JP2009176019A - パターン発生装置及び半導体試験装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】リピート動作のステップ数の下限を設けることなく、所定の繰り返しパターンを連続して発生することができるパターン発生装置等を提供する。
【解決手段】パターン発生装置1は、パターン発生命令であるインストラクションを記憶するインストラクションメモリ11と、インストラクションメモリ11よりも高速であってインストラクションメモリ11からのインストラクションを一時的に記憶するリングメモリ12と、リピート動作が設定された場合に、所定のインストラクションの全てをリングメモリ12に書き込み可能であるか否かを判断するアドレス比較部16と、アドレス比較部16で書き込み可能であると判断された場合に、リングメモリ12に書き込まれた所定のインストラクションを繰り返し読み出して同一のパターンを繰り返し発生するインストラクション実行部13とを備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、所定のパターンを発生するパターン発生装置、及び当該装置で発生したパターンを用いて半導体デバイスの試験を行う半導体試験装置に関する。
半導体試験装置は、被試験対象である半導体デバイス(以下、DUT(Device Under Test)という)に試験信号を印加し、DUTから得られる信号と所定の期待値とを比較することでDUTの試験を行う。この半導体試験装置は、上記の試験信号を生成する試験パターン、上記の期待値を生成する期待パターン等の各種パターンを発生するパターン発生装置を備える。また、上記の試験パターン及び期待パターンが格納されたメモリをアクセスするためのアドレス(パターンアドレス)を生成するパターン発生装置も備えている。
以下の特許文献1には、安価な大容量のDRAM(Dynamic Random Access Memory)からなるインストラクションメモリに記憶されたインストラクションに従って、上記のパターンアドレスを生成する従来のパターン発生装置の一例が開示されている。このパターン発生装置では、インストラクションメモリから読み出されたインストラクションを、高速なSRAM(Static Random Access Memory)からなるリングメモリに一旦記憶させ、リングメモリから読み出したインストラクションを実行することで、パターンアドレスの途切れ(ウェイトの発生)を防止している。
特開2003−122566号公報
ところで、上記の特許文献1に開示されたパターン発生装置においては、所定のインストラクションを繰り返し実行して同一のパターンアドレスを繰り返し発生させる「リピート動作」なる動作が行われることがある。かかる「リピート動作」を行う場合においても、通常の動作を行う場合と同様に、繰り返されるべきインストラクション(以下、インストラクション群という)がリングメモリに一旦記憶されてから実行される。
ここで、リピート動作のステップ数(インストラクション群をなすインストラクションの数)が少なく、リングメモリに記憶されるインストラクションの数が少ない場合において、リングバッファからの読み出し速度が速いときには、インストラクションメモリからインストラクション群を読み出してリングバッファに記憶させる動作(バッファ)が頻繁に行われる。つまり、リングメモリに先に記憶されたインストラクション群が短時間で読み出されるため、その読み出しが完了する前に新たなインストラクション群の書き込みを行うといった動作が繰り返される。
上述した通り、インストラクションメモリは大容量のDRAMで構成されているため、かかる動作が頻繁に行われるとリフレッシュやローアドレスの切り替え等も頻繁に発生する。これにより、バッファ動作が、リングバッファからのインストラクション群の読み出し動作に追いつかず、リングメモリのインストラクション群が欠乏してパターンアドレスの途切れが(ウェイトの発生)が生ずる虞がある。この途切れを防止するためには、リピート動作のステップ数の下限を設定する等の対策を取らなければならないという問題があった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、リピート動作のステップ数の下限を設けることなく、所定の繰り返しパターンを連続して発生することができるパターン発生装置、及び当該装置で発生したパターンを用いて半導体デバイスの試験を行う半導体試験装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明のパターン発生装置は、パターン発生命令を記憶する第1記憶部(11、21)と、当該第1記憶部よりも高速であって当該第1記憶部から読み出されたパターン発生命令を一時的に記憶する第2記憶部(12、22、32)とを備え、当該第2記憶部から読み出されたパターン発生命令に従った所定のパターンを発生するパターン発生装置(1〜4)において、所定のパターン発生命令を繰り返すことで同一のパターンを繰り返し発生させるリピート動作が設定された場合に、前記所定のパターン発生命令の全てを前記第2記憶部に書き込み可能であるか否かを判断する判断部(16、26、36)と、前記判断部で書き込み可能であると判断された場合に、前記第2記憶部に書き込まれた前記所定のパターン発生命令を繰り返し読み出して同一のパターンを繰り返し発生する発生部(13、23、33)とを備えることを特徴としている。
この発明によると、リピート動作が設定された場合に、所定のパターン発生命令の全てが第2記憶部に書き込み可能であるか否かが判断され、書き込み可能であると判断されたときに、第2記憶部に書き込まれた所定のパターン発生命令が繰り返し読み出されて同一のパターンが繰り返し発生される。
また、本発明のパターン発生装置は、前記判断部で書き込み可能であると判断された場合に、前記所定のパターン発生命令を前記第1記憶部から読み出して前記第2記憶部に書き込む制御を一度だけ行う制御部(14、15、24,25,34,35)を備えることを特徴としている。
また、本発明のパターン発生装置は、前記第2記憶部がリングメモリであり、前記判断部は、前記第1記憶部に記憶されている前記所定のパターン発生命令のアドレス範囲が、前記リングメモリに対する書き込み位置から前記リングメモリからの読み出し位置までの容量である有効容量以下である場合に、書き込み可能であると判断することを特徴としている。
本発明の半導体試験装置は、半導体デバイスに試験信号を印加して得られる信号と所定の期待値とを比較して前記半導体デバイスの試験を行う半導体試験装置において、前記所定のパターンを、前記試験信号を生成する試験パターン及び前記期待値を生成する期待パターンの少なくとも一方として発生する上記の何れかに記載のパターン発生装置(1〜4)を備えることを特徴としている。
また、本発明の半導体試験装置は、前記所定のパターンを、前記試験パターン及び前記期待パターンの少なくとも一方を記憶するメモリ(21)をアクセスするパターンアドレスとして発生する上記の何れかに記載のパターン発生装置(1〜4)を備えることを特徴としている。
本発明によれば、リピート動作が設定された場合に、所定のパターン発生命令の全てを第2記憶部に書き込み可能であるか否かを判断し、書き込み可能であると判断したときに、第2記憶部に書き込まれた所定のパターン発生命令を繰り返し読み出して同一のパターンを繰り返し発生しているため、リピート動作のステップ数の下限を設けることなく、所定の繰り返しパターンを連続して発生することができるという効果がある。
以下、図面を参照して本発明の実施形態によるパターン発生装置及び半導体試験装置について詳細に説明する。
〔第1実施形態〕
図1は、本発明の第1実施形態によるパターン発生装置の要部構成を示すブロック図である。図1に示す通り、本実施形態のパターン発生装置1は、インストラクションメモリ11(第1記憶部)、リングメモリ12(第2記憶部)、インストラクション実行部13(発生部)、DRAMコントローラ14(制御部)、リングメモリ書き込み部15(制御部)、及びアドレス比較部16(判断部)を備えており、外部から入力されるスタートアドレスA11及びストップアドレスA12で規定されるアドレス範囲におけるインストラクション(パターン発生命令)に従ったパターンアドレスPAを発生する。
また、パターン発生装置1には、外部からパターンリピートフラグRF1が入力されており、このパターンリピートフラグRF1が設定されている場合(例えば、「H(ハイ)」レベルである場合)に、所定のインストラクションの実行を繰り返すことで同一のパターンアドレスPAを繰り返し発生させるリピート動作を行う。尚、パターン発生装置1には、パターンアドレスPAの発生を停止させるアドレスを規定するパターンストップアドレスA13も入力されている。
インストラクションメモリ11は、パターン発生命令であるインストラクションを含むパターンプログラムを記憶するメモリである。このインストラクションメモリ11としては、安価な大容量のDRAMを用いることができる。尚、インストラクションメモリ11は、複数種類のパターンプログラムを記憶することができる。リングメモリ12は、インストラクションメモリ11から読み出されたインストラクションを一時的に記憶するものであり、インストラクションメモリ11よりも高速に動作して書き込みと読み出しとを同時に行うことができる同期式のデュアルポートメモリである。このリングメモリ12としては、DRAMよりも高速なSRAMを用いることができる。
インストラクション実行部13は、リングメモリ12に対してリードアドレスR1を出力してリングメモリ12に一時的に記憶されたインストラクションの読み出し制御を行うとともに、読み出したインストラクションを実行してパターンアドレスPAを生成する。また、パターンリピートフラグRF1が設定されている場合には上述したリピート動作を行う。
ここで、インストラクション実行部13は、パターンリピートフラグRF1が設定されている場合であって、アドレス比較部16から出力される比較フラグF1が設定されているとき(例えば、「H」レベルであるとき)には、リングメモリ12の同一領域に記憶されているインストラクションを繰り返し読み出す制御を行う。これに対し、パターンリピートフラグRF1が設定されている場合であっても、比較フラグF1が設定されていないとき(例えば、「L(ロー)」レベルであるとき)には、リピート動作を行わないときと同様の読み出し制御を行う。尚、詳細は後述するが、上記の比較フラグF1は、リピート動作に用いるインストラクションの全てをリングメモリ12に書き込み可能であるか否かを示すフラグである。
DRAMコントローラ14は、リングメモリ書き込み部15から出力される制御信号C1に基づいて、インストラクションメモリ11からのインストラクションの読み出し制御を行う。また、DRAMコントローラ14は、インストラクションメモリ11に対するインストラクションを含むパターンプログラムの書き込み制御も行う。尚、本実施形態ではパターンプログラムの書き込み制御については詳細な説明を省略する。
リングメモリ書き込み部15は、DRAMコントローラ14を制御する制御信号C1を出力するとともに、リングメモリ12に対してライトアドレスW1を出力してインストラクションメモリ11から出力されたインストラクションのリングメモリ12への書き込み制御を行う。リングメモリ書き込み部15には、外部からのスタートアドレスA11及びストップアドレスA12とインストラクション実行部13からのリードアドレスR1とが入力されており、リングメモリ書き込み部15は、これらを参照しつつ上記の制御信号C1及びライトアドレスW1を出力する。
また、リングメモリ書き込み部15には、外部からのパターンリピートフラグRF1と、アドレス比較部16からの比較フラグF1とが入力されている。リングメモリ書き込み部15は、パターンリピートフラグRF1が設定されていない場合には、外部からのスタートアドレスA11及びストップアドレスA12によって規定されるアドレス範囲におけるインストラクションをインストラクションメモリ11から読み出してリングメモリ12に書き込む制御を行う。
また、リングメモリ書き込み部15は、パターンリピートフラグRF1が設定されている場合であって、比較フラグF1が設定されていないときには、スタートアドレスA11及びストップアドレスA12によって規定されるアドレス範囲におけるインストラクションをインストラクションメモリ11から読み出してリングメモリ12に書き込む制御を繰り返し行う。これに対し、パターンリピートフラグRF1及び比較フラグF1の双方が設定されている場合には、上記のリングメモリ12への書き込み制御を一度だけ行う。
アドレス比較部16は、外部からのスタートアドレスA11、ストップアドレスA12、及びパターンリピートフラグRF1を入力としており、パターンリピートフラグRF1が設定されている場合に、リピート動作に用いるインストラクションの全てをリングメモリ12に書き込み可能であるか否かを判断する。具体的には、外部から入力されるスタートアドレスA11とストップアドレスA12との差分が、リングメモリ12の有効容量以下であるか否かを判断する。上記の差分がリングメモリ12の有効容量以下である場合には例えば「H」レベルの比較フラグF1を出力し、有効容量よりも大である場合には例えば「L」レベルの比較フラグF1を出力する。
ここで、リングメモリ12の有効容量について説明する。リングメモリ12の有効容量は、リングメモリ12の最大容量(物理容量)から閾値を減じた値である。つまり、以下の式が成立する。
リングメモリ12の最大容量=閾値+有効容量
リングメモリ12は、環状の連続したメモリ空間を有するメモリであって、リングメモリ12に対するインストラクションの書き込み位置を示すライトポインタと、リングメモリ12からのインストラクションの読み出し位置を示すリードポインタとが設定される。上記の閾値はリードポインタからライトポインタまでの容量であり、上記の有効容量は、ライトポインタからリードポインタまでの容量である。
図2は、リングメモリ12の有効容量及び閾値を説明するための図である。図2に示す通り、リングメモリ12は、環状の連続したメモリ空間を有するメモリであって、その一周が最大容量を表している。また、ライトポインタWPとリードポインタRPとが設定されており、その移動方向は時計回りであるとする。尚、ライトポインタWPはリングメモリ書き込み部15から出力されるライトアドレスW1で規定され、リードポインタRPはインストラクション実行部13から出力されるリードアドレスR1で規定される。
図2(a)に示す通り、初期状態においてはライトポインタWP及びリードポインタRPは同じアドレス(例えば、アドレス「0」)に設定されている。リングメモリ12に対するインストラクションの書き込みのみが行われると、図2(b)に示す通りライトポインタWPが図中時計回りに移動してインストラクションの書き込みが順次行われる。尚、図2(b)中では、インストラクションが書き込まれた部分に斜線を付してある。
次に、リングメモリ12に対するインストラクションの書き込みが継続されている状態で、リングメモリ12からのインストラクションの読み出しが行われると、図2(c)に示す通りライトポインタWP及びリードポインタRPが図中時計回りに同じ速度で移動してインストラクションの読み出し及び書き込みが順次行われる。ここで、リードポインタRPの初期のアドレス(例えば、アドレス「0」)から現在のアドレスまでの領域(符号Q1を付して示した領域)に記憶されているインストラクションは読み出しが完了しており上書き可能である。これに対し、リードポインタRPからライトポインタWPまでの領域(符号Q2を付して示した領域)に記憶されているインストラクションは、これから読み出されるべきインストラクションであり上書きは不可である。
リングメモリ12に対するインストラクションの書き込み及びリングメモリ12からのインストラクションの読み出しが継続されてライトポインタWPが初期のアドレス(例えば、アドレス「0」)に戻ると、図2(d)に示す通り、ライトポインタWPからリードポインタRPまでの領域(符号Q3を付して示した領域)が全て上書き可能となる。これに対し、リードポインタRPからライトポインタWPまでの領域(符号Q4を付して示した領域)に記憶されているインストラクションは上書きは不可である。
前述した閾値は、上書き不可のインストラクションが記憶されているリードポインタRPからライトポインタWPまでの領域の容量を意味する。また、前述した有効容量は、インストラクションが記憶されていない領域及び上書き可能なインストラクションが記憶されている領域を含めたライトポインタWPからリードポインタRPまでの領域の容量を意味する。
次に、本実施形態のパターン発生装置1の動作について説明する。パターン発生装置1の動作は、パターンリピートフラグRF1が設定されていない場合の動作(基本動作)と、パターンリピートフラグRF1が設定されている場合のリピート動作とに大別される。また、リピート動作は更に比較フラグF1が設定されていない場合の動作(第1リピート動作)と設定されている場合の動作(第2リピート動作)とで異なる。以下、これらの動作について順に説明する。尚、以下の説明では、インストラクションを含む複数種類のパターンプログラムが、既にインストラクションメモリ11に記憶されているとする。
〈基本動作〉
動作が開始されると、まず外部からスタートアドレスA11及びストップアドレスA12が入力されて、インストラクションメモリ11に記憶されたパターンプログラムのうちの実行させるべきパターンプログラムの設定が行われる。また、必要に応じてパターンアドレスPAの発生を停止させるアドレスを規定するパターンストップアドレスA13の入力も行われる。尚、基本動作においては、パターンリピートフラグRF1の設定は行われない。
スタートアドレスA11及びストップアドレスA12が入力されると、リングメモリ書き込み部15は、インストラクションメモリ11のスタートアドレスA11で指定された領域からストップアドレスA12で指定された領域までに記憶されたインストラクションを順次読み出させるための制御信号C1をDRAMコントローラ14に出力する。また、リングメモリ書き込み部15は、上記の制御信号C1とともに、リングメモリ12に対してライトアドレスW1を出力する。これにより、DRAMコントローラ14の制御によってインストラクションメモリ11から順次読み出されたインストラクションが、リングメモリ12に順次書き込まれる(バッファ動作)。
ここで、リングメモリ書き込み部15は、インストラクション実行部13から出力されるリードアドレスR1(初期状態では「0」であるとする)とライトアドレスW1とを比較し、これらの差が図2を用いて説明した閾値になった場合にバッファ動作を一時的に停止する。バッファ動作が一時的に停止されると、インストラクション実行部13は、リングメモリ12に対してリードアドレスR1を出力してリングメモリ12に一時的に記憶されたインストラクションを順次読み出す(読み出し動作)。そして、読み出したインストラクションを実行してパターンアドレスPAを生成する。
パターンアドレスPAの生成が行われている間において、リングメモリ書き込み部15は、インストラクション実行部13から出力されるリードアドレスR1とライトアドレスW1とを常時比較し、これらの差が上述した閾値よりも小さくなった場合には、バッファ動作を再開する。以上の制御により、リードアドレスR1とライトアドレスW1との差(図2に示すリードポインタRPからライトポインタWPまでの領域の容量)が閾値に保たれ、バッファ動作と読み出し動作とを同時に行ってもリングメモリ12に一時的に記憶されたインストラクションが欠乏することはない。
リングメモリ書き込み部15は、インストラクションメモリ11のストップアドレスA12で指定される領域に記憶されたインストラクションがリングメモリ12に書き込まれた場合にはバッファ動作を終了する。このため、インストラクション実行部13の読み動作が継続されると、リードアドレスR1とライトアドレスW1との差が上記の閾値よりも小さくなり、リードアドレスR1とライトアドレスW1との差が零になったときに読み出し動作が終了する。そして、最後に読み出されたインストラクションが実行されるとパターンアドレスPAの生成が終了する。
尚、上記のパターンアドレスPAを生成している途中において、リングメモリ12から読み出されたインストラクションがパターンアドレスPAの発生停止を示すものである場合にもパターンアドレスPAの生成は終了する。或いは、パターンストップアドレスA13が設定されている場合において、リードアドレスR1がパターンストップアドレスA13で示されるアドレスに一致した場合にパターンアドレスPAの生成は終了する。
〈リピート動作〉
動作が開始されると、まず基本動作と同様に、外部からスタートアドレスA11及びストップアドレスA12が入力されて、インストラクションメモリ11に記憶されたパターンプログラムのうちの実行させるべきパターンプログラムの設定が行われる。また、必要に応じてパターンアドレスPAの発生を停止させるアドレスを規定するパターンストップアドレスA13の入力も行われる。ここで、リピート動作においては、パターンリピートフラグRF1の設定が行われる。
スタートアドレスA11及びストップアドレスA12が入力されると、アドレス比較部16は、スタートアドレスA11とストップアドレスA12との差分を求め、この差分がリングメモリ12の有効容量以下であるか否かを判断する。差分がリングメモリ12の有効容量よりも大であると判断された場合には、比較フラグF1が設定されずに第1リピート動作が行われる。これに対し、差分がリングメモリ12の有効容量以下であると判断された場合には、比較フラグF1が設定されて第2リピート動作が行われる。以下、第1リピート動作及び第2リピート動作について順に説明する。
《第1リピート動作》
まず、基本動作と同様に、リングメモリ書き込み部15から制御信号C1及びライトアドレスW1が出力され、インストラクションメモリ11のスタートアドレスA11で指定された領域からストップアドレスA12で指定された領域までに記憶されたインストラクションを順次リングメモリ12に書き込むバッファ動作が行われる。また、基本動作と同様に、インストラクション実行部13の制御下における読み出し動作が行われ、インストラクション実行部13でインストラクションが実行されてパターンアドレスPAが生成される。
パターンアドレスPAの生成が行われている間に上記のバッファ動作が終了すると、リングメモリ書き込み部15は、再度バッファ動作を行って、先に書き込んだインストラクションと同一のインストラクションがリングメモリ12内で連続するようにリングメモリ12に対するインストラクションの書き込みを行う。これは、パターンリピートフラグRF1が設定されているが、比較フラグF1が設定されていないからである。
具体的には、インストラクションメモリ11のストップアドレスA12で指定される領域に記憶されたインストラクションが読み出されてリングメモリ12に書き込まれると、その書き込み位置に続けてインストラクションメモリ11のスタートアドレスA11で指定された領域からストップアドレスA12で指定された領域までに記憶されたインストラクションが順次リングメモリ12に書き込まれる。そして、インストラクション実行部13では、リングメモリ12を周回する連続した読み出し動作が継続され、読み出されたインストラクションが実行されてパターンアドレスPAが生成される。
このように、第1リピート動作では、インストラクションメモリ11から同一のインストラクションを読み出す動作を繰り返し、読み出したインストラクションを、先にリングメモリ12に書き込んであるインストラクションに連続するように書き込んでいる。そして、リングメモリ12に書き込まれたインストラクションを連続して順に読み出している。これにより、所定のインストラクションの実行が繰り返されて同一のパターンアドレスPAが繰り返し生成されるリピート動作が行われる。
尚、第1リピート動作においては、上述した基本動作と同様に、上記のパターンアドレスPAを生成している途中において、リングメモリ12から読み出されたインストラクションがパターンアドレスPAの発生停止を示すものである場合にもパターンアドレスPAの生成は終了する。或いは、パターンストップアドレスA13が設定されている場合において、リードアドレスR1がパターンストップアドレスA13で示されるアドレスに一致した場合にパターンアドレスPAの生成は終了する。
《第2リピート動作》
第2リピート動作においては、リングメモリ書き込み部15から制御信号C1及びライトアドレスW1が出力され、インストラクションメモリ11のスタートアドレスA11で指定された領域からストップアドレスA12で指定された領域までに記憶されたインストラクションを順次リングメモリ12に書き込むバッファ動作が一度だけ行われる。これは、パターンリピートフラグRF1とともに比較フラグF1が設定されているからである。
また、パターンリピートフラグRF1と比較フラグF1との双方が設定されているため、インストラクション実行部13は、上記のバッファ動作によりリングメモリ12に書き込まれたインストラクションを繰り返し読み出す読み出し動作を行う。ここで、第2リピート動作では、リングメモリ12からの読み出しを終了する位置を示すアドレスがパターンストップアドレスA13によって設定される。つまり、前述した基本動作及び第1リピート動作では、パターンストップアドレスA13はパターンアドレスPAの発生を停止するために用いられていたが、本実施形態では、リングメモリ12からの読み出しを終了する位置を示すアドレスを設定するために用いられる。
例えば、スタートアドレスA11が10進数で「100」に設定され、ストップアドレスA12が10進数で「110」に設定された場合において、「11」アドレス分のインストラクションがリングメモリ12のアドレス「0」〜アドレス「10」まで記憶されるとする。このときには、上記のパターンストップアドレスA13として、リングメモリ12のアドレス「10」を示すアドレスが設定される。
インストラクション実行部13は、上記の読み出し動作において、リングメモリ12の初期アドレス(例えば、アドレス「0」)で指定される領域からインストラクションの読み出しを開始する。そして、パターンストップアドレスA13で設定されたアドレスで指定される領域(例えば、アドレス「10」)までのインストラクションの読み出しを終えると、再びリングメモリ12の初期アドレスで指定される領域からの読み出しを開始するといった動作を繰り返す。そして、読み出されたインストラクションがインストラクション実行部13で順次実行されてパターンアドレスPAが生成される。
このように、第2リピート動作では、インストラクションメモリ11に記憶されたインストラクションを一度だけリングメモリ12に書き込んでいる。そして、リングメモリ12に書き込まれたインストラクションを繰り返し読み出している。これにより、所定のインストラクションの実行が繰り返されて同一のパターンアドレスPAが繰り返し生成されるリピート動作が行われる。
以上説明した通り、本実施形態では、パターンリピートフラグRF1が設定されてリピート動作が行われる場合に、スタートアドレスA11とストップアドレスA12との差分がリングメモリ12の有効容量以下であるか否かが判断され、差分がリングメモリ12の有効容量以下であると判断された場合には、リングメモリ12に記憶されたインストラクションが繰り返し読み出されて同一のパターンが繰り返し発生される。このため、リピート動作のステップ数(インストラクションの数)が少なく、リングメモリ12に記憶されるインストラクションの数が少なくとも、リピート動作のステップ数の下限を設けることなく、パターンアドレスPAを連続して発生させることができる。
〔第2実施形態〕
図3は、本発明の第2実施形態によるパターン発生装置の要部構成を示すブロック図である。図3に示す通り、本実施形態のパターン発生装置2は、パターンデータメモリ21(第1記憶部)、リングメモリ22(第2記憶部)、パターンデータ制御部23(発生部)、DRAMコントローラ24(制御部)、リングメモリ書き込み部25(制御部)、及びアドレス比較部26(判断部)を備えており、図1を用いて説明したパターン発生装置1からのパターンアドレスPAを用いて試験パターン及び期待パターンを含むパターンデータPDを生成する。尚、上記の試験パターンはDUT(図示省略)に印加する試験信号を生成するパターンであり、上記の期待パターンはDUTのパス/フェイルを判定するための期待値を生成するパターンである。
パターンデータメモリ21は、パターン発生命令であるパターンデータを記憶するメモリである。このパターンデータメモリ21としては、図1に示すインストラクションメモリ11と同様に安価な大容量のDRAMを用いることができる。リングメモリ22は、パターンデータメモリ21からのパターンデータを一時的に記憶するメモリであり、図1に示すリングメモリ12と同様に、DRAMよりも高速なSRAMを用いることができる。
パターンデータ制御部23は、図1を用いて説明したパターン発生装置1からのパターンアドレスPAを入力としており、このパターンアドレスPAをリングメモリ22に対するリードアドレスR2として出力し、リングメモリ22に一時的に記憶されたパターンデータの読み出し制御を行う。また、パターンデータ制御部23は、読み出したパターンデータをパターンデータPDとして出力する。
DRAMコントローラ24は、リングメモリ書き込み部25から出力される制御信号C2に基づいて、パターンデータメモリ21からのパターンデータの読み出し制御を行う。また、DRAMコントローラ24は、パターンデータメモリ21に対するパターンデータを含むパターンプログラムの書き込み制御も行う。尚、第1実施形態と同様に、本実施形態においてもパターンプログラムの書き込み制御については詳細な説明を省略する。
リングメモリ書き込み部25は、図1に示すリングメモリ書き込み部25と同様のものであり、DRAMコントローラ24を制御する制御信号C2を出力するとともにリングメモリ22に対してライトアドレスW2を出力して、パターンデータメモリ21から出力されたパターンデータのリングメモリ22への書き込み制御を行う。具体的には、リングメモリ書き込み部25は、パターンリピートフラグRF2が設定されていない場合には、スタートアドレスA21及びストップアドレスA22によって規定されるアドレス範囲におけるパターンデータをパターンデータメモリ21から読み出してリングメモリ22に書き込む制御を行う。
また、リングメモリ書き込み部25は、パターンリピートフラグRF2が設定されている場合であって、比較フラグF2が設定されていないときには、スタートアドレスA211及びストップアドレスA22によって規定されるアドレス範囲におけるパターンデータをパターンデータメモリ21から読み出してリングメモリ22に書き込む制御を繰り返し行う。これに対し、パターンリピートフラグRF2及び比較フラグF2の双方が設定されている場合には、上記のリングメモリ22への書き込み制御を一度だけ行う。
アドレス比較部26は、図1に示すアドレス比較部16と同様のものであり、外部から入力されるスタートアドレスA21とストップアドレスA22との差分が、リングメモリ22の有効容量以下であるか否かを判断し、差分がリングメモリ22の有効容量以下である場合には例えば「H」レベルの比較フラグF2を出力し、有効容量よりも大である場合には例えば「L」レベルの比較フラグF2を出力する。
以上の構成のパターン発生装置2においては、通常動作の場合であっても、リピート動作の場合であっても、パターンデータ制御部23が、図1を用いて説明したパターン発生装置1からのパターンアドレスPAを用いてリングメモリ22に一時的に記憶されたパターンデータの読み出し制御を行う点を除いて、図1に示したパターン発生装置1の動作と同様の動作が行われる。また、リピート動作の場合において、アドレス比較部26の比較結果により比較フラグF2が設定されない場合には前述した第1リピート動作が行われ、比較フラグF2が設定された場合には前述した第2リピート動作が行われる。
つまり、本実施形態においても、パターンリピートフラグRF2が設定されてリピート動作が行われる場合に、スタートアドレスA21とストップアドレスA22との差分がリングメモリ22の有効容量以下であるか否かが判断され、差分がリングメモリ22の有効容量以下であると判断された場合には、リングメモリ22に記憶されたパターンデータが繰り返し読み出されて同一のパターンが繰り返し発生される。このため、リピート動作のステップ数(パターンデータの数)が少なく、リングメモリ22に記憶されるパターンデータの数が少なくとも、リピート動作のステップ数の下限を設けることなく、パターンデータPDを連続して発生させることができる。
〔第3実施形態〕
図4は、本発明の第3実施形態によるパターン発生装置の要部構成を示すブロック図である。図4に示す通り、本実施形態のパターン発生装置4は、パターンデータPDを発生する図3に示す第2実施形態のパターン発生装置2と、スキャンパターンデータSPDを発生するパターン発生装置3と、DRAMアービターコントローラ40とを備えており、パターンデータPD及びスキャンパターンデータSPDを排他的に生成する。
パターン発生装置3は、パターン発生装置2と同様の構成であり、パターン発生装置2と同様の動作にてスキャンパターンデータSPDを発生する。具体的には、パターン発生装置3は、スキャンパターン用リングメモリ32(第2記憶部)、スキャンパターンデータ制御部33(発生部)、DRAMコントローラ34(制御部)、リングメモリ書き込み部35(制御部)、及びアドレス比較部36(判断部)を備えており、パターン発生装置2が備えるパターンデータメモリ21を共有している。
上記リングメモリ書き込み部35及びアドレス比較部36には、外部からのスキャンスタートアドレスA31及びスキャンストップアドレスA32並びにパターンリピートフラグRF3が入力されている。また、アドレス比較部36からの比較フラグF3がリングメモリ書き込み部35に入力されている。尚、前述した通り、パターン発生装置2のパターンデータ制御部23は、図1に示すパターン発生装置1で生成されたパターンアドレスPAを用いてリングメモリ22の読み出し制御を行っていた。パターン発生装置3のスキャンパターンデータ制御部33も、図1に示すパターン発生装置1と同様のパターン発生装置で生成されたパターンアドレスを用いてスキャンパターン用リングメモリ32の読み出し制御を行う。
DRAMアービターコントローラ40は、パターン発生装置2とパターン発生装置3とで共有されるパターンデータメモリ21に対するアクセスを制御する。具体的には、パターンデータメモリ21には、パターン発生装置2で用いるパターンデータを記憶する領域(第1領域)と、パターン発生装置3で用いるパターンデータ(スキャンパターンデータ)を記憶する領域(第2領域)とが設けられており、DRAMアービターコントローラ40は、パターン発生装置2による第1領域のアクセスとパターン発生装置3による第2領域のアクセスとの排他制御を行う。
以上の構成にすることで、パターン発生装置4は、リピート動作のステップ数の下限を設けることなく、パターンデータPDとスキャンパターンデータSPDとを排他的に連続して発生させることができる。ここで、パターン発生装置4は、大容量のパターンデータメモリ21をパターン発生装置2とパターン発生装置3とで共用しているため、コスト低減を図ることができる。
以上説明したパターン発生装置1〜4は、例えばDUTに試験信号を印加し、DUTから得られる信号と所定の期待値とを比較することでDUTの試験を行う半導体試験装置に設けるのが好適である。以上、本発明の実施形態によるパターン発生装置について説明したが、本発明は上述した実施形態に制限されることなく、本発明の範囲内で自由に変更が可能である。例えば、上記実施形態では、パターンアドレスPA、パターンデータPD、及びスキャンパターンデータSPDを発生するパターン発生装置について説明したが、本発明のパターン発生装置は、これらのパターンを発生するものに限られず、任意のパターンを発生するパターン発生装置に適用することができる。
本発明の第1実施形態によるパターン発生装置の要部構成を示すブロック図である。 リングメモリ12の有効容量及び閾値を説明するための図である。 本発明の第2実施形態によるパターン発生装置の要部構成を示すブロック図である。 本発明の第3実施形態によるパターン発生装置の要部構成を示すブロック図である。
符号の説明
1〜4 パターン発生装置
11 インストラクションメモリ
12 リングメモリ
13 インストラクション実行部
14 DRAMコントローラ
15 リングメモリ書き込み部
16 アドレス比較部
21 パターンデータメモリ
22 リングメモリ
23 パターンデータ制御部
24 DRAMコントローラ
25 リングメモリ書き込み部
26 アドレス比較部
32 スキャンパターン用リングメモリ
33 スキャンパターンデータ制御部
34 DRAMコントローラ
35 リングメモリ書き込み部
36 アドレス比較部

Claims (5)

  1. パターン発生命令を記憶する第1記憶部と、当該第1記憶部よりも高速であって当該第1記憶部から読み出されたパターン発生命令を一時的に記憶する第2記憶部とを備え、当該第2記憶部から読み出されたパターン発生命令に従った所定のパターンを発生するパターン発生装置において、
    所定のパターン発生命令を繰り返すことで同一のパターンを繰り返し発生させるリピート動作が設定された場合に、前記所定のパターン発生命令の全てを前記第2記憶部に書き込み可能であるか否かを判断する判断部と、
    前記判断部で書き込み可能であると判断された場合に、前記第2記憶部に書き込まれた前記所定のパターン発生命令を繰り返し読み出して同一のパターンを繰り返し発生する発生部と
    を備えることを特徴とするパターン発生装置。
  2. 前記判断部で書き込み可能であると判断された場合に、前記所定のパターン発生命令を前記第1記憶部から読み出して前記第2記憶部に書き込む制御を一度だけ行う制御部を備えることを特徴とする請求項1記載のパターン発生装置。
  3. 前記第2記憶部はリングメモリであり、
    前記判断部は、前記第1記憶部に記憶されている前記所定のパターン発生命令のアドレス範囲が、前記リングメモリに対する書き込み位置から前記リングメモリからの読み出し位置までの容量である有効容量以下である場合に、書き込み可能であると判断する
    ことを特徴とする請求項1又は請求項2記載のパターン発生装置。
  4. 半導体デバイスに試験信号を印加して得られる信号と所定の期待値とを比較して前記半導体デバイスの試験を行う半導体試験装置において、
    前記所定のパターンを、前記試験信号を生成する試験パターン及び前記期待値を生成する期待パターンの少なくとも一方として発生する請求項1から請求項3の何れか一項に記載のパターン発生装置を備えることを特徴とする半導体試験装置。
  5. 前記所定のパターンを、前記試験パターン及び前記期待パターンの少なくとも一方を記憶するメモリをアクセスするパターンアドレスとして発生する請求項1から請求項3の何れか一項に記載のパターン発生装置を備えることを特徴とする請求項4記載の半導体試験装置。
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