JP2009167360A - 真空用封止樹脂、これを用いた真空用機器および真空用磁気センサ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明の真空用封止樹脂は、エポキシ樹脂に充填材を配合したもので、この充填材は、粒子径が0.5μm〜2mmのポリオレフィン、フッ素樹脂またはそれらの混合物を少なくとも1種であり、その配合率を30Vol%〜70Vol%としたものである。また、真空用封止樹脂を用いた真空用機器は、磁性材料、電気配線、コイル、電子部品、絶縁材料またはそれらを組み合わせた部品をケースやフレームなどの金属枠内に備え、真空用封止樹脂を封入したものである。
【選択図】 図1
Description
図2は従来の磁気センサを示す側断面図である。図2において、1は永久磁石、2は磁気抵抗効果素子、3は磁気抵抗効果素子2の出力線、4は磁気抵抗効果素子2の電源線、5はセンサケーブル、7はセンサケース、9はOリング、10はモールド用の封止樹脂である。
永久磁石1と磁気抵抗効果素子2と磁気抵抗効果素子2の出力線3と磁気抵抗効果素子2の電源線4とセンサケーブル5とが金属製のセンサケース7に納められている。封止樹脂10は、永久磁石1と磁気抵抗効果素子2と出力線3と電源線4とセンサケーブル5とを金属製のセンサケース7内に封止している。この封止樹脂10の露出面とセンサケース7との接触面に沿うように封止樹脂の外周に溝を形成してフッ素系のOリング9を取り付けている。また、磁気抵抗効果素子の出力線3と磁気抵抗効果素子の電源線4とセンサケーブル5とが図示しない基板にて固定されて樹脂10にてセンサケース7内に封止されているものもある。
このように、従来の真空用センサは、例えばセンサケース内にセンサ用部品を樹脂にて封止するように、様々なモータの部品を封止樹脂にて封止するものである。
また、従来の封止樹脂10から真空雰囲気に放出されるガスを低減させるために、封止樹脂10を図示しないセンサカバにて覆っているものもある(例えば、特許文献3参照)。また、コイルをモールドした樹脂から真空雰囲気に放出されるガスを低減させるための一般的な方策として、コイルを金属製のキャンにて覆っているものもある。
また、封止樹脂10から放出されるガスを大気側に排気するために、図示しないセンサカバに図示しない排気管を備えたものもある(例えば、特許文献4参照)。
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、センサカバやキャンなどの金属部品を用いずとも、吸湿水分を速やかに排出し、目標の真空度まで速やかに到達することができる真空用封止樹脂および真空用機器を提供することを目的とする。
請求項1に記載の発明は、エポキシ樹脂に充填材を配合した真空用封止樹脂において、前記充填材は、粒子径が0.5μm〜2mmのポリオレフィン、フッ素樹脂またはそれらの混合物を少なくとも1種であり、その配合率を30Vol%〜70Vol%としたものである。
請求項2に記載の発明は、前記ポリオレフィンが、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、環状ポリオレフィン、ポリキシリレンのいずれか一つ、またはそれらを組み合わせたものである。
請求項3に記載の発明は、前記フッ素樹脂は、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルコキシエチレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンとエチレンの共重合体のいずれか一つ、またはそれらを組み合わせたものである。
請求項4に記載の発明は、前記充填材が、アルカリにて処理され表面を粗化したものである。
請求項5に記載の発明は、前記エポキシ樹脂が、少なくとも主剤と反応性希釈剤とアミン型硬化剤とから構成され、
前記主剤は、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、または、芳香族環、五員環、脂肪族六員環、ジシクロペンタジエン構造、ノボラック構造、メソゲン基のいずれかを含む環状の化学構造より選ばれる1つ、またはそれらの混合物であり、
前記反応性希釈剤の化学構造は、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテルなどの単官能型または直鎖脂肪族、ポリグリコール、ポリエーテルなどの2官能型、またはそれらの混合物であり、
前記アミン型硬化剤の配合比が前記主剤と前記反応性希釈剤に含まれるエポキシ基の総数と前記ポリプロピルアミド型硬化剤に含まれる活性水素の総数との当量比が0.9乃至1.1のものである。
請求項6に記載の発明は、前記エポキシ樹脂が、少なくとも主剤と触媒型硬化剤と反応性希釈剤とから構成され、前記主剤は、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、または、芳香族環、五員環、脂肪族六員環、ジシクロペンタジエン構造、ノボラック構造、ベンゾオキサジン構造、メソゲン基のいずれかを含む環状の化学構造より選ばれる1つ、またはそれらの混合物であり、
前記触媒型硬化剤は、イミダゾール化合物または3フッ化ホウ素アミン錯体であり、前記イミダゾール化合物は2メチルイミダゾール、2エチル4メチルイミダゾール、nウンデシルイミダゾール、1ベンジル2メチルイミダゾールより選ばれる1つ、またはそれらの混合物であり、
前記3フッ化ホウ素アミン錯体は3フッ化ホウ素アニリン錯体、3フッ化ホウ素クロロフェニルアミン錯体、またはそれらの混合物であり、
前記反応性希釈剤の化学構造は、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテルなどの単官能型、または直鎖脂肪族、ポリグリコール、ポリエーテル、ポリチオールなどの2官能型、またはそれらの混合物であり、
その配合比を前記主剤と前記反応性希釈剤との合計100重量部に対して前記触媒型硬化剤が1重量部以上7重量部以下としたものである。
請求項7に記載の発明は、前記充填材の一部を無機充填材で置換したものである。
請求項8に記載の発明は、請求項1から7記載の真空用封止樹脂を、磁性材料、電気配線、コイル、電子部品、絶縁材料またはそれらを組み合わせた部品を収納した枠体内に封入して製造された真空用機器である。
請求項9に記載の発明は、請求項1から7記載の真空用封止樹脂を、磁性材料、電気配線、コイル、電子部品、絶縁材料またはそれらを組み合わせた部品に対してモールド、ポッティング、隙間のシーリング、接着により製造したものである。
請求項10に記載の発明は、請求項1から7記載の真空用封止樹脂を、磁気抵抗効果素子と、永久磁石とを備えたセンサケース内に封入した真空用磁気センサである。
請求項4に記載の発明によると、エポキシ樹脂と充填材との界面の密着性が高まり、真空用封止樹脂の機械的強度を高めることができる。
請求項5、6に記載の発明によると、封止樹脂内の深い位置の吸湿水分でも、真空排気にて真空用封止樹脂のマトリックス樹脂内を速やかに拡散して排出することができ、機器に求められる真空度に速やかに到達することができる。
また、請求項7に記載の発明によると、未硬化樹脂が低粘度の場合でも、比重の大きな充填材の沈降を防止し均一な真空用封止樹脂を形成することが出来る。
請求項8に記載の発明によると、封止樹脂内底部の吸湿水分でも、真空排気にて充填材の内部または界面を速やかに拡散して排出することができ、機器に求められる真空度に速やかに到達することができる。
請求項9に記載の発明によると、真空用封止樹脂を厚肉に形成することができる。
請求項10に記載の発明によると、センサケース底部の吸湿水分でも、真空排気にて充填材の内部または界面を速やかに拡散して排出することができ、機器に求められる真空度に速やかに到達することができる。
本発明が従来技術と異なる部分は、従来の封止樹脂10に代わり真空用封止樹脂8を備えた部分である。
また充填材の粒子径について、充填材はエポキシ樹脂組成物に完全に単分散され、充填材表面はエポキシ樹脂からなるマトリックス樹脂によって完全に濡れることが必要である。充填材配合比評価に粒子径の事前検討を、直径10nmから5mmの球状シリカ充填材で行った。その結果、0.5μm以下はハンドミキサなどの一般的な攪拌では粒子の凝集が解かれず粘度が高くなり、2mm以上では沈降した。よって、凝集が解かれ完全分散しやすい0.5μm以上、沈降による充填材どうしの接触を避けるため2mm以下が望ましく、本発明の全実施例では平均粒子径0.1mmにて代表した。
また、充填材の充填率について、下限は一般的な充填材の充填効果が発現される30vol%以上、高充填による充填材どうしの接触にてエポキシ樹脂組成物の機械的特性の低下を避けるため70vol%以下が望ましい。充填材配合比評価に粒子径の事前検討を、平均直径0.1mmの球状シリカ充填材で、配合比を10〜80vol%まで変えて行った。その結果、30vol%以下では硬化収縮が大きくて反りが発生し、70vol%以上では樹脂が不足して多孔質となった。よって、本発明の全実施例では50vol%にて代表した。
また、フッ素樹脂や無機材質などの比重の高い充填材は沈降しやすいため、比重がエポキシ樹脂に近いポリオレフィンと、フッ素樹脂または無機充填材またはそれらの混合物との割合を3:7〜10:0することで沈降を防止した。
作製した真空用磁気センサのガス放出特性の評価は、室温、60%RHの調湿空気中で24時間加湿した後に、排気初期は100℃にて10時間加熱し、その後に室温にて24時間真空排気したときの到達真空度にて行った。また、同時に特許文献2の真空用磁気センサを従来例とした。真空用モータコイルの評価結果を表1に示す。表中のガス放出の評価結果マークにおいて、×印は到達真空度が従来例1よりも1/10以上、○印は到達真空度が従来例1よりも1/20以上1/10以下、◎印は到達真空度が従来例1よりも1/20以下の場合を表す。
(イ) ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂とナフタレン型エポキシ樹脂とフェニルグリシジルエーテルと2エチル4メチルイミダゾールの混合物。配合比(重量比)=40/30/30/3。
(ロ) ビスフェノールA型エポキシ樹脂とポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルとポリオキシプロピルアミド系硬化剤の混合物。配合比(重量比)=50/50/30。主剤であるビスフェノールA型エポキシ樹脂と反応性希釈剤であるポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルに含まれるエポキシ基の総数とポリオキシプロピルアミド系硬化剤中の活性水素との当量比は0.95±0.05。
2 磁気抵抗効果素子
3 出力線
4 電源線
5 センサケーブル
6 基板
7 センサケース
8 真空用封止樹脂
9 Oリング
10 封止樹脂
Claims (10)
- エポキシ樹脂に充填材を配合した真空用封止樹脂において、
前記充填材は、粒子径が0.5μm〜2mmのポリオレフィン、フッ素樹脂またはそれらの混合物を少なくとも1種であり、その配合率が30Vol%〜70Vol%であることを特徴とする真空用封止樹脂。 - 前記ポリオレフィンは、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、環状ポリオレフィン、ポリキシリレンのいずれか一つ、またはそれらを組み合わせたものであることを特徴とする請求項1記載の真空用封止樹脂。
- 前記フッ素樹脂は、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルコキシエチレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンとエチレンの共重合体のいずれか一つ、またはそれらを組み合わせたものであることを特徴とする請求項1記載の真空用封止樹脂。
- 前記充填材は、表面がアルカリにて処理され粗化したものであることを特徴とする請求項1記載の真空用封止樹脂。
- 前記エポキシ樹脂は、少なくとも主剤と反応性希釈剤とアミン型硬化剤とから構成され、
前記主剤は、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、または、芳香族環、五員環、脂肪族六員環、ジシクロペンタジエン構造、ノボラック構造、メソゲン基のいずれかを含む環状の化学構造より選ばれる1つ、またはそれらの混合物であり、
前記反応性希釈剤の化学構造は、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテルなどの単官能型または直鎖脂肪族、ポリグリコール、ポリエーテルなどの2官能型、またはそれらの混合物であり、
前記アミン型硬化剤の配合比は、前記主剤と前記反応性希釈剤に含まれるエポキシ基の総数と、前記ポリプロピルアミド型硬化剤に含まれる活性水素の総数との当量比を0.9乃至1.1としたことを特徴とする請求項1記載の真空用封止樹脂。 - 前記エポキシ樹脂は、少なくとも主剤と触媒型硬化剤と反応性希釈剤とから構成され、
前記主剤は、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、または、芳香族環、五員環、脂肪族六員環、ジシクロペンタジエン構造、ノボラック構造、ベンゾオキサジン構造、メソゲン基のいずれかを含む環状の化学構造より選ばれる1つ、またはそれらの混合物であり、
前記触媒型硬化剤は、イミダゾール化合物または3フッ化ホウ素アミン錯体であり、前記イミダゾール化合物は2メチルイミダゾール、2エチル4メチルイミダゾール、nウンデシルイミダゾール、1ベンジル2メチルイミダゾールより選ばれる1つ、またはそれらの混合物であり、
前記3フッ化ホウ素アミン錯体は3フッ化ホウ素アニリン錯体、3フッ化ホウ素クロロフェニルアミン錯体、またはそれらの混合物であり、
前記反応性希釈剤の化学構造は、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテルなどの単官能型、または直鎖脂肪族、ポリグリコール、ポリエーテル、ポリチオールなどの2官能型、またはそれらの混合物であり、
配合比が前記主剤と前記反応性希釈剤との合計100重量部に対して前記触媒型硬化剤が1重量部以上7重量部以下であることを特徴とする請求項1記載の真空用封止樹脂。 - 前記充填材は、その一部を無機充填材で置換したことを特徴とする請求項1記載の真空用封止樹脂。
- 請求項1から7記載の真空用封止樹脂を、磁性材料、電気配線、コイル、電子部品、絶縁材料またはそれらを組み合わせた部品を収納した枠体内に封入して製造されたことを特徴とする真空用機器。
- 請求項1から7記載の真空用封止樹脂を、磁性材料、電気配線、コイル、電子部品、絶縁材料またはそれらを組み合わせた部品に対してモールド、ポッティング、隙間のシーリング、接着により製造したものであることを特徴とする真空用機器。
- 請求項1から7記載の真空用封止樹脂を、磁気抵抗効果素子と、永久磁石とを備えたセンサケース内に封入したものであることを特徴とする真空用磁気センサ。
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