JP2009160711A - エンドエフェクタ及びそれを備えた搬送装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウェハを把持する把持機構を備えたエンドエフェクタ3において、エンドエフェクタ3の上面に把持機構を備え、上面の裏面にも把持機構を備え、エンドエフェクタの上面及び裏面の両方でウェハを把持可能に構成する。
【選択図】図2
Description
また、ロボット自体の搬送速度を上げる場合は、強烈な空気の流れが発生し、ウェハがエンドエフェクタから外れるので、ウェハを搬送出来ないというような問題もあった。
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、1個のエンドエフェクタでウェハを少なくとも2枚以上搬送することができる半導体製造装置用ロボットを提供することを目的とする。
請求項1に記載の発明は、ウェハを把持する把持機構を備えたエンドエフェクタにおいて、前記エンドエフェクタの上面に前記把持機構を備え、前記上面の裏面にも前記把持機構を備え、前記エンドエフェクタの前記上面及び前記裏面の両方で前記ウェハを把持可能に構成されたことを特徴とするエンドエフェクタとするものである。
請求項2に記載の発明は、前記上面の前記把持機構は、前記エンドエフェクタの基端側に配置されたプッシャ機構と、前記プッシャ機構によって駆動されるプッシャと、前記エンドエフェクタの先端側に配置されたパッドと、を備え、前記プッシャの側壁と前記パッドの側壁とによって前記ウェハを狭持することを特徴とする請求項1記載のエンドエフェクタとするものである。
請求項3に記載の発明は、前記裏面の前記把持機構は、前記エンドエフェクタの基端側に配置されたプッシャ機構と、前記プッシャ機構によって駆動されるプッシャと、前記エンドエフェクタの先端側に配置されたパッドと、を備え、前記プッシャの側壁に設けられた凹部と前記パッドの側壁に設けられた凹部とによって前記ウェハを狭持することを特徴とする請求項1記載のエンドエフェクタとするものである。
請求項4に記載の発明は、前記上面と前記裏面の両方の前記把持機構が、前記エンドエフェクタの基端側に配置されたプッシャ機構と、前記プッシャ機構によって駆動されるプッシャと、前記エンドエフェクタの先端側に配置されたパッドと、を備え、前記プッシャの側壁に設けられた凹部と前記パッドの側壁に設けられた凹部とによって前記ウェハを狭持することを特徴とする請求項1記載のエンドエフェクタとするものである。
請求項5に記載の発明は、請求項1乃至4いずれかに記載のエンドエフェクタを備えたことを特徴とする搬送装置とするものである。
請求項6に記載の発明は、請求項5記載の搬送装置を備えたことを特徴とする半導体製造装置とするものである。
請求項7に記載の発明は、上面にウェハを把持する把持機構を備え、前記上面の裏面にも前記把持機構を備えたエンドエフェクタをアームの先端に備え、前記ウェハを多段に収容するカセットに対して前記ウェハを授受するロボットのウェハ搬送方法であって、前記カセットに収容されるべきウェハW1と、前記ウェハW1の直下の段に収容されるべきウェハW2とに対し、前記エンドエフェクタを前記ウェハW1と前記ウェハW2との間に侵入させ、前記上面の前記把持機構によって前記ウェハW1を把持または開放し、
前記エンドエフェクタを前記ウェハW1と前記ウェハW2との間に位置させたまま前記エンドエフェクタを下降させ、前記裏面の前記把持機構によって前記ウェハW2を把持または開放することを特徴とするウェハ搬送方法とするものである。
請求項8に記載の発明は、上面にウェハを把持する把持機構を備え、前記上面の裏面にも前記把持機構を備えたエンドエフェクタをアームの先端に備え、前記ウェハを多段に収容するカセットに対して前記ウェハを授受するロボットのウェハ搬送方法であって、前記カセットに収容されるべきウェハW1と、前記ウェハW1の直下の段に収容されるべきウェハW2とに対し、前記エンドエフェクタを前記ウェハW1と前記ウェハW2との間に侵入させ、前記裏面の前記把持機構によって前記ウェハW2を把持または開放し、
前記エンドエフェクタを前記ウェハW1と前記ウェハW2との間に位置させたまま前記エンドエフェクタを上昇させ、前記上面の前記把持機構によって前記ウェハW1を把持または開放することを特徴とするウェハ搬送方法とするものである。
請求項9に記載の発明は、半導体製造装置に設置され、前記半導体製造装置における処理済と未処理のウェハを搬送するロボットのウェハ搬送方法であって、上面にウェハを把持する把持機構を備え、前記上面の裏面にも前記把持機構を備えたエンドエフェクタをアームの先端に備え、前記ウェハを所望の位置へ授受するロボットのウェハ搬送方法において、前記未処理のウェハを前記上面の把持機構で把持して搬送し、前記処理済のウェハを前記裏面の把持機構で把持して搬送すること、を特徴とするウェハ搬送方法とするものである。
請求項2、3に記載の発明によると、ウェハの周囲の側面を把持する把持機構が構成でき、かつ、請求項3に記載の発明では裏面の把持機構であっても凹部によってウェハを落下させない。
請求項4に記載の発明によると、反転機構によってエンドエフェクタが反転しても上面、裏面ともにウェハを落下させない構成にできる。
請求項5、6に記載の発明によると、スループットを向上させた搬送装置にすることができる。
請求項7、8に記載の発明によると、カセットなどウェハが多段に積載される場所に対して、エンドエフェクタを上下2段のウェハの隙間に位置決めさせる1度のアクションと微小な昇降動作とによって上下2枚のウェハの授受が可能となり、搬送効率が向上する。
請求項9に記載の発明によると、汚れが嫌気される未処理のウェハをエンドエフェクタの上面で把持することによって汚れにくくさせ、未処理よりも比較的汚れが嫌気されない処理済のウェハを裏面で把持することによって、半導体製造装置の歩留まりを向上させることができる。
以上の構成によりロボット1は昇降機構により昇降し、アーム2は第1アーム2aの回転と第2アーム2bの回転とによってエンドエフェクタ3を動かし、エンドエフェクタ3で把持したウェハを所望の位置へと搬送する。
まず、エンドエフェクタ3上面の把持機構について説明する。エンドエフェクタ3のプレート3pの基端側には、プッシャ4が設けられている。プッシャ4の近傍には複数のパッド5が設けられている。また、エンドエフェクタ3の先端側にも同様なパッド5が複数設けられている。プッシャ4はエンドエフェクタ3の基端側に設けられている図示しないプッシャ機構によりエンドエフェクタ3の先端側へ微小に移動可能である。エンドエフェクタ3はこのパッド5にウェハWを載置し、その後プッシャ4を動作させてプッシャ4及びプレート3p先端側のパッド5とによって、少なくともウェハWの周囲3点を把持する。
エンドエフェクタ3裏面の把持機構について説明する。図2はエンドエフェクタ3の側面図であって、エンドエフェクタ3の基端側と先端側とを示す要部拡大図である。同図のように、本発明のエンドエフェクタ3は、プレート3pの裏面にも上記上面のプッシャ4及びパッド5が同様な配置で設けられている。裏面のプッシャ4を駆動するプッシャ機構も設けられている。裏面のプッシャ4及びパッド5は、上面のそれに対し、後述する凹部がさらに形成されている。
一方、エンドエフェクタ3の裏面においても、アーム2の回転によって把持したいウェハの上部にエンドエフェクタ3を位置決めしたのち、プッシャ機構によってプッシャ4がエンドエフェクタ3の先端側に移動(スライド)し、図2のようにプッシャ4に設けられている凹部4bの窪みがウェハWの側面と当接する。一方、プッシャ4に押されたウェハWは、図2のようにプレート3pの先端側のパッド5に設けられている凹部5bの窪みとも当接してエンドエフェクタ3に対して把持される。このように、裏面ではプッシャ4の凹部4bとパッド5の凹部5bの窪みにウェハWが入り込むようにして把持されるため、把持後はウェハWが落下しない。ウェハWはプッシャ4によりウェハWの重力よりも強い力でウェハを押し付けている為、ウェハは落下しない。
図6は本発明のエンドエフェクタ3を用い、ウェハを多段に収納するカセットに対してウェハを搬送する場合を示す側面図である。同図のウェハW1はカセットの上段側に載置されるウェハ、ウェハW2はウェハW1の直下段に載置されるウェハを示している。
2 アーム
2a 第1アーム
2b 第2アーム
3 エンドエフェクタ
3p プレート
4 プッシャ
4a 側壁
4b 凹部
5 パッド
5a 側壁
5b 凹部
W ウェハ
Claims (9)
- ウェハを把持する把持機構を備えたエンドエフェクタにおいて、
前記エンドエフェクタの上面に前記把持機構を備え、
前記上面の裏面にも前記把持機構を備え、
前記エンドエフェクタの前記上面及び前記裏面の両方で前記ウェハを把持可能に構成されたことを特徴とするエンドエフェクタ。 - 前記上面の前記把持機構は、前記エンドエフェクタの基端側に配置されたプッシャ機構と、前記プッシャ機構によって駆動されるプッシャと、前記エンドエフェクタの先端側に配置されたパッドと、を備え、
前記プッシャの側壁と前記パッドの側壁とによって前記ウェハを狭持することを特徴とする請求項1記載のエンドエフェクタ。 - 前記裏面の前記把持機構は、前記エンドエフェクタの基端側に配置されたプッシャ機構と、前記プッシャ機構によって駆動されるプッシャと、前記エンドエフェクタの先端側に配置されたパッドと、を備え、
前記プッシャの側壁に設けられた凹部と前記パッドの側壁に設けられた凹部とによって前記ウェハを狭持することを特徴とする請求項1記載のエンドエフェクタ。 - 前記上面と前記裏面の両方の前記把持機構が、前記エンドエフェクタの基端側に配置されたプッシャ機構と、前記プッシャ機構によって駆動されるプッシャと、前記エンドエフェクタの先端側に配置されたパッドと、を備え、
前記プッシャの側壁に設けられた凹部と前記パッドの側壁に設けられた凹部とによって前記ウェハを狭持することを特徴とする請求項1記載のエンドエフェクタ。 - 請求項1乃至4いずれかに記載のエンドエフェクタを備えたことを特徴とする搬送装置。
- 請求項5記載の搬送装置を備えたことを特徴とする半導体製造装置。
- 上面にウェハを把持する把持機構を備え、前記上面の裏面にも前記把持機構を備えたエンドエフェクタをアームの先端に備え、前記ウェハを多段に収容するカセットに対して前記ウェハを授受するロボットのウェハ搬送方法であって、
前記カセットに収容されるべきウェハW1と、前記ウェハW1の直下の段に収容されるべきウェハW2とに対し、
前記エンドエフェクタを前記ウェハW1と前記ウェハW2との間に侵入させ、
前記上面の前記把持機構によって前記ウェハW1を把持または開放し、
前記エンドエフェクタを前記ウェハW1と前記ウェハW2との間に位置させたまま前記エンドエフェクタを下降させ、
前記裏面の前記把持機構によって前記ウェハW2を把持または開放することを特徴とするウェハ搬送方法。 - 上面にウェハを把持する把持機構を備え、前記上面の裏面にも前記把持機構を備えたエンドエフェクタをアームの先端に備え、前記ウェハを多段に収容するカセットに対して前記ウェハを授受するロボットのウェハ搬送方法であって、
前記カセットに収容されるべきウェハW1と、前記ウェハW1の直下の段に収容されるべきウェハW2とに対し、
前記エンドエフェクタを前記ウェハW1と前記ウェハW2との間に侵入させ、
前記裏面の前記把持機構によって前記ウェハW2を把持または開放し、
前記エンドエフェクタを前記ウェハW1と前記ウェハW2との間に位置させたまま前記エンドエフェクタを上昇させ、
前記上面の前記把持機構によって前記ウェハW1を把持または開放することを特徴とするウェハ搬送方法。 - 半導体製造装置に設置され、前記半導体製造装置における処理済と未処理のウェハを搬送するロボットのウェハ搬送方法であって、上面にウェハを把持する把持機構を備え、前記上面の裏面にも前記把持機構を備えたエンドエフェクタをアームの先端に備え、前記ウェハを所望の位置へ授受するロボットのウェハ搬送方法において、
前記未処理のウェハを前記上面の把持機構で把持して搬送し、
前記処理済のウェハを前記裏面の把持機構で把持して搬送すること、を特徴とするウェハ搬送方法。
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