JP2009196824A - 塩化水素の精製方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】有機物を含有する塩化水素から、造粒活性炭を用いて該有機物を除去する工程を備える塩化水素の精製方法である。造粒活性炭としては、直径が3〜10mmおよび長さが3〜20mmの円柱状の造粒活性炭が好適に用いられる。
【選択図】なし
Description
(a)乾燥重量減が5質量%以下である。
(b)強熱残分が5質量%以下である。
(c)pHが5.0〜8.5である。
(d)ヨウ素吸着能が1000mg/g以上である。
(e)アセトン吸着能が20mg/g以上である。
(a)乾燥重量減が5質量%以下である。
(b)強熱残分が5質量%以下である。
(c)pHが5.0〜8.5である。
(d)ヨウ素吸着能が1000mg/g以上である。
(e)アセトン吸着能が20mg/g以上である。
図1に示されるような、活性炭充填塔を備える差圧測定装置を作製し、活性炭充填塔に窒素/塩化水素混合ガスを供給したときの活性炭充填塔底部−頂部間の差圧ΔPを測定した。図1に示される差圧測定装置は、高さ2mの活性炭充填塔101(透明ポリ塩化ビニル樹脂製の円筒管、直径約40mm)と、活性炭充填塔101の底部に接続された窒素/塩化水素混合ガスを供給するための配管系とから構成されている。配管系は、配管110、バルブ107、108および配管105(10/8mm テフロン(登録商標)チューブ)からなる。活性炭充填塔101の底部側開口は、シリコン栓104で栓がされており、その上に直径10mmおよび6mmのラシヒリングを充填してラシヒリング層103を設けた後、高さが1mとなるように活性炭を充填し、活性炭層102を形成した。活性炭には、日本エンバイロケミカルズ(株)製の円柱状造粒活性炭「WH2X 4/6」を用いた。この造粒活性炭のJIS K1474に準拠して測定された各種物性は、表1のとおりである。また、この造粒活性炭の硫黄成分濃度は350質量ppmであった。
日本エンバイロケミカルズ(株)製の粒状活性炭(破砕炭)「WH2C 8/32」(充填密度0.54g/ml)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして差圧ΔPを測定した。結果を図2に示す。粒状活性炭を用いた場合、差圧ΔPが大きくなり、線速度が0.15m/sを越える条件下で混合ガスを活性炭充填塔に導入すると、活性炭層が浮き上がった。
Claims (7)
- 有機物を含有する塩化水素から、造粒活性炭を用いて前記有機物を除去する工程を備える塩化水素の精製方法。
- 造粒活性炭が充填された充填塔に、有機物を含有する塩化水素を供給することにより、前記有機物を除去する請求項1に記載の塩化水素の精製方法。
- 前記造粒活性炭は、直径が3〜10mmおよび長さが3〜20mmの円柱状の形状を有する請求項1または2に記載の塩化水素の精製方法。
- 前記造粒活性炭中の硫黄成分濃度は、500質量ppm以下である請求項1〜3のいずれかに記載の塩化水素の精製方法。
- 前記造粒活性炭の充填密度は、0.3〜0.6g/mlであり、かつ、硬度は、95%以上である請求項1〜4のいずれかに記載の塩化水素の精製方法。
- 前記造粒活性炭は、下記(a)〜(e)の条件のうち、少なくともいずれか1つを満たす請求項1〜5のいずれかに記載の塩化水素の精製方法。
(a)乾燥重量減が5質量%以下である。
(b)強熱残分が5質量%以下である。
(c)pHが5.0〜8.5である。
(d)ヨウ素吸着能が1000mg/g以上である。
(e)アセトン吸着能が20mg/g以上である。 - 触媒の存在下、塩化水素を酸化することにより塩素を製造するプロセスにおいて、原料となる塩化水素を精製する方法として用いられる請求項1〜6のいずれかに記載の塩化水素の精製方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2008-02-19 JP JP2008037383A patent/JP5257651B2/ja not_active Expired - Fee Related
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