JP2019119614A - 高純度三塩化ホウ素の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
なお、本発明においては、これら活性炭による塩素の処理・除去は、吸着が起こらない高温下で行われるため、単なる活性炭による吸着によるものではないと推定される。
本発明で使用する「粗三塩化ホウ素」は、塩素などの不純物を含む三塩化ホウ素であり、窒素ガスなどの不活性ガスにより希釈されていても良い。
三塩化ホウ素は、例えば、活性炭に担持させた酸化ホウ素と塩素との反応などによって製造することができる。工業的規模で三塩化ホウ素を製造する場合においては、未反応の残留塩素が三塩化ホウ素中に混入したり、副生したホスゲンなどが三塩化ホウ素中に混入し、粗三塩化ホウ素となる場合がある。工業的規模の製造方法においては、ホスゲンの混入量は、通常、50質量ppm〜900質量ppmであり、塩素の混入量が2質量ppm以上である。
本発明で使用する活性炭は、一般的に市販されているものを使用できる。ここで、活性炭としては、好ましくは粒径が2mm〜100mmの粒状のものが用いられる。
本発明では、例えば、反応装置に活性炭を充填し、反応装置の上部より粗三塩化ホウ素を供給し、活性炭と粗三塩化ホウ素とを接触させながら反応させることによって、塩素が低減された高純度三塩化ホウ素を得ることができる。
このときの粗三塩化ホウ素と活性炭との接触時間は、好ましくは1秒〜200秒であり、より好ましくは10秒〜50秒である。
粗三塩化ホウ素と活性炭との接触温度は、好ましくは350℃〜800℃であり、より好ましくは400℃〜800℃であり、反応圧力は特に制限されない。
図1に示すように、長さ700mm×内径φ38mmの円筒形の石英製反応管1に、炭化ホウ素45mlを充填した。窒素ガス流通下、反応管を600℃まで加熱した後、窒素ガスから三塩化ホウ素ガス(塩素濃度:検出限界未満(0.1質量ppm未満))に切り替えた。三塩化ホウ素ガスの流速は28.6sccmとした。三塩化ホウ素ガスと炭化ホウ素との接触時間は、31秒であった。
反応管出口の塩素濃度を経時的に測定した結果、2.5時間後に三塩化ホウ素の分解に起因して生成したと考えられる塩素7.7質量ppmが確認された。
図2に示すように、長さ700mm×内径φ38mmの円筒形の石英製反応管1に、活性炭45mlを充填した。窒素ガス流通下、反応管を600℃まで加熱した後、窒素ガスから、三塩化ホウ素ガス(塩素濃度:検出限界未満(0.1質量ppm未満))と50質量ppmの塩素を含む窒素ガスに切り替えた。三塩化ホウ素ガス及び50質量ppmの塩素を含む窒素ガスの流速をそれぞれ、28.6sccm、7sccmとし(混合ガス(粗三塩化ホウ素)中の塩素濃度:10質量ppm)た。粗三塩化ホウ素ガスと活性炭との接触時間は、26秒であった。
反応管出口の塩素濃度を経時的に測定した結果、1.5時間後には0.17質量ppmの塩素が、4.5時間後には0.05質量ppmの塩素が検出されたものの、6.6時間後、13.8時間後のいずれにおいても塩素濃度は、検出限界未満(0.1質量ppm未満)であった。
図1に示すように、長さ700mm×内径φ38mmの円筒形の石英製反応管1に、炭化ホウ素45mlを充填した。窒素ガス流通下、反応管を800℃まで加熱した後、窒素ガスから三塩化ホウ素ガス(検出限界未満(0.1質量ppm未満))に切り替えた。三塩化ホウ素ガスの流速は28.6sccmとした。三塩化ホウ素ガスと炭化ホウ素ガスとの接触時間は、31秒であった。
反応管出口の塩素濃度を経時的に測定した結果、1時間後に三塩化ホウ素の分解に起因して生成したと考えられる塩素7.7質量ppmの生成が確認され、更に3時間後には塩素120質量ppmが確認された。
図2に示すように、長さ700mm×内径φ38mmの円筒形の石英製反応管1に、活性炭45mlを充填した。窒素ガス流通下、反応管を700℃まで加熱した後、窒素ガスから、三塩化ホウ素ガス(検出限界未満(0.1質量ppm未満))と50質量ppmの塩素を含む窒素ガスに切り替えた。三塩化ホウ素ガス及び50質量ppmの塩素を含む窒素ガスの流速をそれぞれ、28.6sccm、7sccmとし(混合ガス中の塩素濃度:10質量ppm)た。粗三塩化ホウ素ガスと活性炭との接触時間は、26秒であった。
反応管出口の塩素濃度を経時的に測定した結果、2時間後には0.12質量ppmの塩素が、4時間後には0.10質量ppmの塩素が検出された程度であった。
図2に示すように、長さ700mm×内径φ38mmの円筒形の石英製反応管1に、活性炭45mlを充填した。窒素ガス流通下、反応管を500℃まで加熱した後、窒素ガスから、三塩化ホウ素ガス(検出限界以下(0.1質量ppm以下))と50質量ppmの塩素を含む窒素ガスに切り替えた。三塩化ホウ素ガス及び50質量ppmの塩素を含む窒素ガスの流速をそれぞれ、28.6sccm、7sccmとし(混合ガス中の塩素濃度:10質量ppm)た。粗三塩化ホウ素ガスと活性炭との接触時間は、26秒であった。
反応管出口の塩素濃度を経時的に測定した結果、2時間後には0.20質量ppmの塩素が、4時間後には0.10質量ppmの塩素が検出された程度であった。
図2に示すように、長さ700mm×内径φ38mmの円筒形の石英製反応管1に、活性炭45mlを充填した。窒素ガス流通下、反応管を400℃まで加熱した後、窒素ガスから、三塩化ホウ素ガス(検出限界以下(0.1質量ppm以下))と50質量ppmの塩素とを含む窒素ガスに切り替えた。三塩化ホウ素ガス及び50質量ppmの塩素を含む窒素ガスの流速をそれぞれ、28.6sccm、7sccmとし(混合ガス中の塩素濃度:10質量ppm)た。粗三塩化ホウ素ガスと活性炭との接触時間は、26秒であった。
反応管出口の塩素濃度を経時的に測定した結果、2時間後には0.10質量ppmの塩素が、4時間後には0.20質量ppmの塩素が検出された程度であった。
Claims (3)
- 塩素を含む粗三塩化ホウ素と、活性炭とを、350℃〜800℃で接触させることを特徴する、高純度三塩化ホウ素の製造方法。
- 粗三塩化ホウ素と活性炭との接触時間が1秒〜200秒である、請求項1に記載の高純度三塩化ホウ素の製造方法。
- 活性炭は、粒径が2mm〜100mmの粒状である、請求項1又は2に記載の高純度三塩化ホウ素の製造方法。
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