JP2009196824A - 塩化水素の精製方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】活性炭粒子による塩酸酸化反応への悪影響を抑制できるとともに、供給塩化水素ガスの線速度を大きくすることができ、もって高効率に有機不純物の除去を行なうことができ、活性炭充填塔の占有面積を低減できる塩化水素の精製方法を提供する。
【解決手段】有機物を含有する塩化水素から、造粒活性炭を用いて該有機物を除去する工程を備える塩化水素の精製方法である。造粒活性炭としては、直径が3〜10mmおよび長さが3〜20mmの円柱状の造粒活性炭が好適に用いられる。
【選択図】なし

Description

本発明は、塩化水素の精製方法に関し、より詳しくは、有機物を含有する塩化水素から該有機物を除去することにより塩化水素を精製する方法に関する。
触媒の存在下、塩化水素を酸素により酸化して塩素を得る塩酸酸化プロセスでは、原料の塩化水素ガスとして、各種有機化合物の合成プロセスから副生する塩化水素を利用することができる。かかる副生塩化水素ガスは、有機化合物合成プロセスに応じて、微量ではあるが、種々の有機不純物を含有し、これら有機不純物は、塩酸酸化プロセスに用いられる触媒の活性を阻害したり、あるいは該触媒により酸化されて、多塩素化化合物などの他の不純物を生成させるおそれがあるため、できる限り除去されることが好ましい。
従来、有機不純物を含有する塩化水素から、有機不純物を除去する方法としては、蒸留による分離精製方法、塩化水素ガスを有機溶媒に接触させて、有機不純物を有機溶媒に吸収させる方法(たとえば特許文献1)、有機不純物を粒状活性炭を用いて除去する方法(たとえば特許文献2)などが知られている。
しかし、蒸留による分離精製方法は、高圧および低温条件下で操作を行なう必要があるため、設備コストが高くなるという問題がある。また、有機不純物を有機溶媒に吸収させる方法は、高純度の塩化水素を得ることが困難であるという問題がある。
また、特許文献2に記載される粒状活性炭を用いる方法では、比較的高純度の塩化水素を得ることができるものの、活性炭粒子の飛散により、塩酸酸化反応が悪影響を受ける可能性があり、また、圧力損失が大きいために、該活性炭を充填塔に充填して用いる場合、該充填塔を高くする(細長にする)ことができず、充填塔の占有面積が大きくなる、供給する塩化水素ガスの線速度を大きくすることができず、十分な処理能力が得られないなどの問題を有していた。
特開平2−137704号公報 特開2003−112907号公報
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、活性炭粒子による塩酸酸化反応への悪影響を抑制できるとともに、供給塩化水素ガスの線速度を大きくすることができ、もって高効率に有機不純物の除去を行なうことができ、活性炭充填塔の占有面積を低減できる塩化水素の精製方法を提供することである。
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究した結果、活性炭として造粒活性炭を用いると上記課題を解決でき、しかも、造粒活性炭を長期間使用した場合であっても、造粒形状が崩壊することなく、その形状を維持し、長期間にわたって、高品質の精製塩化水素が得られることを見出した。
すなわち本発明は、有機物を含有する塩化水素から、造粒活性炭を用いて該有機物を除去する工程を備える塩化水素の精製方法を提供する。1つの好ましい実施形態において、塩化水素は、造粒活性炭が充填された充填塔に供給することにより、有機物が除去され精製される。
上記造粒活性炭としては、直径が3〜10mmおよび長さが3〜20mmの円柱状の造粒活性炭を用いることが好ましい。また、造粒活性炭中の硫黄成分濃度は、500質量ppm以下であることが好ましく、また、充填密度が0.3〜0.6g/mlであり、かつ、硬度が95%以上であることがより好ましい。
さらに、上記造粒活性炭は、下記(a)〜(e)の条件のうち、少なくともいずれか1つを満たすことが好ましい。
(a)乾燥重量減が5質量%以下である。
(b)強熱残分が5質量%以下である。
(c)pHが5.0〜8.5である。
(d)ヨウ素吸着能が1000mg/g以上である。
(e)アセトン吸着能が20mg/g以上である。
本発明の塩化水素の精製方法は、触媒の存在下、塩化水素を酸化することにより塩素を製造するプロセスにおいて、原料となる塩化水素を精製する方法として好適に用いることができる。
本発明の塩化水素の精製方法によれば、活性炭充填塔での圧力損失(充填塔のガス供給入口と排出出口との間の差圧)を小さくすることができる。これにより、活性炭充填塔に供給する塩化水素ガスの線速度を大きくすることができるため、塩化水素ガス精製の効率化を図ることができる。また、圧力損失を小さくできることにより、活性炭充填塔を高く(細長く)することができるため、製造プラントにおける活性炭充填塔の占有面積を低減することができる。さらに、活性炭微粉末による塩酸酸化反応への悪影響を抑制し得る。
本発明の塩化水素の精製方法は、有機物を含有する塩化水素から、造粒活性炭を用いて有機物を除去する工程を備えるものである。塩化水素は、たとえば、触媒の存在下、接触気相反応により塩化水素ガスを酸素で酸化して塩素を得る塩酸酸化プロセスの原料と用いることができ、原料塩化水素としては、種々の有機合成プロセスで副生する塩化水素を利用することが可能である。このような副生塩化水素には、有機合成プロセスに応じて様々な有機不純物が含有され得る。本発明は、かかる有機不純物を含有する塩化水素から該有機不純物を除去するために好適に適用することができる。上記有機合成プロセスとしては、特に限定されないが、たとえば、アミンとホスゲンとを用いたイソシアネート類の合成プロセス、塩化ビニルモノマーの合成プロセスなどを挙げることができる。
本発明によれば、上記のような有機物を含有する塩化水素ガスから、簡便な設備および運転方法で、効率的に該有機物を除去し、高純度の塩化水素ガスを得ることができる。本発明において除去し得る有機物としては、特に限定されないが、たとえば、メタン、エタン、プロピルアルコール等の脂肪族化合物;ベンゼン、トルエン等の芳香族化合物;エチレン、アセチレン、アリルアルコール等の不飽和脂肪族化合物;クロロメタン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、2−クロロプロパン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、塩化ビニルモノマー、アリルクロライド等の塩素化化合物などが挙げられる。
本発明においては、有機物が除去された後の塩化水素中の有機物濃度を10体積ppm未満とすることが、該精製塩化水素を工業的に使用する観点から好ましい。
本発明においては、造粒活性炭を活性炭充填塔に充填し、該充填塔に有機物を含有する塩化水素を供給することにより、該有機物を除去することが好ましい。かかる充填塔を用いた方法により、簡易な設備および運転方法で効率的に有機物を除去することが可能となる。通常、活性炭充填塔は、塔底部に設けられた有機物を含有する塩化水素ガスを導入するための供給口と、塔頂部に設けられた精製塩化水素ガスを取り出すための排出出口とを備える。本発明の造粒活性炭を用いた精製方法によれば、活性炭充填塔での圧力損失(充填塔のガス供給入口と排出出口との間の差圧)を小さくすることができ、これにより、活性炭充填塔に供給する塩化水素ガスの線速度を大きくすることが可能である。したがって、塩化水素ガス精製の効率化を図ることができ、また、圧力損失を小さくできることにより、活性炭充填塔を高く(細長く)することができるため、製造プラントにおける活性炭充填塔の占有面積を低減することができる。
本発明において、活性炭充填塔に供給する塩化水素ガスの線速度は、特に制限されるものではないが、通常、0.05〜1m/s程度であり、好ましくは0.1〜0.5m/sであり、さらに好ましくは0.1〜0.3m/sである。
本発明において用いられる造粒活性炭は、成型炭とも呼ばれるものであり、従来公知のいかなる形状のものを用いてもよく、たとえば円柱状、球状の造粒活性炭を用いることができる、なかでも、圧力損失低減等の観点からは、円柱状の造粒活性炭を用いることが好ましい。円柱状造粒活性炭の大きさは、圧力損失低減等の観点から、直径3〜10mm程度、長さ3〜20mm程度であることが好ましい。また、造粒活性炭中の硫黄成分濃度は、500質量ppm以下であることが好ましい。硫黄成分濃度を500質量ppm以下にすることにより、精製塩化水素中の硫黄分を少なくすることができ、たとえば該精製塩化水素を塩酸酸化プロセスに使用した場合においても、長期にわたって酸化触媒の活性を維持することができる。
JIS K1474に準拠して測定される造粒活性炭の充填密度は、0.3〜0.6g/mlであることが好ましく、0.4〜0.5g/mlであることがより好ましい。充填密度が0.3g/ml未満であると、有機物を十分に除去するために、より多量の活性炭を要し、活性炭充填塔のサイズが大きくなるという問題が生じ得る。また、充填密度が0.6g/mlを超えると、活性炭充填塔に充填したときに圧力損失が大きくなる傾向にある。
JIS K1474に準拠して測定される造粒活性炭の硬度は、95%以上であることが好ましい。硬度が95%以上の造粒活性炭を用いることにより、長期間塩化水素ガスに曝されても、造粒形状がより崩壊しにくくなるため、長期にわたって安定した品質の精製塩化水素を得ることができる。
また、造粒活性炭は、下記(a)〜(e)の条件のうち、少なくともいずれか1つを満たすことが好ましく、これらすべての条件を満たすことがより好ましい。なお、下記物性は、いずれもJIS K1474に準拠して測定される。
(a)乾燥重量減が5質量%以下である。
(b)強熱残分が5質量%以下である。
(c)pHが5.0〜8.5である。
(d)ヨウ素吸着能が1000mg/g以上である。
(e)アセトン吸着能が20mg/g以上である。
上記(c)〜(e)の条件(pH、ヨウ素吸着能、アセトン吸着能に関する条件)のうち、いずれか1つ以上、好ましくはすべてを具備する造粒活性炭を用いることにより、活性炭に十分な有機物吸着能を付与することができる。また、乾燥重量減および/または強熱残分を5質量%以下とすることによっても有機物吸着能を向上させ得る。
造粒活性炭としては、市販品を好適に用いることができる。かかる市販品としては、特に限定されないが、たとえば、日本エンバイロケミカルズ(株)製の「WH2X」、「G2X」、「GH2X」、「S2X」などを挙げることができる。これらはいずれも円柱状の造粒活性炭である。他の形状の造粒活性炭の市販品としては、球状である、日本エンバイロケミカルズ(株)製「DX7−3」などが挙げられる。
有機物を含有する塩化水素を活性炭充填塔に供給して、該塩化水素を造粒活性炭に接触させる際の活性炭充填塔内の温度は、通常、0〜150℃、好ましくは0〜80℃、さらに好ましくは0〜50℃である。温度が低すぎると、低温操作のため、冷凍機で冷凍する必要が生じ、経済的に不利になることがある。また、温度が高すぎる場合には、造粒活性炭への有機物の吸着量が低下し、また、加熱エネルギー面からも経済的に不利となることがある。
本発明の塩化水素の精製方法は、上記したように、塩酸酸化プロセスに好適に適用することができる。この場合、塩酸酸化プロセスにおける塩化水素と酸素との酸化反応の前に、原料となる塩化水素を精製する工程を設ける。本発明に従う塩化水素の精製工程と、酸化反応工程との間には、別の工程(たとえば、塩化水素をさらに精製する工程)が設けられてもよい。
以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
<実施例1>
図1に示されるような、活性炭充填塔を備える差圧測定装置を作製し、活性炭充填塔に窒素/塩化水素混合ガスを供給したときの活性炭充填塔底部−頂部間の差圧ΔPを測定した。図1に示される差圧測定装置は、高さ2mの活性炭充填塔101(透明ポリ塩化ビニル樹脂製の円筒管、直径約40mm)と、活性炭充填塔101の底部に接続された窒素/塩化水素混合ガスを供給するための配管系とから構成されている。配管系は、配管110、バルブ107、108および配管105(10/8mm テフロン(登録商標)チューブ)からなる。活性炭充填塔101の底部側開口は、シリコン栓104で栓がされており、その上に直径10mmおよび6mmのラシヒリングを充填してラシヒリング層103を設けた後、高さが1mとなるように活性炭を充填し、活性炭層102を形成した。活性炭には、日本エンバイロケミカルズ(株)製の円柱状造粒活性炭「WH2X 4/6」を用いた。この造粒活性炭のJIS K1474に準拠して測定された各種物性は、表1のとおりである。また、この造粒活性炭の硫黄成分濃度は350質量ppmであった。
Figure 2009196824
上記差圧測定装置を用い、バルブ108を閉、バルブ107を開として、配管110の端部から窒素/塩化水素の混合ガスを、線速度LVを変化させて供給したときの、活性炭充填塔101底部側のA点と、上部開口であるB点(大気圧)との間の差圧ΔPを測定した。A点における圧力は、デジタルマノメータ106を用いて測定した。また、混合ガスの線速度の測定には、流量計109を用いた。結果を図2に示す。
<比較例1>
日本エンバイロケミカルズ(株)製の粒状活性炭(破砕炭)「WH2C 8/32」(充填密度0.54g/ml)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして差圧ΔPを測定した。結果を図2に示す。粒状活性炭を用いた場合、差圧ΔPが大きくなり、線速度が0.15m/sを越える条件下で混合ガスを活性炭充填塔に導入すると、活性炭層が浮き上がった。
今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
実施例1および比較例1で用いた差圧測定装置の概略図である。 実施例1および比較例1における差圧測定の結果を示すグラフである。
符号の説明
101 活性炭充填塔、102 活性炭層、103 ラシヒリング層、104 シリコン栓、105,110 配管 、106 デジタルマノメータ、107,108 バルブ、109 流量計。

Claims (7)

  1. 有機物を含有する塩化水素から、造粒活性炭を用いて前記有機物を除去する工程を備える塩化水素の精製方法。
  2. 造粒活性炭が充填された充填塔に、有機物を含有する塩化水素を供給することにより、前記有機物を除去する請求項1に記載の塩化水素の精製方法。
  3. 前記造粒活性炭は、直径が3〜10mmおよび長さが3〜20mmの円柱状の形状を有する請求項1または2に記載の塩化水素の精製方法。
  4. 前記造粒活性炭中の硫黄成分濃度は、500質量ppm以下である請求項1〜3のいずれかに記載の塩化水素の精製方法。
  5. 前記造粒活性炭の充填密度は、0.3〜0.6g/mlであり、かつ、硬度は、95%以上である請求項1〜4のいずれかに記載の塩化水素の精製方法。
  6. 前記造粒活性炭は、下記(a)〜(e)の条件のうち、少なくともいずれか1つを満たす請求項1〜5のいずれかに記載の塩化水素の精製方法。
    (a)乾燥重量減が5質量%以下である。
    (b)強熱残分が5質量%以下である。
    (c)pHが5.0〜8.5である。
    (d)ヨウ素吸着能が1000mg/g以上である。
    (e)アセトン吸着能が20mg/g以上である。
  7. 触媒の存在下、塩化水素を酸化することにより塩素を製造するプロセスにおいて、原料となる塩化水素を精製する方法として用いられる請求項1〜6のいずれかに記載の塩化水素の精製方法。
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4859093A (ja) * 1971-11-30 1973-08-18
JPH03265503A (ja) * 1989-07-18 1991-11-26 Mitsui Toatsu Chem Inc 塩化水素の精製方法及び活性炭の再生方法
JPH04154611A (ja) * 1990-10-18 1992-05-27 Mitsubishi Kasei Corp 高強度成型活性炭
JP2001026403A (ja) * 1999-07-15 2001-01-30 Mitsubishi Chemicals Corp アリールアルコール及びその誘導体を含有する塩化水素の精製方法
JP2003112907A (ja) * 2001-10-03 2003-04-18 Sumitomo Chem Co Ltd 塩化水素の精製方法
JP2004315241A (ja) * 2003-04-10 2004-11-11 Tokyo Gas Co Ltd 活性炭およびその製造方法
JP2006117529A (ja) * 2005-12-08 2006-05-11 Sumitomo Chemical Co Ltd 塩化水素の精製方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4859093A (ja) * 1971-11-30 1973-08-18
JPH03265503A (ja) * 1989-07-18 1991-11-26 Mitsui Toatsu Chem Inc 塩化水素の精製方法及び活性炭の再生方法
JPH04154611A (ja) * 1990-10-18 1992-05-27 Mitsubishi Kasei Corp 高強度成型活性炭
JP2001026403A (ja) * 1999-07-15 2001-01-30 Mitsubishi Chemicals Corp アリールアルコール及びその誘導体を含有する塩化水素の精製方法
JP2003112907A (ja) * 2001-10-03 2003-04-18 Sumitomo Chem Co Ltd 塩化水素の精製方法
JP2004315241A (ja) * 2003-04-10 2004-11-11 Tokyo Gas Co Ltd 活性炭およびその製造方法
JP2006117529A (ja) * 2005-12-08 2006-05-11 Sumitomo Chemical Co Ltd 塩化水素の精製方法

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