JP2009180871A - 複合基板を用いた光学部品とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光学基板上に、光硬化性樹脂組成物、熱硬化性もしくは熱可塑性樹脂組成物などの樹脂組成物を載せ、光学基板よりも極めて平坦な平面を有する極平坦プレス板にて印圧し、樹脂組成物を光や温度変化によって硬化させて複合基板を形成し、上記複合基板上に、機能性無機光学薄膜、誘電体多層光学薄膜、光学機能性金属薄膜などの薄膜を、低温スパッタ法、イオンビームスパッタ法などで積層して、反射ミラー、ビームスプリッタ、バンドパスフィルタ、バンドストップフィルタ、エッジフィルタなどの光学部品を成形する。
【選択図】図1
Description
高度に研磨した硼珪酸ガラス基板(商品名:BK7、表面粗さRMS=0.1nm)を用いて実施例2と同様に誘電体多層光学薄膜を積層し波長633nm用高反射ミラーを作製した。その結果、表面粗さはRMS=0.13nmであり、反射スペクトル特性の結果から波長633nmでの反射率は100%に極めて近いレベル、透過率は0.001%レベルである事が判った。
高度に研磨した硼珪酸ガラス基板(商品名:BK7、表面粗さRMS=0.1nm)を用いて実施例3と同様の方法にてビームスプリッタを作製した。その結果、波長787nmにおいて透過率58%、反射率43%であり、損失の少ないビームスプリッタ特性であることを確認した。(比較例2終わり)
2 樹脂組成物
3 極平坦プレス板
4 誘電体多層光学薄膜
Claims (18)
- 超平坦面を有する複合基板を用いた光学部品の製造方法であって、
光学基板上に樹脂組成物を載せるステップと、
上記樹脂組成物つき光学基板の樹脂組成物側を、上記光学基板よりも平坦な平面を有する極平坦プレス板にて印圧するステップと、
上記樹脂組成物を硬化させて複合基板を形成するステップと、
上記複合基板上に薄膜を積層して光学部品を成形するステップと、
を含むことを特徴とする複合基板を用いた光学部品の製造方法。 - 上記樹脂組成物は光硬化性樹脂組成物であって、
光学基板上に光硬化性樹脂組成物を載せるステップと、
上記光硬化性樹脂組成物つき光学基板の樹脂組成物側を、上記光学基板よりも平坦な平面を有する極平坦プレス板にて印圧するステップと、
上記光硬化性樹脂組成物に光を照射して硬化させて複合基板を形成するステップと、
上記複合基板上に薄膜を積層して光学部品を成形するステップと、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の複合基板を用いた光学部品の製造方法。 - 上記樹脂組成物は熱硬化性もしくは熱可塑性樹脂組成物であって、
光学基板上に熱硬化性もしくは熱可塑性樹脂組成物を載せるステップと、
上記熱硬化性もしくは熱可塑性樹脂組成物つき光学基板の樹脂組成物側を、上記光学基板よりも平坦な平面を有する極平坦プレス板にて印圧するステップと、
上記熱硬化性もしくは熱可塑性樹脂組成物を温度変化によって硬化させて複合基板を形成するステップと、
上記複合基板上に薄膜を積層して光学部品を成形するステップと、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の複合基板を用いた光学部品の製造方法。 - 上記の極めて平坦形状な平面を有する極平坦プレス板は、表面粗さが二乗平均粗さ(RMS)で0.3nm以下の平坦形状な平面を有する半導体基板材料であり、
形成される複合基板の樹脂表面の表面粗さが二乗平均粗さ(RMS)で0.3nm以下であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1つに記載の複合基板を用いた光学部品の製造方法。 - 上記の極めて平坦形状な平面を有する極平坦プレス板は、表面粗さが二乗平均粗さ(RMS)で0.3nm以下の平坦形状な平面を有するシリコン基板材料であり、
形成される複合基板の樹脂表面の表面粗さが二乗平均粗さ(RMS)で0.3nm以下であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1つに記載の複合基板を用いた光学部品の製造方法。 - 上記の極めて平坦形状な平面を有する極平坦プレス板は、表面粗さが二乗平均粗さ(RMS)で0.3nm以下の平坦形状な平面を有する高精度ガラス基板材料であり、
形成される複合基板の樹脂表面の表面粗さが二乗平均粗さ(RMS)で0.3nm以下であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1つに記載の複合基板を用いた光学部品の製造方法。 - 上記の極めて平坦形状な平面を有する極平坦プレス板は、表面粗さが二乗平均粗さ(RMS)で0.3nm以下の平坦形状な平面を有する高精度低熱膨張ガラス基板材料であり、
形成される複合基板の樹脂表面の表面粗さが二乗平均粗さ(RMS)で0.3nm以下であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1つに記載の複合基板を用いた光学部品の製造方法。 - 上記薄膜は、機能性無機光学薄膜であり、
該機能性無機光学薄膜を積層して反射ミラーを形成することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1つに記載の複合基板を用いた光学部品の製造方法。 - 上記薄膜は、機能性無機光学薄膜であり、
該機能性無機光学薄膜を積層してビームスプリッタを形成することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1つに記載の複合基板を用いた光学部品の製造方法。 - 上記薄膜は、機能性無機光学薄膜であり、
該機能性無機光学薄膜を積層してバンドパスフィルタを形成することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1つに記載の複合基板を用いた光学部品の製造方法。 - 上記薄膜は、機能性無機光学薄膜であり、
該機能性無機光学薄膜を積層してバンドストップフィルタを形成することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1つに記載の複合基板を用いた光学部品の製造方法。 - 上記薄膜は、機能性無機光学薄膜であり、
該機能性無機光学薄膜を積層してエッジフィルタを形成することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1つに記載の複合基板を用いた光学部品の製造方法。 - 上記薄膜は、機能性無機光学薄膜であり、
上記薄膜の積層は、低温スパッタ法で行なうことを特徴とする請求項8から請求項12のいずれか1つに記載の複合基板を用いた光学部品の製造方法。 - 上記薄膜は、機能性無機光学薄膜であり、
上記薄膜の積層は、イオンビームスパッタ法で行なうことを特徴とする請求項8から請求項12のいずれか1つに記載の複合基板を用いた光学部品の製造方法。 - 上記薄膜は、誘電体多層光学薄膜であることを特徴とする請求項8から請求項12のいずれか1つに記載の複合基板を用いた光学部品の製造方法。
- 上記薄膜は、光学機能性金属薄膜であることを特徴とする請求項8から請求項12のいずれか1つに記載の複合基板を用いた光学部品の製造方法。
- 上記薄膜は、誘電体多層光学薄膜あるいは光学機能性金属薄膜であって、
上記薄膜の積層は、該誘電体多層光学薄膜と該光学機能性金属薄膜との複合膜であることを特徴とする請求項8から請求項12のいずれか1つに記載の複合基板を用いた光学部品の製造方法。 - 請求項1から請求項17のいずれか1つに記載の製造方法で製造したことを特徴とする複合基板を用いた光学部品。
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