JP2009162404A - 局所ドライルーム設備 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の局所ドライルーム設備は、ドライルーム10内を複数区分けした小部屋12と、区分けした前記小部屋12に接続しドライエアを供給する送風手段14と、前記小部屋の有機物濃度を測定する水晶振動子型センサ18と、前記小部屋の湿度を測定する湿度センサ20と、前記水晶振動子型センサ18と前記湿度センサ20の測定値に基づいて前記送風手段14からのドライエアの給気量を演算して前記小部屋12毎に予め定めた設定値に制御する制御手段16と、を備えたことを特徴としている。
【選択図】図1
Description
そこで気中水分濃度の低いドライエアを供給し、低湿度の環境下で製品を製造するドライルーム設備が利用されている。このような従来のドライルームは、一般に室内全体をドライ環境にする方法が採用されている。
また特許文献1に示すようなドライベンチ設備では、製造装置周辺および製品周辺の環境を制御する手法が取られていない。
図1は実施形態に係る局所ドライルーム設備の構成概略を示す図である。図示のように、局所ドライルーム設備は、ドライルーム10内の複数の小部屋12と、送風手段14と、制御手段16と、水晶振動子型センサ18と、湿度センサ20とを主な構成要件としている。
小部屋12は、ドライルーム10内に設置される区分けしたブースである。区分けした各小部屋12同士は、配管となる接続トンネル13で接続し直列に配置している。また小部屋12はドライルーム10で扱う製品の製造処理工程ごとに分けて複数配置している。本実施形態では一例として、有機半導体の製造処理工程について説明する。図示のようにドライルーム10内の小部屋12は、上流側から基板保管ストッカー12a、基板前処理室12b、絶縁膜生成室12c、金属電極蒸着室12d、有機半導体塗布室12e、有機半導体乾燥室12f、封止室12gの順に直列に配置している。
排気管26には還気管28が分岐接続している。還気管28は、排気管26と送風手段14を接続する配管である。
前述のように予め製造処理工程ごとに雰囲気中の有機物濃度および気中水分濃度の設定値が定められている。そこで制御手段16では、製造処理工程ごとに分けられている小部屋12の容積に基づいて、設定値を維持できるドライエアの必要給気量を演算で求めている。
Claims (2)
- ドライルーム内を複数区分けし互いに配管を介して接続した小部屋と、
区分けした前記小部屋に接続しドライエアを供給する送風手段と、
前記小部屋の有機物濃度を測定する水晶振動子型センサと、
前記小部屋の気中水分濃度を測定する湿度センサと、
前記水晶振動子型センサおよび前記湿度センサの測定値に基づいて前記送風手段からのドライエアの給気量を演算して前記小部屋毎に予め定めた有機物濃度および気中水分濃度の設定値に制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする局所ドライルーム設備。 - 前記小部屋にはドライエアの排気管が接続し、前記排気管は前記小部屋から排出されるドライエアの有機物濃度に基づいて前記送風手段に戻す還流路に接続していることを特徴とする請求項1に記載の局所ドライルーム設備。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007340258A JP5035543B2 (ja) | 2007-12-28 | 2007-12-28 | 局所ドライルーム設備 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2009162404A true JP2009162404A (ja) | 2009-07-23 |
JP5035543B2 JP5035543B2 (ja) | 2012-09-26 |
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JP (1) | JP5035543B2 (ja) |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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