JP2009154523A - 軟性フィルム及びそれを備える表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、絶縁フィルムと金属層との厚みの割合を一定の数値に限定することによって、めっき性、密着強度、耐熱性、耐屈曲性、及び耐薬品性などの特徴が優れる軟性フィルムを提供するためのものである。
【解決手段】本発明は、絶縁フィルム、及び絶縁フィルム上に配置される金属層を含み、金属層の厚みと絶縁フィルムの厚みとの割合は1:1.5乃至1:10であることを特徴とする。
【選択図】図4
【解決手段】本発明は、絶縁フィルム、及び絶縁フィルム上に配置される金属層を含み、金属層の厚みと絶縁フィルムの厚みとの割合は1:1.5乃至1:10であることを特徴とする。
【選択図】図4
Description
本発明は、軟性フィルムに関し、より詳しくは、金属層の厚みと絶縁フィルムの厚みの割合が1:1.5乃至1:10になるようにすることによって、剥離強度、寸法安定性、及び引張強度などを向上できる軟性フィルムに関する。
平板ディスプレイ技術が発達するにつれて、液晶表示装置(Liquid Crystal Display:LCD)、プラズマディスプレイパネル(Plasma Display Panel:PDP)、有機電界発光表示装置(Organic Light Emitting Device:OLED)のような種々の平板ディスプレイ装置が開発されている。平板ディスプレイは駆動部及びパネルを含み、駆動部から伝達する画像信号がパネルに含まれる多数の電極に伝達されることにより画像を表示する。
平板ディスプレイに含まれる駆動部は、印刷回路基板(Printed Circuit Board:PCB)であることができ、パネルに含まれる多数の電極に画像信号を印加してパネルに画像を表示する。駆動部から印加する画像信号は、COG(Chip-On-Glass)方式などによりパネルの電極に伝達されることができる。
COG方式は集積回路をパネルに含まれるガラス基板に直接実装する方式であって、製造コストを低めることができる。しかしながら、ガラス基板上に集積回路を実装する空間を確保しなければならないので、パネルのガラス基板のサイズが増加する。
本発明の目的は、軟性フィルムに含まれる絶縁フィルムの厚みと金属層の厚みを一定の範囲に制限することによって、剥離強度、寸法安定性、及び引張強度などが優れる軟性フィルムを提供することにある。
上記の目的を達成するために、本発明に係る軟性フィルムは、絶縁フィルム、及び上記絶縁フィルム上に配置される金属層を含み、上記金属層の厚みと上記絶縁フィルムの厚みは1:1.5乃至1:10の割合を有する。
また、本発明に係る軟性フィルムは、絶縁フィルム、上記絶縁フィルム上に無電解めっきされる金属層、及び上記金属層上に配置される集積回路チップを含み、上記金属層の厚みと上記絶縁フィルムの厚みとの割合は1:1.5乃至1:10であり、上記集積回路チップは上記金属層に形成される回路パターンと連結される。
また、本発明に係る表示装置は、画像を表示するパネル、パネルに画像信号を印加する駆動部、パネルと駆動部とを連結する軟性フィルムを含み、金属層の厚みと上記絶縁フィルムの厚みとは1:1.5乃至1:10の割合を有する。
本発明によると、絶縁フィルムと金属層の厚みの割合を一定の数値に限定することによって、めっき性、密着強度、耐熱性、耐屈曲性、及び耐薬品性などの特徴が優れる軟性フィルムが得られる。
以下、本発明の好ましい実施形態に対して図面を参照しつつ説明する。
図1a乃至図1bは、本発明の一実施形態に係る軟性フィルムの断面を示す図である。軟性フィルム100a、100bは、TAB(Tape Automated Bonding)方式の表示装置が含む駆動部から印加する画像信号をパネルの電極に伝達する。
軟性フィルム100a、100bは、絶縁性を有するフィルム上に金属層を形成し、金属層に回路パターンを印刷することで、駆動部から印加する画像信号をパネルの電極に伝達する。したがって、TAB方式に使われる軟性フィルムの回路パターンは、駆動部の回路及びパネルの電極と連結されて駆動部から印加する信号をパネルに伝達する。
本実施形態において、図1aは単面構造を有する2層構造の軟性フィルム100aを図示し、図1bは両面構造を有する2層構造の軟性フィルム100bを図示する。図1aを参照すると、軟性フィルム100aは、絶縁フィルム110a、絶縁フィルム110a上に配置される第1金属層120a、及び第1金属層120a上に配置される第2金属層130aを含む。
図1bは、両面構造を有する軟性フィルムの断面を示す図である。図1bを参照すると、両面構造を有する軟性フィルム100bは、絶縁フィルム110bの上下面に形成される第1金属層120b及び第1金属層120b上に形成される第2金属層130bを含む。第1金属層120bは無電解めっき方式により形成することができ、第2金属層130bは電解めっき方式により形成することができる。
絶縁フィルム110a、110bは、絶縁性を有するポリイミド(polyimide)、ポリエステル(polyester)、液晶ポリマー(liquid crystal polymer)などの高分子物質を含むことができる。絶縁フィルム110a、110b上に形成される第1金属層120a、130aは、ニッケル、金、クロム、または銅などを含むことができる。
第1金属層120a、130aは、絶縁フィルム110a、110b上に無電解めっき方式などにより形成されることができる。めっき方式は、電流を使用する電解めっき及び電流を印加せず、金属層120a〜130a、120b〜130bを形成する無電解めっき方式を含む。本実施形態では、第1金属層120a、120bを無電解めっき方式により形成し、第2金属層130a、130bは電解めっき方式により形成することと仮定する。
絶縁フィルム110a、110b上にシード層(Seed layer)と呼ばれる第1金属層120a、120bを無電解めっき方式により形成する。第1金属層120a、120bは、ニッケル、銅、金、クロムなどを含むことができ、第2金属層130a、130bを形成する電解めっき工程の効率性を高めるために、電気抵抗の低いニッケルまたは銅で第1金属層120a、120bを形成することができる。金は製造コストの面において活用が困難であり、クロムは電気導電性が相対的に低く、第2金属層130a、130bを形成する電解めっき工程の効率性が低下することがある。
第1金属層120a、120bを形成する無電解めっきは、電流でない還元剤の化学反応によりめっき液の中の金属イオンを金属に析出するめっき方式であって、置換めっき法、または化学還元めっき法などの方法を含む。化学還元めっき法により第1金属層120a、120bを形成する場合、還元剤を利用してニッケルまたは銅イオンを含む無電解めっき溶液から化学的に金属イオンを析出して絶縁フィルム110a、110b上に第1金属層120a、120bを希望する厚みで形成することができる。また、上記無電解めっき溶液と絶縁フィルム110a、110bが均等に接触するようにすることで、均一な厚みで第1金属層120a、120bを形成することが可能である。
上記無電解めっき溶液は、第1金属層120a、120bに形成しようとする金属の種類によって異なる成分を含む。一実施形態として、第1金属層120a、120bを銅で形成しようとする場合、上記無電解めっき溶液は硫酸銅水溶液成分を含むことができる。一方、上記無電解めっき溶液に光沢剤及び安定剤成分を追加することによって、使用後に残存した無電解めっき溶液の保存及び再使用を容易にすることができる。
第1金属層120a、120b上に電解めっき方式を使用して第2金属層130a、130bを形成する。第2金属層130a、130bは金または銅で形成することができるが、製造コストの面において有利な銅で形成することが一般的である。硫酸銅水溶液成分を含む電解めっき液に第1金属層120a、120bが形成された絶縁フィルム110a、110bを浸漬した後、形成しようとする第2金属層130a、130bの厚みによって電流を加えることによって、銅イオンを銅に析出して第2金属層130a、130bを形成する。
次の表1は、絶縁フィルムの厚みが38μmの場合を基準にして金属層の厚みに従う効果を実験した結果である。
表1を参照すると、第1金属層120a、120bと第2金属層130a、130bとの厚みの和が絶縁フィルム110a、110bの厚みと1:1.5乃至1:10の割合を有するように無電解めっき及び電解めっき工程を遂行することが好ましい。金属層120a〜130a、120b〜130bの厚みが絶縁フィルム110a、110bの厚みの1/10より薄く形成されると、金属層120a〜130a、120b〜130bの剥離強度が低くなり、絶縁フィルム110a、110bと容易に分離されるか、金属層120a〜130a、120b〜130bに形成される回路パターンの寸法安定性が低下することがある。一方、金属層120a〜130a、120b〜130bの厚みが絶縁フィルム110a、110bの厚みの2/3より大きければ、軟性フィルム100aの軟性が低下したり、めっき時間が長くなることによって、めっき溶液の副成分により金属層120a〜130a、120b〜130bが損傷されることがある。
一実施形態として、ポリイミドフィルムで絶縁フィルム110a、110bを形成する場合、15乃至40μmの厚みで絶縁フィルム110a、110bを形成することができ、好ましくは35乃至38μmの厚みで絶縁フィルム110a、110bを形成することができる。したがって、上記のような条件下で金属層120a〜130a、120b〜130bの厚みは4乃至13μmの厚みを有するように形成することができる。
次の表2は、第2金属層の厚みが8μmの場合を基準にしてそれに従う効果を測定した結果である。
表2を参照すると、第1金属層120a、120bの厚みと第2金属層130a、130bの厚みとは1:5乃至1:120の割合を有することができる。第1金属層120a、120bの厚みが第2金属層130a、130bの厚みの1/5より大きい場合、第1金属層120a、120bを形成する無電解めっき時間が長くなることにつれて、無電解めっき溶液に含まれる副成分により第1金属層120a、120bの表面の剥離強度が低下することがある。
また、第1金属層120a、120bの厚みが第2金属層130a、130bの厚みの1/120より小さければ、金属層120a〜130a、120b〜130bに回路パターンを形成し、上記回路パターン上にスズ層を形成する過程で第1金属層120a、120bがスズに置換されることができる。一実施形態として、金属層120a〜130a、120b〜130bの厚みが4乃至13μmの場合、第1金属層120a、120bは0.1μm内外の厚みで形成し、第2金属層130a、130bを8μm内外の厚みで形成することができる。
金属層120a〜130a、120b〜130bをエッチングして回路パターンを形成すると、上記回路パターンを保護するために、第2金属層130a、130b上に接着層で保護フィルムを付着する。保護フィルムは回路パターンが保護できる絶縁物質を含むことができ、一実施形態として、ポリエチレン樹脂(PolyEthylene Terephthalate:PET)を含むことができる。
保護フィルムを第2金属層130a、130bに付着する接着層は、エポキシ(Epoxy)を含むことができ、2乃至10μmの厚みで形成されることができる。接着層の厚みが2μmより小さければ、軟性フィルム100a、100bの輸送または保管過程で保護フィルムが分離されることがあり、接着層の厚みが10μmより大きければ、生産コストが増加し、製造工程で時間が長くかかり、保護フィルムの除去が困難であることがある。
図2a及び図2bは、本発明の一実施形態に係るTCP(Tape Carrier Package)を示す図である。図2aを参照すると、本実施形態に係るTCP200は、軟性フィルム210、軟性フィルム210上に形成される回路パターン220、及び集積回路チップ230を含む。
軟性フィルム210は、絶縁フィルム、及び絶縁フィルム上に形成される金属層を含む。金属層は絶縁フィルム上に形成される第1金属層、及び第1金属層上に形成される第2金属層を含むことができる。第1金属層は、無電解めっき方式により形成されることができ、第2金属層は電解めっき方式により形成されることができる。
第1金属層は、ニッケル、クロム、金、または銅などを含むことができ、第2金属層を形成する電解めっき工程の効率性を考慮して電気導電性が優れるニッケルまたは銅などで形成することが好ましい。第1金属層を銅で形成しようとする場合、硫酸銅水溶液成分を含む無電解めっき溶液に絶縁フィルムを浸漬し、還元剤を利用して銅イオンを銅に析出することで、第1金属層を無電解めっきすることができる。上記還元剤としては、ホルムアルデヒド(Formaldehyde:HCHO)系列の物質が使われることができる。
第2金属層は、硫酸銅水溶液成分を含む電解めっき溶液に所定の電流を印加して銅イオンを銅に析出することにより形成することができる。印加される電流の量は形成しようとする第2金属層の厚みによって調節することができる。第2金属層が形成されると、第1金属層及び第2金属層をエッチングすることにより回路パターン220を形成する。
軟性フィルム210に形成される回路パターン220は、集積回路チップ230と連結されるインナーリード(Inner Lead)220a、及び表示装置の駆動部またはパネルと連結されるアウターリード(Outer Lead)220bを含むことができる。回路パターン220のピッチは、TCP200が適用される表示装置の解像度などによって変わることができるが、通常的にインナーリード(Inner Lead)220aは30μm内外、アウターリード(Outer Lead)220bは60μm内外のピッチを有する。
図2bは、図2aに示すTCPの2−2’方向の断面を示す断面図である。図2bを参照すると、本実施形態に係るTCP200は、軟性フィルム210、集積回路チップ230、及び軟性フィルム210と集積回路チップ230とを連結する金バンプ240を含むことができる。
軟性フィルム210は、絶縁フィルム212、絶縁フィルム212上に形成される金属層214を含む。絶縁フィルム212は軟性フィルム210を構成する基本フィルム(Base film)であって、絶縁性を有するポリイミド、ポリエステル、または液晶ポリマーなどの物質を含むことができる。絶縁フィルム212は、軟性フィルム210の軟性、耐熱性、金属層214との剥離強度、及び回路パターン220の寸法安定性などを考慮して15乃至40μmの厚みで形成されることができ、好ましくは35乃至38μmの厚みを有することができる。
金属層214は、電気導電性を有するニッケル、クロム、金、または銅などの金属を含む薄膜層であって、第1金属層及び第2金属層を含む2層構造で形成されることができる。第1金属層は、ニッケル、金、クロム、または銅などで無電解めっき方式により形成されることができ、第2金属層は、金、または銅などで電解めっき方式により形成されることができる。この際、第2金属層を形成する電解めっき工程の効率性を考慮して第1金属層をニッケルまたは銅で形成することが好ましい。
金属層214の厚みと絶縁フィルム212の厚みとが1:1.5乃至1:10の割合を有するように金属層214を形成することが好ましい。金属層214の厚みが絶縁フィルム212の厚みの1/10より小さければ、回路パターン220の寸法安定性が低下し、金属層214の剥離強度が低下することがある。また、金属層214の厚みが絶縁フィルム212の厚みの2/3より大きければ、金属層212を形成するめっき工程時間が長くなるにつれて、めっき液の副成分により軟性フィルム210の物理的特性が損傷されることがある。
集積回路チップ230は、金属層214をエッチングすることにより形成される回路パターン220と連結されるように軟性フィルム210上に配置される。本実施形態では、集積回路チップ230が配置される軟性フィルム210の領域にデバイスホール(Device Hole)250が形成される。集積回路チップ230が配置される領域にデバイスホール250を形成し、集積回路チップ230と連結される回路パターン220にフライングリード(Flying Lead)という電極を形成した後、集積回路チップ230の金バンプ240と上記フライングリードとを連結する。上記フライングリードにはスズがめっきされることができ、熱または超音波を利用してスズがめっきされたフライングリードと金バンプ240との間にAu−Sn結合を形成することができる。
図3a及び図3bは、本発明の一実施形態に係る軟性フィルムを含むCOF(Chip-On-Film)を示す図である。図3aを参照すると、本実施形態に係るCOF300は、軟性フィルム310、軟性フィルム310上に印刷される回路パターン320、及び回路パターン320と連結されるように軟性フィルム310上に付着される集積回路チップ330を含む。
軟性フィルム310は、絶縁フィルム、及び絶縁フィルム上に形成される金属層を含む。上記金属層をエッチングすることにより回路パターン320が形成され、回路パターン320は、表示装置の駆動部またはパネルと連結されるアウターリード(Outer Lead)320b及び集積回路チップ330と連結されるインナーリード(Inner Lead)320aを含む。アウターリード(Outer Lead)320bは、上記駆動部またはパネルと異方性導電フィルム(Anisotropic Conductive Film:ACF)を通じて連結されることができる。
アウターリード(Outer Lead)320bは、OLB(Outer Lead Bonding)パッドを介して表示装置の駆動部またはパネルと連結され、インナーリード(Inner Lead)320aはILB(Inner Lead Bonding)パッドを介して集積回路チップ330と連結されることができる。特に、インナーリード(Inner Lead)320a上にスズ層をめっきし、集積回路チップ330の金バンプと上記スズ層に熱または超音波を加えてAu−Sn結合を形成することによって、集積回路チップ330とインナーリード(Inner Lead)320aとを連結することができる。
軟性フィルム310に含まれる絶縁フィルムの厚みと金属層の厚みとは1:1.5乃至1:10の割合を有することが好ましい。金属層の厚みが絶縁フィルムの厚みの1/10より小さければ、金属層に形成される回路パターンの寸法安定性が低下したり、金属層の剥離強度が弱くなることによって、金属層が絶縁フィルムから容易に分離されることがある。また、金属層の厚みが絶縁フィルムの厚みの2/3より大きければ、金属層を形成するめっき工程時間が長くなるにつれて、めっき溶液の副成分により絶縁フィルムが損傷されることがある。
一方、金属層は、第1金属層及び第2金属層を含む2層構造を有することができる。第1金属層は、無電解めっき方式により形成することができ、ニッケル、クロム、金、または銅などを含む。第2金属層は電解めっき方式により形成することができ、金、または銅などを含む。第2金属層を形成する電解めっき工程の効率性を高めるために、電気抵抗の低い銅またはニッケルなどで第1金属層を形成することができる。
金属層が2層構造を有する場合、第1金属層の厚みと第2金属層の厚みとは1:5乃至1:120で形成することが好ましい。上記の割合は、第2金属層を形成する電解めっき工程の効率性及び回路パターン320上にスズ層をめっきする場合、第1金属層とスズの置換現象の発生を抑制するための数値であって、好ましくは、第1金属層は0.1μm内外、第2金属層は4乃至13μm内外の厚みで形成することができる。
図3bは、図3aに示すCOFの3−3’方向の断面を示す断面図である。図3bを参照すると、本実施形態に係るCOF300は、絶縁フィルム312と絶縁フィルム312上に形成される金属層314とを含む軟性フィルム310、金属層314に形成される回路パターン320と連結される集積回路チップ330、及び集積回路チップ330と回路パターン320とを連結する金バンプ340を含む。
絶縁フィルム312は軟性フィルム310に含まれる基本フィルムであって、絶縁性を有するポリイミド、ポリエステル、または液晶ポリマーなどを含むことができる。最近は、剥離強度、耐熱性などの物性を考慮してポリイミドが主に使われて、絶縁フィルム312は金属層314との剥離強度、軟性などを考慮して15乃至40μmの厚みで形成することができ、好ましくは35乃至38μmの厚みで形成することができる。
金属層314は、電気導電性を有する金属で形成される薄膜層であって、絶縁フィルム312上に形成される第1金属層、及び第1金属層上に形成される第2金属層を含むことができる。第1金属層は、無電解めっき方式を利用して、ニッケル、クロム、金、または銅で形成することができ、第2金属層は電解めっき方式を利用して金または銅で形成することができる。金属層314の厚みは絶縁フィルム312の厚みと比較して1/5乃至2/3の値を有することが好ましい。
金属層314の厚みが絶縁フィルム312厚みの1/5より小さければ、剥離強度が低下するにつれて、金属層314が容易に分離されるか、薄過ぎる厚みにより寸法安定性が低下して、金属層314に微細回路パターンを形成することが困難であることがある。一方、金属層314の厚みが絶縁フィルム312の厚みの2/3より大きければ、軟性フィルム310の軟性が低下し、めっき溶液の副成分により軟性フィルム310の物理的特性が低下することがある。
集積回路チップ330は、回路パターン320のインナーリード(Inner Lead)320aと連結されて表示装置の駆動部から伝達する画像信号をパネルに転送する。インナーリード(Inner Lead)320aは、COF300と連結される表示装置の解像度によって異なるピッチを有することができる。最近は、表示装置の解像度の増加によって30μm内外のピッチでインナーリード(Inner Lead)320aを形成する。集積回路チップ330は、金バンプ340を通じてインナーリード(Inner Lead)320aと連結されることができる。
図3bを参照すると、COF300にはTCP200とは異なり、デバイスホール250が形成されない。デバイスホール250を形成しないことによって、COF300は、TCP200のフライングリードの存在に従うファインピッチ(Fine Pitch)対応の問題点を克服することができ、軟性が優れてベンディング(Bending)のための別途のスリットを形成する必要がないので、製造工程の効率を高めることができる。一実施形態として、TCP200で40μm内外のピッチを有するリード(Lead)を形成することに比べて、COF300では30μm内外のピッチを有するリード(Lead)を形成できるので、解像度の高い表示装置に適用することに有利である。
図4は、本発明の一実施形態に係る表示装置を示す図である。図4を参照すると、本実施形態に係る表示装置400は、画像を表示するパネル410、パネル410に画像信号を印加する駆動部420、430、パネル410と駆動部420、430とを連結する軟性フィルム440、及び軟性フィルム440をパネル410または駆動部420、430と付着する導電性フィルム450を含む。
本実施形態に係る表示装置400は平面表示装置(Flat Panel Display:FPD)であって、液晶表示装置(Liquid Crystal Display:LCD)、プラズマディスプレイパネル(Plasma Display Panel:PDP)、または有機電界発光表示装置(Organic Light Emitting Device)でありうる。
パネル410は画像を表示する多数の画素を含む。パネル410には、駆動部420、430と連結される多数の電極が配置され、上記電極が交差する領域に画素が形成される。上記の電極は、第1電極410a、及び第1電極410aと交差する方向に形成される第2電極410bを含むことができ、一実施形態として、第1電極410aは水平方向、第2電極410bは垂直方向に形成されることができる。
駆動部420、430は、スキャンドライバ420、及びデータドライバ430を含むことができ、パネル410に形成された第1電極410a及び第2電極410bと連結されることができる。
スキャンドライバ420は、第1電極410aにスキャン信号を印加してデータドライバ430が垂直方向に配列された第2電極410bにデータ信号が転送できるようにする。スキャンドライバ420が第1電極410aにスキャン信号を印加すると、スキャン信号が印加された第1電極410aにデータ信号が印加できるようになり、データドライバ430から転送するデータ信号によって画像がパネル400に表示される。スキャンドライバ420及びデータドライバ430から転送する信号は軟性フィルム440を通じてパネル400の電極に伝達される。
軟性フィルム440は所定の回路パターンが印刷された軟性を有するフィルムであって、絶縁性を有する絶縁フィルム、上記絶縁フィルム上に形成される金属層、及び上記金属層に形成される回路パターンと連結される集積回路チップなどを含むことができる。駆動部420、430から印加する画像信号は、軟性フィルム440の回路パターン及び集積回路チップを通じてパネル410の電極に伝達される。軟性フィルム440は、パネル410及び駆動部420、430と導電性フィルム450で連結することができる。
導電性フィルム450は、接着性を有する薄膜形態のフィルムであって、軟性フィルム440とパネルとの間、及び駆動部420、430と軟性フィルム440との間に配置される。一実施形態として、導電性フィルム450は異方性導電フィルム(Anisotropic Conductive Film:ACF)でありうる。
図5は、図4に示す表示装置のA−A’の断面を示す断面図である。
図5を参照すると、本実施形態に係る表示装置500は、画像を表示するパネル510、パネル510に画像信号を印加する駆動部530、駆動部530とパネル510とを連結する軟性フィルム540、及び軟性フィルム540を駆動部540及びパネル510と電気的に連結される導電性フィルム550を含む。
また、本実施形態に係る表示装置500は、軟性フィルム540と導電性フィルム550とが連結される領域を封入する樹脂560をさらに含むことができる。樹脂560は、絶縁物質で形成されることができ、軟性フィルム540と導電性フィルム550とが連結される領域に流入できる不純物を遮断することによって、パネル510と連結される軟性フィルム540の信号ラインの損傷を防止し、寿命を延長する。
本図面に図示してはいないが、パネル510は横方向に配置される多数のスキャン電極、及び上記スキャン電極と交差するように配置される多数のデータ電極を含むことができる。A−A’方向に配置されるデータ電極は、図5に図示された導電性フィルム550を通じて軟性フィルム540と連結されて、データドライバ530から印加する画像信号を受信し、それによって画像を表示する。
データドライバ530は、基板530a上に形成される駆動IC530b、及び駆動IC530bを保護する保護樹脂530cを含む。保護樹脂530cは絶縁性を有する物質で形成されることができ、基板530a上に形成される回路パターン(図示せず)及び駆動IC530bを外部から流入できる不純物から遮断する。駆動IC530bは、表示装置500の制御部(図示せず)から転送する制御信号によって画像信号を軟性フィルム540を通じてパネル510に印加する。
パネル510とデータドライバ530との間に配置される軟性フィルム540は、絶縁性を有するポリイミドなどで形成されるベースフィルム540a、ベースフィルム540a上に形成される金属薄膜540b、金属薄膜に形成される所定の回路パターンと連結されるIC540c、及び上記回路パターンとIC540cを封入して保護するレジン(Resin)保護膜540dを含む。
図6は、本発明の他の実施形態に係る表示装置を示す図である。
導電性フィルム650を通じて軟性フィルム640がパネル610及び駆動部620、630と付着されると、導電性フィルム650と付着された軟性フィルム640を樹脂660で封入することができる。図6を参照すると、導電性フィルム650に付着された軟性フィルム640の領域を樹脂660で封入して連結された領域の破損を防止し、外部から流入する不純物を遮断することができる。
以上、本発明の好ましい実施形態に対して図示及び説明したが、本発明は前述した特定の実施形態に限定されず、請求範囲で請求する本発明の要旨を逸脱することなく、当該発明が属する技術分野で通常の知識を有する者により多様な変形実施が可能であることは勿論であり、このような変形実施は本発明の技術的思想や展望から個別的に理解されてはならない。
100a〜100b 軟性フィルム
110a〜110b 絶縁フィルム
120a〜120b 第1金属層
130c〜130b 第2金属層
200 TCP
300 COF
110a〜110b 絶縁フィルム
120a〜120b 第1金属層
130c〜130b 第2金属層
200 TCP
300 COF
Claims (19)
- 絶縁フィルムと、
前記絶縁フィルム上に配置される金属層とを含み、
前記金属層の厚みは前記絶縁フィルムの厚みと1:1.5乃至1:10の割合を有することを特徴とする軟性フィルム。 - 前記絶縁フィルムは、ポリイミドを含むことを特徴とする請求項1に記載の軟性フィルム。
- 前記金属層は、
前記絶縁フィルム上に配置される第1金属層と、
前記第1金属層に配置される第2金属層と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の軟性フィルム。 - 前記第1金属層は、ニッケル、金、クロム、及び銅のうち、少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項3に記載の軟性フィルム。
- 前記第2金属層は、金及び銅のうち、少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項3に記載の軟性フィルム。
- 前記金属層の厚みは、前記絶縁フィルムの厚みと1:1.5乃至1:120の割合を有することを特徴とする請求項3に記載の軟性フィルム。
- 前記金属層は、その上に印刷された回路パターンをさらに含むことを特徴とする請求項3に記載の軟性フィルム。
- 絶縁フィルムと、
前記絶縁フィルム上に配置され、その上に形成される回路パターンを含む金属層と、
前記金属層上に配置される集積回路チップと、を含み、
前記金属層の厚みは前記絶縁フィルムの厚みと1:1.5乃至1:10の割合を有し、前記集積回路チップが前記回路パターンに連結されたことを特徴とする軟性フィルム。 - 前記集積回路チップが配置される領域に形成されたデバイスホールをさらに含むことを特徴とする請求項8に記載の軟性フィルム。
- 前記金属層は、
前記絶縁フィルム上に電解めっきされた第1金属層と、
前記第1金属層上に電解めっきされた第2金属層と、
を含むことを特徴とする請求項8に記載の軟性フィルム。 - 前記金属層の厚みは前記絶縁フィルムの厚みと1:1.5乃至1:10の割合を有することを特徴とする請求項10に記載の軟性フィルム。
- 前記金属層上に形成された金バンプをさらに含み、
前記集積回路チップは前記金バンプを貫通して前記回路パターンに連結されることを特徴とする請求項8に記載の軟性フィルム。 - パネルと、
駆動部と、
前記パネルと前記駆動部との間に配置される軟性フィルムと、を含み、
前記軟性フィルムは、
絶縁フィルムと、
前記絶縁フィルム上に配置され、その上に形成される回路パターンを含む金属層と、
前記金属層上に配置される集積回路チップと、を含み、
前記金属層の厚みは前記絶縁フィルムの厚みと1:1.5乃至1:10の割合を有することを特徴とする表示装置。 - 前記パネルは、
第1電極と、
前記第1電極と交差する方向に形成された第2電極とを含み、
前記第1電極と前記第2電極は、前記回路パターンに連結されたことを特徴とする請求項13に記載の表示装置。 - 前記金属層は、
前記絶縁フィルム上に配置される第1金属層と、
前記第1金属層に配置される第2金属層と、
を含むことを特徴とする請求項13に記載の表示装置。 - 前記金属層の厚みは、前記絶縁フィルムの厚みと1:1.5乃至1:120の割合を有することを特徴とする請求項15に記載の表示装置。
- 前記パネルと前記駆動部のうち、少なくとも1つを前記軟性フィルムに連結する導電性フィルムをさらに含むことを特徴とする請求項13に記載の表示装置。
- 前記導電性フィルムは異方性導電フィルムであることを特徴とする請求項17に記載の表示装置。
- 前記導電性フィルムに接触している前記軟性フィルムの一部分を封入する樹脂をさらに含むことを特徴とする請求項13に記載の表示装置。
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