る冷却装置を提供することにある。
上記目的を達成するための本発明は、ガス冷媒を圧縮する圧縮機と、前記圧縮機によって圧縮した冷媒を凝縮する凝縮器と、前記凝縮器によって凝縮した冷媒を断熱膨張する膨張弁と、前記膨張弁によって断熱膨張した冷媒が供給され蒸発器として機能する直膨式冷却プレートとを配管によって接続した冷凍サイクルを備え、前記膨張弁によって前記冷凍サイクル内を循環する冷媒量を調整することによって、前記直膨式冷却プレートの出口における冷媒を気相に変化させるとともに前記直膨式冷却プレートの出口における冷媒の過熱度を設定された過熱度とし、前記直膨式冷却プレートによってワークを冷却する冷却装置であって、前記ワークの温度を検出する温度センサと、前記直膨式冷却プレートと前記圧縮機との間に配置され、弁開度を調整することによって、前記直膨式冷却プレート内における冷媒の蒸発圧力を調整する調整弁と、前記調整弁の弁開度を調整する制御手段と、を備えている。前記制御手段は、前記温度センサにより検出した前記ワークの温度が設定温度よりも低いときには前記調整弁の弁開度を小さくして前記直膨式冷却プレート内における冷媒の蒸発圧力を上昇させ、前記ワークの温度が設定温度よりも高いときには前記調整弁の弁開度を大きくして前記直膨式冷却プレート内における冷媒の蒸発圧力を低下させている。
本発明の冷却装置によれば、直膨式冷却プレート内における蒸発圧力を調整可能な調整弁を備えているので、ワークにおける熱負荷が変動しても、冷媒の蒸発温度をある一定の範囲内で制御することができる。冷媒の蒸発温度を調整するという最小限の操作によって、直膨式冷却プレートの温度制御を行って当該直膨式冷却プレートを均等に冷却することができ、その結果、ワークを好適に冷却することが可能となる。
以下、本発明の実施形態を図面を参照しつつ説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る冷却装置10を示す構成図である。
図1を参照して、本実施形態に係る冷却装置10は、二次冷媒を使用せずに冷凍機ユニット11(破線によって囲まれる)の冷媒を直膨式冷却プレート50に直接供給し、この直膨式冷却プレート50によってワークWを冷却する冷却装置10である。
冷却装置10は、概説すれば、ガス冷媒を圧縮する圧縮機20と、圧縮機20によって圧縮した冷媒を凝縮する凝縮器30と、凝縮器30によって凝縮した冷媒を断熱膨張する膨張弁40と、膨張弁40によって断熱膨張した冷媒が供給され蒸発器として機能する直膨式冷却プレート50とを配管によって接続した冷凍サイクルを備えている。膨張弁40によって冷凍サイクル内を循環する冷媒量を調整することによって、直膨式冷却プレート50の出口における冷媒を気相に変化させるとともに直膨式冷却プレート50の出口における冷媒の過熱度(蒸発温度から何度上昇したか)を設定された過熱度としている。冷却装置10は、ワークWの温度を検出する温度センサ72と、直膨式冷却プレート50と圧縮機20との間に配置され、弁開度を調整することによって、直膨式冷却プレート50内における冷媒の蒸発圧力を調整する調整弁60と、調整弁60の弁開度を調整するコントローラ70(制御手段に相当する)と、を備えている。以下、詳述する。
冷媒は、特に限定されないが、例えば、HFE系の混合冷媒R−404Aを使用することができる。
直膨式冷却プレート50は、直膨式プレート熱交換器から構成されている。図示例では、ワークWは、直膨式冷却プレート50の上に載置されている。圧縮機20において液圧縮とならないように、膨張弁40の機能により、直膨式冷却プレート50の出口において、冷媒は、蒸発して気相に変化している。冷媒の過熱度は、適宜設定できるが、例えば、2℃である。直膨式プレート熱交換器50は、入口冷媒温度と出口冷媒温度との間には過熱度の分だけ温度差があるが、ワークWを載置する面が均等な温度となるように、冷媒流路が設定されている。
膨張弁40は、周知のように、過熱度を一定に保持する自動制御バルブである。膨張弁40の感温筒41は、直膨式冷却プレート50の出口近傍に設けられ、直膨式冷却プレート50を出た冷媒温度を検知する。膨張弁40は、直膨式冷却プレート50を出た冷媒温度に基づいて過熱度が制御される。膨張弁40は、直膨式冷却プレート50を出た冷媒温度と、膨張弁40の出口近傍の温度(飽和温度)の差異が予め設定された温度となるように、弁の開度が自動調節される。つまり、上記の温度の差異が予め設定された過熱度を越えるときには、弁の開度を大きくして冷媒循環量を増やし、過熱度未満であるときには、弁の開度を小さくして冷媒循環量を減らす。なお、膨張弁40は、電子膨張弁に置き換えることも可能である。
調整弁60は、電動弁構造を有している。調整弁60の弁開度を調整することによって、直膨式冷却プレート50内における冷媒の蒸発圧力を調整し、直膨式冷却プレート50内における冷媒の飽和温度を変えることができる。これにより、直膨式冷却プレート50の温度を変えることができる。つまり、調整弁60の弁開度を絞ると、直膨式冷却プレート50の出口側の圧力が高くなり、直膨式冷却プレート50内における冷媒の蒸発圧力が上昇して飽和温度が上昇し、直膨式冷却プレート50の表面温度が高くなる。これとは逆に、調整弁60の弁開度を開くと、直膨式冷却プレート50の出口側の圧力が低くなり、直膨式冷却プレート50内における冷媒の蒸発圧力が低下して飽和温度が低下し、直膨式冷却プレート50の表面温度が低くなる。
圧縮機20は、直膨式冷却プレート50での冷却負荷が減少したときに冷媒循環量を減少させる容量調整機構21を有している。この容量調整機構21は、圧縮機20の回転数を減少させる機構から構成されている。
本実施形態では、直膨式冷却プレート50の表面温度を測定することによって、ワークWの温度を間接的に検出している。温度センサ72は、測温抵抗体や熱電対などから構成されている。
冷却装置10は、直膨式冷却プレート50内における冷媒圧力を検出する圧力センサ71を備えている。圧力センサ71は、直膨式冷却プレート50の出口側の配管に設けられ、直膨式冷却プレート50内における冷媒圧力を検出する。圧力センサ71は、冷媒圧力をダイヤフラムを介して感圧素子で計測し、電気信号に変換し出力する。
コントローラ70は、調整弁60の弁開度を制御する。コントローラ70は、CPUやメモリを主体に構成され、温度センサ72において検出したワークWの温度に関する信号、および圧力センサ71において検出した直膨式冷却プレート50内における冷媒圧力に関する信号が入力される。コントローラ70からは、弁開度を調整するための制御信号が調整弁60に出力される。コントローラ70には、ワークWの設定温度などを入力する例えばテンキーなどの図示しない入力装置が接続されている。コントローラ70はまた、圧縮機20の容量調整機構21にも接続され、容量制御のための制御信号が容量調整機構21に出力される。メモリには、冷却装置10の動作を制御するのに必要な各種パラメータやプログラムなどが記憶される。
冷却装置10の動特性をワークWの熱負荷を考慮して正確にシミュレーションすることは事実上不可能である。このため、最終的な各種パラメータの値については、冷却装置10の試運転を行いながら、トライアンドエラーにより決定される。決定されたパラメータ値はメモリに記憶される。
コントローラ70は、温度センサ72により検出したワークWの温度が設定温度よりも低いときには調整弁60の弁開度を小さくして直膨式冷却プレート50内における冷媒の蒸発圧力を上昇させ、ワークWの温度が設定温度よりも高いときには調整弁60の弁開度を大きくして直膨式冷却プレート50内における冷媒の蒸発圧力を低下させている。
コントローラ70はまた、ワークWの温度を設定温度にするために必要な直膨式冷却プレート50内における冷媒の蒸発温度に対応する冷媒の蒸発圧力を算出し、圧力センサ71により検出した直膨式冷却プレート50内における冷媒圧力が算出した蒸発圧力よりも低いときには調整弁60の弁開度を小さくして直膨式冷却プレート50内における冷媒圧力を上昇させ、直膨式冷却プレート50内における冷媒圧力が算出した蒸発圧力よりも高いときには調整弁60の弁開度を大きくして直膨式冷却プレート50内における冷媒圧力を低下させている。
本実施形態の作用を説明する。
冷媒としてHFE系の混合冷媒R−404Aを使用し、直膨式冷却プレート50にワークWを装着し、ワークWに一定の発熱が発生している状態で、直膨式冷却プレート50の表面温度を−10℃に制御する場合の各構成機器の制御動作を説明する。以下の説明では、直膨式冷却プレート50の表面温度を、単に、「プレート表面温度」という。プレート表面温度は、温度センサ72を挿入した部位の温度である。
(1)冷媒蒸発温度初期値の算出
コントローラ70は、プレート表面温度を−10℃に制御するために必要な冷媒蒸発温度の初期値を決定する。冷媒蒸発温度の初期値としては、プレート表面温度よりも数度低い温度を設定する。例えば、プレート表面温度の設定値(−10℃)から2℃低い値の−12℃を、冷媒蒸発温度の初期設定値とする。コントローラ70は、冷却装置10の運転を開始する。
(2)調整弁60の開度調整
コントローラ70は、メモリに予め記憶されている蒸気圧表のデータを参照して、冷媒蒸発温度の初期設定値(−12℃)における飽和圧力値(蒸発圧力値)を算出する。−12℃の冷媒蒸発温度における飽和圧力値は0.3MPa(ゲージ圧)である。コントローラ70は、調整弁60に対して、蒸発圧力を0.3MPa(ゲージ圧)にするのに必要な弁開度に関する制御信号を出力する。コントローラ70は、圧力センサ71にて検出した冷媒圧力の値が0.3MPa(ゲージ圧)になるように、調整弁60の弁開度の調整を継続する。
(3)膨張弁40の動作
膨張弁40は、過熱度を一定に保持する自動制御バルブであり、過熱度は、2℃に調整してある。膨張弁40は、感温筒41の温度が−10℃(−12℃+2℃)になるように、弁の開度を自動調節する。
(4)容量調整
調整弁60の弁開度が小さいとき、つまり冷却負荷が減少している状態では、容量調整機構21により圧縮機20の回転数を減少させ、適切な冷媒の循環量が確保できるよう圧縮機20の容量制御を行なう。冷媒の循環量を適切に調整することにより、冷却装置10の省エネルギー運転が可能となる。
(5)プレート表面温度の検出、および制御オフセットの調整
温度センサ72により、プレート表面温度を検出する。検出した値が−10.5℃であるとすると、−0.5℃のオフセットが発生している。
コントローラ70は、プレート表面温度の設定値(−10℃)よりも0.5℃低いため、蒸発温度を−12℃から−11.5℃に変更する制御信号を調整弁60に出力する。コントローラ70は、調整弁60に対して、−11.5℃の冷媒蒸発温度における飽和圧力値にするのに必要な弁開度に関する制御信号を出力する。コントローラ70は、圧力センサ71にて検出した冷媒圧力の値が変更した飽和圧力値になるように、調整弁60の弁開度の調整を継続する。
コントローラ70は、運転終了まで、(2)〜(5)の各動作を連続して繰り返し、直膨式冷却プレート50の温度制御を行う。かかる制御により、直膨式冷却プレート50を均等に冷却することができ、その結果、ワークWを好適に冷却することが可能となる。
以上説明したように、本実施形態の冷却装置10は、直膨式冷却プレート50内における蒸発圧力を調整可能な調整弁60を備えているので、ワークWにおける熱負荷が変動しても、冷媒の蒸発温度をある一定の範囲内で制御することができる。冷媒の蒸発温度を調整するという最小限の操作によって、直膨式冷却プレート50の温度制御を行って当該直膨式冷却プレート50を均等に冷却することができ、その結果、ワークWを好適に冷却することが可能となる。
また、圧縮機20は、直膨式冷却プレート50での冷却負荷が減少したときに冷媒循環量を減少させる容量調整機構21を有しているので、冷却負荷に応じて冷媒の循環量が適切に調整され、冷却装置10の省エネルギー運転が可能となる。
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、適宜改変することができる。例えば、圧縮機20の容量調整機構21として、圧縮機20の回転数を減少させる機構を例示したが、この他にも、容量調整機構21として、圧縮機20から吐出される冷媒ガスを圧縮機20内で吸入側にバイパスするアンローダ機構を使用してもよい。調整弁60の弁開度が小さいとき、つまり冷却負荷が減少している状態では、圧縮機20から吐出される高温、高圧の冷媒ガスを圧縮機20内で吸入側にバイパスさせることにより、適切な冷媒の循環量を確保できる。
本発明の実施形態に係る冷却装置を示す構成図である。
符号の説明
10 冷却装置、
20 圧縮機、
21 容量調整機構、
30 凝縮器、
40 膨張弁、
50 直膨式冷却プレート、直膨式プレート熱交換器、
60 調整弁、
70 コントローラ(制御手段)、
71 圧力センサ、
72 温度センサ、
W ワーク。

Claims (6)

  1. ガス冷媒を圧縮する圧縮機(20)と、前記圧縮機(20)によって圧縮した冷媒を凝縮する凝縮器(30)と、前記凝縮器(30)によって凝縮した冷媒を断熱膨張する膨張弁(40)と、前記膨張弁(40)によって断熱膨張した冷媒が供給され蒸発器として機能する直膨式冷却プレート(50)とを配管によって接続した冷凍サイクルを備え、前記膨張弁(40)によって前記冷凍サイクル内を循環する冷媒量を調整することによって、前記直膨式冷却プレート(50)の出口における冷媒を気相に変化させるとともに前記直膨式冷却プレート(50)の出口における冷媒の過熱度を設定された過熱度とし、前記直膨式冷却プレート(50)によってワーク(W)を冷却する冷却装置であって、
    前記ワーク(W)の温度を検出する温度センサ(72)と、
    前記直膨式冷却プレート(50)と前記圧縮機(20)との間に配置され、弁開度を調整することによって、前記直膨式冷却プレート(50)内における冷媒の蒸発圧力を調整する調整弁(60)と、
    前記調整弁(60)の弁開度を調整する制御手段(70)と、を備え、
    前記制御手段(70)は、前記温度センサ(72)により検出した前記ワーク(W)の温度が設定温度よりも低いときには前記調整弁(60)の弁開度を小さくして前記直膨式冷却プレート(50)内における冷媒の蒸発圧力を上昇させ、前記ワーク(W)の温度が設定温度よりも高いときには前記調整弁(60)の弁開度を大きくして前記直膨式冷却プレート(50)内における冷媒の蒸発圧力を低下させる冷却装置。
  2. 前記直膨式冷却プレート(50)内における冷媒圧力を検出する圧力センサ(71)を備え、
    前記制御手段(70)は、前記ワーク(W)の温度を設定温度にするために必要な前記直膨式冷却プレート(50)内における冷媒の蒸発温度に対応する冷媒の蒸発圧力を算出し、前記圧力センサ(71)により検出した前記直膨式冷却プレート(50)内における冷媒圧力が算出した蒸発圧力よりも低いときには前記調整弁(60)の弁開度を小さくして前記直膨式冷却プレート(50)内における冷媒圧力を上昇させ、前記直膨式冷却プレート(50)内における冷媒圧力が算出した蒸発圧力よりも高いときには前記調整弁(60)の弁開度を大きくして前記直膨式冷却プレート(50)内における冷媒圧力を低下させる請求項1に記載の冷却装置。
  3. 前記圧縮機(20)は、前記直膨式冷却プレート(50)での冷却負荷が減少したときに冷媒循環量を減少させる容量調整機構(21)を有している請求項1または2に記載の冷却装置。
  4. 前記容量調整機構(21)は、前記圧縮機(20)の回転数を減少させる機構である請求項3に記載の冷却装置。
  5. 前記容量調整機構(21)は、前記圧縮機(20)から吐出される冷媒ガスを前記圧縮機(20)内で吸入側にバイパスするアンローダ機構である請求項3に記載の冷却装置。
  6. 前記直膨式冷却プレート(50)が、直膨式プレート熱交換器である請求項1に記載の冷却装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101373766B1 (ko) * 2013-02-21 2014-03-14 (주)시나텍 냉각제를 사용하지 않는 반도체 칠러장치
JP2015203535A (ja) * 2014-04-15 2015-11-16 富士電機株式会社 冷却装置

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59168687A (ja) * 1983-03-15 1984-09-22 Nec Corp 半導体レ−ザ及びその製造方法
JPH02133760A (ja) * 1988-07-11 1990-05-22 Daikin Ind Ltd 空気調和装置の運転制御装置
JPH0331660A (ja) * 1989-06-28 1991-02-12 Matsushita Refrig Co Ltd 多室型空気調和機
JPH05133621A (ja) * 1991-11-11 1993-05-28 Mitsubishi Electric Corp 冷却装置
JPH0777362A (ja) * 1993-09-08 1995-03-20 Nissin Kogyo Kk 冷凍装置の温度制御方法およびその装置
JPH09172001A (ja) * 1995-12-15 1997-06-30 Sony Corp 半導体製造装置の温度制御方法および装置
JP2005085803A (ja) * 2003-09-04 2005-03-31 Shinwa Controls Co Ltd サセプタ
JP2008034408A (ja) * 2006-07-26 2008-02-14 Hitachi High-Technologies Corp プラズマ処理装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59168687A (ja) * 1983-03-15 1984-09-22 Nec Corp 半導体レ−ザ及びその製造方法
JPH02133760A (ja) * 1988-07-11 1990-05-22 Daikin Ind Ltd 空気調和装置の運転制御装置
JPH0331660A (ja) * 1989-06-28 1991-02-12 Matsushita Refrig Co Ltd 多室型空気調和機
JPH05133621A (ja) * 1991-11-11 1993-05-28 Mitsubishi Electric Corp 冷却装置
JPH0777362A (ja) * 1993-09-08 1995-03-20 Nissin Kogyo Kk 冷凍装置の温度制御方法およびその装置
JPH09172001A (ja) * 1995-12-15 1997-06-30 Sony Corp 半導体製造装置の温度制御方法および装置
JP2005085803A (ja) * 2003-09-04 2005-03-31 Shinwa Controls Co Ltd サセプタ
JP2008034408A (ja) * 2006-07-26 2008-02-14 Hitachi High-Technologies Corp プラズマ処理装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101373766B1 (ko) * 2013-02-21 2014-03-14 (주)시나텍 냉각제를 사용하지 않는 반도체 칠러장치
JP2015203535A (ja) * 2014-04-15 2015-11-16 富士電機株式会社 冷却装置

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