JP2009170267A - セラミックプラズマ反応器、及びプラズマ反応装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】板状のセラミック誘電体4と、その内部に配設された導電膜3とから形成され、所定の間隙を隔てて積層されてなる第一電極2aと第二電極2bを有する。第一電極2aの、単位電極2a,2b間の間隙とは反対側の面側に、保持部材7によって間隙を隔てて保持された隔壁板9を備え、保持部材7及び隔壁板9によってガス導入流通部21が形成されている。また、第一電極2aには、貫通孔15が形成され、ガス導入流通部21から貫通孔15を流通させて単位電極間にガスを導入し、単位電極2a,2b間に電圧を印加することによって単位電極2a,2b間を放電部11としてプラズマを発生させる。
【選択図】図2B
Description
図1、図2A、及び図2Bに本発明の実施形態1のセラミックプラズマ反応器(以下、単にプラズマ反応器ともいう)を示す。図1は、分解図であり、図2Aは、ガス流通方向に垂直な平面で切断した断面図、図2Bは、ガス流通方向に沿った平面で切断した断面図である。
図3、図4A、及び図4Bに本発明の実施形態2のプラズマ反応器1を示す。図3は、分解図であり、図4Aは、ガス流通方向に垂直な平面で切断した断面図、図4Bは、ガス流通方向に沿った平面で切断した断面図である。
電極構成の異なるプラズマ反応器を作製し、それぞれのプラズマ反応器でNOガスを含む混合ガスを処理し、NOのNO2への変換効率を評価した。以下、具体的に説明する。
図1、図2A及び図2Bに示したような単位電極2を備えたプラズマ反応器を製造した。単位電極2は、93%アルミナで、焼成後の厚さが0.25mmとなるテープを4枚積層し、1mm厚さの誘電体となる板状のセラミック誘電体4と、このセラミック誘電体4の内部に配設された、その膜厚方向に貫通した膜厚方向に垂直な方向の平面で切断した断面の形状が円形の複数の貫通孔が形成された導電膜3とから形成され、導電膜3の貫通孔より小さい貫通孔15が電極垂直方向に設けられたウォールフロー型電極(第一電極2a)と、貫通孔のないベタの導電膜3が埋設された電極(第二電極2b)を、その相互の間隔が1mmとなるように対向配置させて作製した。なお、プラズマ反応器を構成する一対の単位電極2a,2bは、一方を電圧負荷側とし、もう一方を接地側とした。
90%コージェライト成分を含む平均粒径2μmに調整した粉砕原料粉末を用いて、0.25mm厚さのテープを製作して4枚積層し、実施例1と同様に、1mm厚さの電極及び電極間1mmの放電空間及びガス通路部を形成した。このプラズマ反応器を用いて実施例1と同様に試験を行った。
図6A及び図6Bで示した2枚の電極がベタ導体電極で構成されたプラズマ反応器を用いて実施例1と同様に試験を行った。
図7A及び図7Bで示した2枚の電極が貫通孔付導体電極で構成されたプラズマ反応器を用いて実施例1と同様に試験を行った。結果を表1に示す。
試験1と同様の電極構成の異なるプラズマ反応器を使用し、それぞれのプラズマ反応器で、炭化水素を含むモデルガスを処理し、排出されるガス中のH2、CH4濃度を評価した。以下、具体的に説明する。
図3、図4A及び図4Bに示したようなプラズマ反応器を製造した。電極間距離は1mmで、4段のプラズマ発生部(放電部11)を有する多段積層型リアクタである。単位電極は実施例1と同じ方法で作製した。
H2収率(%)=H2発生量(ppm)/モデルガス中のi−C8H18量(ppm)×9
ベタ電極をギャップ間隔1mmで、5枚積層対向させ4段の放電空間を持つスルーフロー型反応器で、同一条件でイソオクタンの改質試験を行った。
貫通孔付導体膜埋設電極を5層積層対向させ、4段の放電空間を持つスルーフロー型反応器で、同一条件でイソオクタンの改質試験を行った。平板型セラミックス電極を平行に配置したプラズマ反応器を作製すると共に、本実施例と全て同一条件でi−C8H18量の改質試験を行った。パルス電源への投入電力も同様に行った。
Claims (10)
- 板状のセラミック誘電体と、前記セラミック誘電体の内部に配設された導電膜とから形成され、互いに対向して所定の間隙を隔てて積層されてなる複数の板状の単位電極を有し、
互いに隣接する前記単位電極の少なくとも一方の前記単位電極の、前記間隙とは反対面側にガスを導入して流通させるガス導入流通部を形成するガス導入流通部形成部が設けられ、
前記単位電極には、前記ガス導入流通部に面した前記単位電極の前記反対面であるガス導入流通部側面から前記間隙側の単位電極間側面へと貫通する複数の貫通孔が形成され、
前記貫通孔は、前記導電膜に設けられた導電膜貫通孔の部位に前記導電膜貫通孔よりも径が小さく形成されており、
前記ガス導入流通部から前記貫通孔を流通させて前記単位電極間に前記ガスを導入し、前記単位電極間に電圧を印加することによって前記単位電極間を放電部としてプラズマを発生させるセラミックプラズマ反応器。 - 前記貫通孔は、前記単位電極に少なくともガス流通方向に並んで形成されている請求項1に記載のセラミックプラズマ反応器。
- 前記ガス導入流通部は、前記ガスの導入側とガス流通方向において反対側端部が閉鎖部とされている請求項1または2に記載のセラミックプラズマ反応器。
- 前記放電部は、前記ガス導入流通部の導入側と反対端部の前記閉鎖部側が開口部とされて前記ガスを排出する請求項3に記載のセラミックプラズマ反応器。
- 前記単位電極が保持部材によって間隙を隔てて保持されて、前記放電部が形成されている請求項1〜4のいずれか1項に記載のセラミックプラズマ反応器。
- 前記単位電極間の前記間隙とは反対側の前記反対面側に、保持部材によって間隙を隔てて保持された隔壁板を備え、前記保持部材及び前記隔壁板によって前記ガス導入流通部が形成された請求項1〜5のいずれか1項に記載のセラミックプラズマ反応器。
- 一方の前記単位電極である前記貫通孔が形成された第一電極が、他方の前記単位電極である前記貫通孔が形成されない第二電極の一方側及び反対側に配置されて、前記第一電極、前記第二電極、前記第一電極の順に積層され、
前記第一電極の、前記第二電極とは反対側に前記ガス導入流通部が形成された請求項1〜5のいずれか1項に記載のセラミックプラズマ反応器。 - 前記第一電極、前記第二電極、前記第一電極を一組とした電極組が複数積層された請求項7に記載のセラミックプラズマ反応器。
- 前記保持部材によって間隙を隔てて積層された異なる前記電極組の前記第一電極間が前記ガス導入流通部とされた請求項8に記載のセラミックプラズマ反応器。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載のセラミックプラズマ反応器とパルス半値幅が1μ秒以下に制御が可能なナノパルス電源を組み合わせたプラズマ反応装置。
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