JP2009147116A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2009147116A5
JP2009147116A5 JP2007322993A JP2007322993A JP2009147116A5 JP 2009147116 A5 JP2009147116 A5 JP 2009147116A5 JP 2007322993 A JP2007322993 A JP 2007322993A JP 2007322993 A JP2007322993 A JP 2007322993A JP 2009147116 A5 JP2009147116 A5 JP 2009147116A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
semiconductor
adhesive sheet
semiconductors
semiconductor element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007322993A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2009147116A (ja
JP5292793B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2007322993A priority Critical patent/JP5292793B2/ja
Priority claimed from JP2007322993A external-priority patent/JP5292793B2/ja
Publication of JP2009147116A publication Critical patent/JP2009147116A/ja
Publication of JP2009147116A5 publication Critical patent/JP2009147116A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5292793B2 publication Critical patent/JP5292793B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2007322993A 2007-12-14 2007-12-14 半導体用接着シート、それを用いた半導体装置および半導体装置の製造方法 Active JP5292793B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007322993A JP5292793B2 (ja) 2007-12-14 2007-12-14 半導体用接着シート、それを用いた半導体装置および半導体装置の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007322993A JP5292793B2 (ja) 2007-12-14 2007-12-14 半導体用接着シート、それを用いた半導体装置および半導体装置の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2009147116A JP2009147116A (ja) 2009-07-02
JP2009147116A5 true JP2009147116A5 (enExample) 2011-01-20
JP5292793B2 JP5292793B2 (ja) 2013-09-18

Family

ID=40917388

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007322993A Active JP5292793B2 (ja) 2007-12-14 2007-12-14 半導体用接着シート、それを用いた半導体装置および半導体装置の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5292793B2 (enExample)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014192462A (ja) * 2013-03-28 2014-10-06 Lintec Corp 樹脂膜形成用シート
CN105102221B (zh) 2013-04-16 2017-06-06 东洋纺株式会社 金属箔层叠体
JP6476517B2 (ja) * 2015-02-02 2019-03-06 ナミックス株式会社 フィルム状接着剤、それを用いた半導体装置
KR102202054B1 (ko) 2018-01-22 2021-01-11 주식회사 엘지화학 액정 배향제 조성물, 이를 이용한 액정 배향막의 제조 방법, 및 이를 이용한 액정 배향막
JP7539769B2 (ja) * 2019-12-18 2024-08-26 日東電工株式会社 ダイボンドシート、及び、ダイシングダイボンドフィルム

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001237268A (ja) * 2000-02-22 2001-08-31 Nec Corp 半導体素子の実装方法及び製造装置
JP4211569B2 (ja) * 2002-12-16 2009-01-21 宇部興産株式会社 ポリイミドシロキサン絶縁膜用組成物、絶縁膜、および、絶縁膜の形成方法
US20040132888A1 (en) * 2002-12-16 2004-07-08 Ube Industries, Ltd. Electronic device packaging and curable resin composition
JP4449325B2 (ja) * 2003-04-17 2010-04-14 住友ベークライト株式会社 半導体用接着フィルム、半導体装置、及び半導体装置の製造方法。
JP2004319823A (ja) * 2003-04-17 2004-11-11 Sumitomo Bakelite Co Ltd 半導体用接着フィルム、半導体装置、及び半導体装置の製造方法。
WO2006132165A1 (ja) * 2005-06-06 2006-12-14 Toray Industries, Inc. 半導体用接着組成物、それを用いた半導体装置および半導体装置の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5010668B2 (ja) 積層型半導体集積装置の製造方法
TWI797062B (zh) 晶圓加工用接著材、晶圓層合體及薄型晶圓之製造方法
JP2015195240A5 (enExample)
CN1328770C (zh) 半导体封装件及其制备方法
JP2008094870A5 (enExample)
JP2009147116A5 (enExample)
CN106104765A (zh) 晶片加工体、晶片加工用暂时粘着材料以及薄型晶片的制造方法
CN101445709A (zh) 半导体组装芯片粘接用粘合剂组合物及由其制备的粘合膜
US9458365B2 (en) Temporary bonding adhesive compositions and methods of manufacturing a semiconductor device using the same
TWI721165B (zh) 半導體封止用之附有基材之封止材、半導體裝置以及半導體裝置之製造方法
JPWO2023120627A5 (enExample)
JP2009194054A5 (enExample)
JPWO2023120625A5 (enExample)
CN109072038A (zh) 包含至少一种非线性有机聚硅氧烷的粘合剂分层
JP6185342B2 (ja) 封止材積層複合体、封止後半導体素子搭載基板又は封止後半導体素子形成ウエハ、及び半導体装置の製造方法
JP2008156474A5 (enExample)
CN110112315B (zh) 一种柔性背板、柔性背板的制备方法以及显示面板
JP6947132B2 (ja) ウエハ加工用仮接着剤、ウエハ積層体、ウエハ積層体の製造方法、及び薄型ウエハの製造方法
KR100945635B1 (ko) 반도체 조립용 접착 필름 조성물, 이에 의한 접착 필름 및이를 포함하는 다이싱 다이본드 필름
CN119631160A (zh) 光照射剥离用的剥离剂组合物、层叠体以及经加工的半导体基板的制造方法
JP2014143308A (ja) 仮固定用組成物及び半導体装置の製造方法
KR20200031539A (ko) 신축성 기판의 제조방법 및 그를 포함하는 신축성 전자기기의 제조방법
TW202502942A (zh) 雷射剝離組成物、積層體及附電路基板之加工方法
JPWO2023032888A5 (enExample)
KR101766425B1 (ko) 금속 판을 포함하는 반도체 패키징 구조