JP2009136845A - 充填液 - Google Patents
充填液 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009136845A JP2009136845A JP2007319025A JP2007319025A JP2009136845A JP 2009136845 A JP2009136845 A JP 2009136845A JP 2007319025 A JP2007319025 A JP 2007319025A JP 2007319025 A JP2007319025 A JP 2007319025A JP 2009136845 A JP2009136845 A JP 2009136845A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ink
- filling liquid
- conductor pattern
- pattern forming
- surfactant
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 160
- 238000011049 filling Methods 0.000 title claims abstract description 147
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 183
- 150000005846 sugar alcohols Chemical class 0.000 claims abstract description 74
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 56
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 claims description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 32
- -1 acetylene glycol compound Chemical class 0.000 claims description 31
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- HEBKCHPVOIAQTA-UHFFFAOYSA-N meso ribitol Natural products OCC(O)C(O)C(O)CO HEBKCHPVOIAQTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- TVXBFESIOXBWNM-UHFFFAOYSA-N Xylitol Natural products OCCC(O)C(O)C(O)CCO TVXBFESIOXBWNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000000811 xylitol Substances 0.000 claims description 17
- 235000010447 xylitol Nutrition 0.000 claims description 17
- HEBKCHPVOIAQTA-SCDXWVJYSA-N xylitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO HEBKCHPVOIAQTA-SCDXWVJYSA-N 0.000 claims description 17
- 229960002675 xylitol Drugs 0.000 claims description 17
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 claims description 15
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 claims description 15
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 13
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 claims description 8
- 150000001261 hydroxy acids Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 5
- PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N sulfanyl Chemical class [SH] PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract description 4
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 91
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 86
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 77
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 66
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 66
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 56
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 30
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 27
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 27
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 21
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 19
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 17
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 16
- 239000010408 film Substances 0.000 description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 15
- LRBQNJMCXXYXIU-PPKXGCFTSA-N Chinese gallotannin Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)OC=2C(=C(O)C=C(C=2)C(=O)OC[C@@H]2[C@H]([C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)O2)OC(=O)C=2C=C(OC(=O)C=3C=C(O)C(O)=C(O)C=3)C(O)=C(O)C=2)O)=C1 LRBQNJMCXXYXIU-PPKXGCFTSA-N 0.000 description 14
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 235000010356 sorbitol Nutrition 0.000 description 14
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 13
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000000832 lactitol Substances 0.000 description 7
- 235000010448 lactitol Nutrition 0.000 description 7
- VQHSOMBJVWLPSR-JVCRWLNRSA-N lactitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]([C@H](O)CO)O[C@@H]1O[C@H](CO)[C@H](O)[C@H](O)[C@H]1O VQHSOMBJVWLPSR-JVCRWLNRSA-N 0.000 description 7
- 229960003451 lactitol Drugs 0.000 description 7
- 239000000845 maltitol Substances 0.000 description 7
- VQHSOMBJVWLPSR-WUJBLJFYSA-N maltitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]([C@H](O)CO)O[C@H]1O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H]1O VQHSOMBJVWLPSR-WUJBLJFYSA-N 0.000 description 7
- 235000010449 maltitol Nutrition 0.000 description 7
- 229940035436 maltitol Drugs 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 229920000223 polyglycerol Polymers 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 7
- 229920002258 tannic acid Polymers 0.000 description 7
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- TUSDEZXZIZRFGC-UHFFFAOYSA-N 1-O-galloyl-3,6-(R)-HHDP-beta-D-glucose Natural products OC1C(O2)COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC1C(O)C2OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 TUSDEZXZIZRFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000001263 FEMA 3042 Substances 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 229940033123 tannic acid Drugs 0.000 description 5
- 235000015523 tannic acid Nutrition 0.000 description 5
- NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylhex-1-yn-3-ol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)C#C NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 4
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- NJRXVEJTAYWCQJ-UHFFFAOYSA-N thiomalic acid Chemical compound OC(=O)CC(S)C(O)=O NJRXVEJTAYWCQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HRXKRNGNAMMEHJ-UHFFFAOYSA-K trisodium citrate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O HRXKRNGNAMMEHJ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 229940038773 trisodium citrate Drugs 0.000 description 4
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 3
- ODJQKYXPKWQWNK-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Thiobispropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCSCCC(O)=O ODJQKYXPKWQWNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 3-mercaptopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003490 Thiodipropionic acid Substances 0.000 description 3
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 3
- YELFPONZSMXXMS-UHFFFAOYSA-L dipotassium;2-sulfanylbutanedioate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C(=O)CC(S)C([O-])=O YELFPONZSMXXMS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- ZJNFSIXGGYEOTN-UHFFFAOYSA-L dipotassium;3-(2-carboxylatoethylsulfanyl)propanoate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C(=O)CCSCCC([O-])=O ZJNFSIXGGYEOTN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- VZFDRQUWHOVFCA-UHFFFAOYSA-L disodium;2-sulfanylbutanedioate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(S)C([O-])=O VZFDRQUWHOVFCA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- MUTPUZBXXFFKEW-UHFFFAOYSA-L disodium;3-(2-carboxylatoethylsulfanyl)propanoate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)CCSCCC([O-])=O MUTPUZBXXFFKEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- WJSIUCDMWSDDCE-UHFFFAOYSA-K lithium citrate (anhydrous) Chemical compound [Li+].[Li+].[Li+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O WJSIUCDMWSDDCE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 3
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000001508 potassium citrate Substances 0.000 description 3
- QEEAPRPFLLJWCF-UHFFFAOYSA-K potassium citrate (anhydrous) Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O QEEAPRPFLLJWCF-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- HYTYHTSMCRDHIM-UHFFFAOYSA-M potassium;2-sulfanylacetate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)CS HYTYHTSMCRDHIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- LHJGVEHUBIDUOB-UHFFFAOYSA-M potassium;2-sulfanylpropanoate Chemical compound [K+].CC(S)C([O-])=O LHJGVEHUBIDUOB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- KOUKXHPPRFNWPP-UHFFFAOYSA-N pyrazine-2,5-dicarboxylic acid;hydrate Chemical compound O.OC(=O)C1=CN=C(C(O)=O)C=N1 KOUKXHPPRFNWPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 3
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 235000019265 sodium DL-malate Nutrition 0.000 description 3
- WPUMTJGUQUYPIV-UHFFFAOYSA-L sodium malate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)C(O)CC([O-])=O WPUMTJGUQUYPIV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- GNBVPFITFYNRCN-UHFFFAOYSA-M sodium thioglycolate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)CS GNBVPFITFYNRCN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KZLAYICWOGEOSV-UHFFFAOYSA-M sodium;2-sulfanylpropanoate Chemical compound [Na+].CC(S)C([O-])=O KZLAYICWOGEOSV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 235000019303 thiodipropionic acid Nutrition 0.000 description 3
- YWYZEGXAUVWDED-UHFFFAOYSA-N triammonium citrate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O YWYZEGXAUVWDED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001393 triammonium citrate Substances 0.000 description 3
- 235000011046 triammonium citrate Nutrition 0.000 description 3
- 235000015870 tripotassium citrate Nutrition 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUDUTRMKKYUAKI-UHFFFAOYSA-N 3-[1-(1-phenylethyl)piperidin-4-yl]-1h-benzimidazol-2-one Chemical compound C1CC(N2C(NC3=CC=CC=C32)=O)CCN1C(C)C1=CC=CC=C1 XUDUTRMKKYUAKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UNXHWFMMPAWVPI-QWWZWVQMSA-N D-threitol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-QWWZWVQMSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- 238000000502 dialysis Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 2
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 2
- 229920001864 tannin Polymers 0.000 description 2
- 239000001648 tannin Substances 0.000 description 2
- 235000018553 tannin Nutrition 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019263 trisodium citrate Nutrition 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- 229940058015 1,3-butylene glycol Drugs 0.000 description 1
- ZXSQEZNORDWBGZ-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydropyrrolo[2,3-b]pyridin-2-one Chemical compound C1=CN=C2NC(=O)CC2=C1 ZXSQEZNORDWBGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SERLAGPUMNYUCK-YJOKQAJESA-N 6-O-alpha-D-glucopyranosyl-D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO[C@H]1O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H]1O SERLAGPUMNYUCK-YJOKQAJESA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FBXFSONDSA-N Allitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FBXFSONDSA-N 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N D-Mannitol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-KAZBKCHUSA-N D-altritol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-KAZBKCHUSA-N 0.000 description 1
- HEBKCHPVOIAQTA-QWWZWVQMSA-N D-arabinitol Chemical compound OC[C@@H](O)C(O)[C@H](O)CO HEBKCHPVOIAQTA-QWWZWVQMSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-ZXXMMSQZSA-N D-iditol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-ZXXMMSQZSA-N 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 1
- SQUHHTBVTRBESD-UHFFFAOYSA-N Hexa-Ac-myo-Inositol Natural products CC(=O)OC1C(OC(C)=O)C(OC(C)=O)C(OC(C)=O)C(OC(C)=O)C1OC(C)=O SQUHHTBVTRBESD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229930195725 Mannitol Natural products 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVWLUVNSQYXYBE-UHFFFAOYSA-N Ribitol Natural products OCC(C)C(O)C(O)CO JVWLUVNSQYXYBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052946 acanthite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N beta-D-glucose Chemical compound OC[C@H]1O[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- OJKANDGLELGDHV-UHFFFAOYSA-N disilver;dioxido(dioxo)chromium Chemical compound [Ag+].[Ag+].[O-][Cr]([O-])(=O)=O OJKANDGLELGDHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCSCTLGIPUOGOC-UHFFFAOYSA-N disilver;oxido-(oxido(dioxo)chromio)oxy-dioxochromium Chemical compound [Ag+].[Ag+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O FCSCTLGIPUOGOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- 239000011790 ferrous sulphate Substances 0.000 description 1
- 235000003891 ferrous sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-GUCUJZIJSA-N galactitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-GUCUJZIJSA-N 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002483 hydrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000043 hydrogen iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- CDAISMWEOUEBRE-GPIVLXJGSA-N inositol Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H]1O CDAISMWEOUEBRE-GPIVLXJGSA-N 0.000 description 1
- 229960000367 inositol Drugs 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- SURQXAFEQWPFPV-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate heptahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.[Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O SURQXAFEQWPFPV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000359 iron(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 1
- 239000000594 mannitol Substances 0.000 description 1
- 235000010355 mannitol Nutrition 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000007777 multifunctional material Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-diol Chemical compound CCC(O)O ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- HEBKCHPVOIAQTA-ZXFHETKHSA-N ribitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO HEBKCHPVOIAQTA-ZXFHETKHSA-N 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- CDAISMWEOUEBRE-UHFFFAOYSA-N scyllo-inosotol Natural products OC1C(O)C(O)C(O)C(O)C1O CDAISMWEOUEBRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 150000003378 silver Chemical class 0.000 description 1
- CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M silver acetate Chemical compound [Ag+].CC([O-])=O CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940071536 silver acetate Drugs 0.000 description 1
- 229910001958 silver carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- LKZMBDSASOBTPN-UHFFFAOYSA-L silver carbonate Substances [Ag].[O-]C([O-])=O LKZMBDSASOBTPN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SDLBJIZEEMKQKY-UHFFFAOYSA-M silver chlorate Chemical compound [Ag+].[O-]Cl(=O)=O SDLBJIZEEMKQKY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KKKDGYXNGYJJRX-UHFFFAOYSA-M silver nitrite Chemical compound [Ag+].[O-]N=O KKKDGYXNGYJJRX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- YPNVIBVEFVRZPJ-UHFFFAOYSA-L silver sulfate Chemical compound [Ag+].[Ag+].[O-]S([O-])(=O)=O YPNVIBVEFVRZPJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000367 silver sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940056910 silver sulfide Drugs 0.000 description 1
- XUARKZBEFFVFRG-UHFFFAOYSA-N silver sulfide Chemical compound [S-2].[Ag+].[Ag+] XUARKZBEFFVFRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 description 1
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L thiosulfate(2-) Chemical compound [O-]S([S-])(=O)=O DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/165—Prevention or detection of nozzle clogging, e.g. cleaning, capping or moistening for nozzles
- B41J2/16517—Cleaning of print head nozzles
- B41J2/16552—Cleaning of print head nozzles using cleaning fluids
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/12—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
- H05K3/1241—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by ink-jet printing or drawing by dispensing
- H05K3/125—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by ink-jet printing or drawing by dispensing by ink-jet printing
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/01—Tools for processing; Objects used during processing
- H05K2203/0104—Tools for processing; Objects used during processing for patterning or coating
- H05K2203/013—Inkjet printing, e.g. for printing insulating material or resist
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0756—Uses of liquids, e.g. rinsing, coating, dissolving
- H05K2203/0776—Uses of liquids not otherwise provided for in H05K2203/0759 - H05K2203/0773
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Ink Jet (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明の充填液は、インクジェット方式による導体パターンの形成に用いられ、金属粒子が水系分散媒に分散した導体パターン形成用インクを吐出する液滴吐出装置を保管する際に、該液滴吐出装置内を充填する充填液であって、前記水系分散媒と、糖アルコールAと、界面活性剤Aとを含むことを特徴とする。充填液は、導体パターン形成用インク中に含まれる糖アルコールBと同種のものを含むのが好ましい。充填液中に含まれる界面活性剤Aは、導体パターン形成用インク中に含まれる界面活性剤Bを構成する成分の少なくとも一部を含むものであるのが好ましい。
【選択図】なし
Description
そして、このようなセラミックス回路基板は、セラミックス粒子とバインダーとを含む材料で構成されたセラミックス成形体上に、形成すべき配線(導体パターン)に対応するパターンで、金属粒子を含む組成物を付与し、その後、当該組成物が付与されたセラミックス成形体に対し、脱脂、焼結処理を施すことにより製造されている。
そこで、近年、セラミックス成形体上へのパターン形成の方法として、液滴吐出ヘッドから金属粒子を含む液体材料(導体パターン形成用インク)を液滴状に吐出する液滴吐出法、いわゆるインクジェット法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。インクジェット法を用いることにより、配線の微細化、狭ピッチ化を図ることができる。
本発明の充填液は、インクジェット方式による導体パターンの形成に用いられ、金属粒子が水系分散媒に分散した導体パターン形成用インクを吐出する液滴吐出装置を保管する際に、該液滴吐出装置内を充填する充填液であって、
前記水系分散媒と、糖アルコールAと、界面活性剤Aとを含むことを特徴とする。
これにより、導体パターン形成用インクとの置換性に優れる充填液を提供することができる。
充填液中に含まれる前記糖アルコールAは、前記導体パターン形成用インク中に含まれる前記糖アルコールBと同種のものを含むことが好ましい。
これにより、液滴吐出ヘッドの吐出部の乾燥を防止するとともに、導体パターン形成用インクとの置換性を特に優れたものとすることができる。
充填液中に含まれる前記界面活性剤Aは、前記導体パターン形成用インク中に含まれる前記界面活性剤Bを構成する成分の少なくとも一部を含むものであることが好ましい。
これにより、導体パターン形成用インクと置換する際に、金属粒子の分散性の低下を防止することができる。
これにより、液滴吐出ヘッドの吐出部の乾燥をより効果的に防止するとともに、導体パターン形成用インクとの置換性を特に優れたものとすることができる。
本発明の充填液では、充填液中における前記糖アルコールAの含有量は、3〜25wt%であることが好ましい。
これにより、液滴吐出ヘッドの吐出部の乾燥をより効果的に防止するとともに、導体パターン形成用インクとの置換性を特に優れたものとすることができる。
これにより、液滴吐出装置の内壁面の親液性を向上させることができ、導体パターン形成用インクを容易に充填することができる。
本発明の充填液では、前記界面活性剤Aは、アセチレングリコール系化合物を含むことが好ましい。
これにより、液滴吐出装置の内壁面の親液性を向上させることができ、導体パターン形成用インクをより容易に充填することができる。
これにより、より少ない添加量で液滴吐出装置の内壁面の親液性を向上させることができ、導体パターン形成用インクをより容易に充填することができる。
これにより、液滴吐出装置の内壁面の親液性をより効果的に向上させることができ、導体パターン形成用インクをより容易に充填することができる。
本発明の充填液では、COOH基とOH基とを合わせて3個以上有し、かつ、COOH基の数がOH基の数と同数またはCOOH基の数がOH基の数よりも多いヒドロキシ酸またはその塩を含むことが好ましい。
これにより、液滴吐出装置の内壁面の親液性を向上させることができ、導体パターン形成用インクを容易に充填することができる。
これにより、液滴吐出装置の内壁面の親液性を向上させることができ、導体パターン形成用インクを容易に充填することができる。
本発明の充填液では、前記充填液の表面張力は、20〜50dyn/cmであって、
充填液の表面張力は前記導体パターン形成用インクの表面張力以下であることが好ましい。
これにより、液滴吐出装置内への充填液の充填不良を防止するとともに、内壁面の親液性を向上させることができ、導体パターン形成用インクを容易に充填することができる。
《充填液》
本発明の充填液は、導体パターンの形成に用いられる液滴吐出装置を長期にわたって休止させる際や、液滴吐出装置の保管、運搬の際に、該液滴装置内を充填するものであり、特に、後述するような導体パターン形成用インク(以下単にインクともいう)を吐出する液滴吐出装置内に充填することにより、保管液として機能するものである。
そこで、本発明者らは、鋭意検討した結果、液滴吐出装置の充填液として、水系分散媒中に、糖アルコールと界面活性剤とが分散(溶解)したものを用いることにより、上記問題を解決することができることを見出した。
[水系分散媒]
まず、水系分散媒について説明する。
本発明において、「水系分散媒」とは、水および/または水との相溶性に優れる液体(例えば、25℃における水100gに対する溶解度が30g以上の液体)で構成されたもののことを指す。このように、水系分散媒は、水および/または水との相溶性に優れる液体で構成されたものであるが、主として水で構成されたものであるのが好ましく、特に、水の含有率が70wt%以上のものであるのが好ましく、90wt%以上のものであるのがより好ましい。
また、充填液中に含まれる水系分散媒は、後述する導体パターン形成用インクを構成する水系分散媒とほぼ同じ組成のものであるのが好ましい。これより、インクとの置換性が特に優れたものとなり、インクと素早く混合、置換することができる。
また、充填液中における水系分散媒の含有量は、95〜65wt%であることが好ましく、85〜75wt%であることがより好ましい。これにより、洗浄液の粘度を好適なものとすることができ、充填液としての特性をより高いものとすることができる。
充填液に含まれる糖アルコールAは、液滴吐出ヘッドの吐出部付近の乾燥を防止するとともに、インク流路から充填液を抜く処理を施した後にインク流路が乾燥するのを防止する機能を有している。これにより、インクを充填する際に、気泡の混入を防止することができる。また、インクとの置換性が特に優れたものとなり、インクと素早く混合、置換することができる。
充填液中に含まれる糖アルコールAの含有量は、3〜25wt%であるのが好ましく、5〜20wt%であるのがより好ましい。これにより、インク流路が乾燥するのをより効果的に防止することができるとともに、インクとの置換性をより効果的に高いものとすることができる。また、インクの充填をより容易なものとすることができる。
前述したように本発明の充填液中には、界面活性剤Aが含まれている。これにより、液滴吐出装置のインク流路の内壁面を親液化することができ、インク流路内に導体パターン形成用インクを充填する際に気泡が混入するのを防止することができる。その結果、インクを安定して吐出することができる。また、インクとの置換性に優れたものとすることができ、導体パターン形成用インクを容易に充填することができる。
また、アセチレングリコール系化合物は、アセチレン基を中心に左右対称の構造を有するものであるのが好ましい。これにより、より少量の添加量で液滴吐出装置のインク流路の内壁面をより効果的に親液化することができる。
また、充填液における界面活性剤Aの含有量は、0.05〜5wt%であることが好ましく、0.5〜2wt%であることがより好ましい。これにより、液滴吐出装置のインク流路の内壁面をより効率よく親液化することができ、導体パターン形成用インクをより容易に充填することができる。
また、洗浄剤は、上記成分以外の化合物を含んでいてもよい。
また、このような化合物としては、例えば、COOH基とOH基とを合わせて3個以上有し、かつ、COOH基の数がOH基と同じか、それよりも多いヒドロキシ酸またはその塩が挙げられる。このような化合物は、金属表面に付着しやすく、付着することにより表面の親液性を向上させることができる成分である。これにより、インクを充填する際に、気泡が混入するのをより効果的に防止することができ、また、インクをより容易に充填することができる。
このような化合物としては、具体的には、例えば、クエン酸、りんご酸、クエン酸三ナトリウム、クエン酸三カリウム、クエン酸三リチウム、クエン酸三アンモニウム、りんご酸二ナトリウム、タンニン酸、ガロタンニン酸、五倍子タンニン等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
25℃における充填液の表面張力は、特に限定されないが、例えば、20〜50dyn/cmであるのが好ましく、20〜40dyn/cmであるのがより好ましい。これにより、充填時において、液滴吐出装置内に好適に充填液が行き渡すことができる。また、充填液が微量に残存した場合であっても、後述するインクの表面張力への影響を極めて少ないものとすることができる。なお、本明細書において、表面張力は、JIS K 3362に準拠して測定される値を採用することができる。
《導体パターン形成用インク》
上述したような充填液が好適に用いられる、導体パターン形成用インクは、基材上に導体パターンを形成するのに用いるインクであり、特に、液滴吐出法によって導体パターンを形成するのに用いるインクである。
導体パターン形成用インク(以下、単にインクともいう)は、水系分散媒と、水系分散媒に分散した銀粒子と、ポリグリセリン骨格を有するポリグリセリン化合物と、糖アルコールBと、界面活性剤Bとを含む。
まず、水系分散媒について説明する。
水系分散媒は、前述した充填液を構成する水系分散媒とほぼ同等の組成を有するものを用いる。これにより、充填液との置換性が向上し、インクの充填を容易に行うことができる。
導体パターン形成用インク中における水系分散媒の含有量は、25〜60wt%であることが好ましく、30〜50wt%であることがより好ましい。これにより、インクの粘度を好適なものとしつつ、水系分散媒の揮発による粘度の変化を少ないものとすることができる。
次に、銀粒子(金属粒子)について説明する。
銀粒子は、形成される導体パターンの主成分であり、導体パターンに導電性を付与する成分である。
また、銀粒子は、インク中において分散している。
銀粒子の平均粒径は、1〜100nmであるのが好ましく、10〜30nmであるのがより好ましい。これにより、インクの吐出性をより高いものとすることができるとともに、微細な導体パターンを容易に形成することができる。
また、銀粒子(金属粒子)は、その表面に分散剤が付着した銀コロイド粒子(金属コロイド粒子)として、水系分散媒中に分散していることが好ましい。これにより、銀粒子の水系分散媒への分散性が特に優れたものとなり、インクの液滴吐出性が特に優れたものとなる。
このような分散剤としては、例えば、クエン酸、りんご酸、クエン酸三ナトリウム、クエン酸三カリウム、クエン酸三リチウム、クエン酸三アンモニウム、りんご酸二ナトリウム、タンニン酸、ガロタンニン酸、五倍子タンニン等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
なお、銀コロイド粒子の形成については、後に詳述する。
導体パターン形成用インクには、糖アルコールBが含まれている。
糖アルコールは、保湿性に優れた成分であり、導体パターン形成用インクの水系分散媒の揮発を防止することに寄与することのできる成分である。すなわち、糖アルコールは乾燥抑制剤として機能する成分である。このため、導体パターン形成用インクに糖アルコールBが含まれていることにより、所定期間保存した場合であっても、導体パターン形成用インク中に含まれる分散媒の揮発を防止することができ、インクの粘度が高くなることを防止できる。このため、導体パターン形成用インクは、長期にわたって、吐出安定性が優れたものとなる。また、吐出待機時や長時間連続して吐出した際に、液滴吐出ヘッド(インクジェットヘッド)の液滴の吐出部付近において水系分散媒が揮発するのを抑制することができる。これにより、液滴吐出ヘッド付近での金属粒子の析出を防止することができ、液滴吐出ヘッドから安定して吐出することができる。その結果、所望の形状で、かつ、信頼性の高い導体パターンを容易に形成することができる。
また、キシリトールおよび/またはソルビトールとともに、マルチトール、ラクチトールの少なくともいずれか一方を用いた場合、キシリトール、ソルビトールが結晶化するのを効果的に防止することができる。
ポリグリセリン化合物は、導体パターン形成用インクによって形成されたパターン(後に詳述する導体パターンの前駆体)を乾燥(脱分散媒)した際に、パターンにクラックが発生するのを防止する機能を有するものである。これは、以下のように考えられる。導体パターン形成用インク中にポリグリセリン化合物が含まれることにより、銀粒子(金属粒子)の間に高分子鎖が存在することとなり、ポリグリセリン化合物が銀粒子同士の距離を保つことができる。さらに、ポリグリセリン化合物は比較的沸点が高いため、水系分散媒の除去時においては除去されず、銀粒子の周囲に付着する。以上により、水系分散媒除去時において、ポリグリセリン化合物が銀粒子を包み込んだ状態が長く続き、水系分散媒の揮発による急激な体積収縮が避けられるとともに銀の粒成長(凝集)が妨げられる結果、パターン中のクラックの発生が抑制されると考えられる。
さらに、焼結時においてパターン中の銀粒子(金属粒子)の間に高分子鎖(ポリグリセリン化合物)が存在することとなり、ポリグリセリン化合物が銀粒子同士の距離を保つことができる。また、このポリグリセリン化合物は、適度な流動性を有している。このため、ポリグリセリン化合物を含むことにより、導体パターンの前駆体は、セラミックス成形体の温度変化による膨張・収縮への追従性が良好となる。
以上より、形成された導体パターンに断線が生じることを防止することができると考えられる。
また、このようなポリグリセリン化合物を含むことにより、インクの粘度をより適度なものとすることができ、インクジェットヘッドからの吐出安定性をより効果的に向上させることができる。また、成膜性も向上させることができる。
また、ポリグリセリン化合物としては、その重量平均分子量が300〜3000であるものを用いるのが好ましく、400〜600であるものを用いるのがより好ましい。これにより、導体パターン形成用インクによって形成されたパターンを乾燥した際に、クラックの発生をより確実に防止することができる。また、導体パターン形成時において、糖アルコールが結晶化することをより確実に防止することができる。また、ポリグリセリン化合物と糖アルコールとの親和性が十分に高いものとなり、焼結時において、インクによって形成されたパターンは、より長期にわたって流動性を維持することができ、セラミック成形体の温度変化による収縮、膨張への追従性が特に優れたものとなる。これに対し、ポリグリセリン化合物の重量平均分子量が前記下限値未満であると、水系分散媒を除去する際にポリグリセリン化合物が分解しやすい傾向があり、クラック、糖アルコールの結晶化の発生を防止する効果が小さくなる。また、ポリグリセリン化合物の重量平均分子量が前記上限値を超えると、排除体積効果等によりインク中への溶解性、分散性が低下する場合がある。
また、導体パターン形成用インクには、上記成分の他、界面活性剤(界面活性剤B)が含まれている。この界面活性剤Bは、金属粒子の分散性を向上させる機能を有する成分である。
導体パターン形成用インク中に含まれる界面活性剤Bとしては、特に限定されないが、アセチレングリコール系化合物を用いるのが好ましい。このアセチレングリコール系化合物は、金属粒子の分散性を向上させるとともに、導体パターン形成用インクとセラミックス成形体との接触角を所定の範囲に調整する機能を有する成分である。また、アセチレングリコール系化合物は、少ない添加量で、導体パターン形成用インクとセラミックス成形体との接触角を所定の範囲に調整することができる。また、吐出した液滴内に気泡が混入した場合であっても、速やかに気泡を除去することができる。
このように、導体パターン形成用インクとセラミックス成形体との接触角を所定の範囲に調整することにより、より微細な導体パターンを形成することができる。
このようなアセチレングリコール系化合物としては、例えば、サーフィノール104シリーズ(104E、104H、104PG−50、104PA等)、サーフィノール400シリーズ(420、465、485等)、オルフィンシリーズ(EXP4036、EXP4001、E1010等)(「サーフィノール」および「オルフィン」は、日信化学工業株式会社の商品名)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
特に、インク中に含まれる2種以上のアセチレングリコール系化合物のうち、最もHLB値が高いアセチレングリコール系化合物のHLB値と、最もHLB値が低いアセチレングリコール系化合物のHLB値との差が、4〜12であるのが好ましく、5〜10であるのがより好ましい。これにより、より少ないアセチレングリコール系化合物の添加量で、導体パターン形成用インクとセラミックス成形体との接触角を所定の範囲により容易に調整することができる。
また、インク中に2種以上のアセチレングリコール系化合物を含むものを用いる場合、最もHLB値の低いアセチレングリコール系化合物のHLB値は、2〜7であるのが好ましく、3〜5であるのがより好ましい。
インク中に含まれるアセチレングリコール系化合物の含有量は、0.001〜1wt%であるのが好ましく、0.01〜0.5wt%であるのがより好ましい。これにより、導体パターン形成用インクとセラミックス成形体との接触角をより効果的に所定の範囲に調整することができる。
導体パターン形成用インクは、上記以外の成分を含んでいてもよい。
例えば、導体パターン形成用インクは、ポリエチレングリコール、1,3−ブチレングリコール、1,3−プロパンジオール、プロピレングリコール等の多価アルコールを含んでいてもよい。
次に、本発明の充填液が適用される液滴吐出装置の一例について説明する。
インクジェット方式による導体パターン形成用インクの吐出は、例えば図1に示すインクジェット装置(液滴吐出装置)50、および、図2に示すインクジェットヘッド(液滴吐出ヘッド)70を用いることにより行うことができる。以下に、インクジェット装置50およびインクジェットヘッド70について説明する。
インクジェット装置50は、インクジェットヘッド(以下、単にヘッドと呼ぶ)70と、基材S(本実施形態ではセラミックスグリーンシート7)を載置するテーブル46とを有している。なお、インクジェット装置50の動作は、制御装置53により制御されるようになっている。
一方、ヘッド70は、第2移動手段(図示せず)によりX方向に移動および位置決め可能とされ、リニアモータ62によりZ方向に移動および位置決め可能とされている。また、ヘッド70は、モータ64,66,68により、それぞれα,β,γ方向に揺動および位置決め可能とされている。このような構成のもとにインクジェット装置50は、ヘッド70のインク吐出面70Pと、テーブル46上の基材Sとの相対的な位置および姿勢を、正確にコントロールできるようになっている。
ヘッド70は、図2に示すように、インクジェット方式(液滴吐出方式)によってインクをノズル(吐出部)91から吐出するものである。
また、ヘッド本体90の下端面には、インク吐出面を構成するノズルプレート(図示せず)が装着されている。このノズルプレートには、インク10を吐出する複数のノズル91が、各インク室93に対応して開口されている。そして、各インク室93から対応するノズル91に向かって、インク流路が形成されている。一方、ヘッド本体90の上端面には、振動板94が装着されている。この振動板94は、各インク室93の壁面を構成している。その振動板94の外側には、各インク室93に対応してピエゾ素子92が設けられている。ピエゾ素子92は、水晶等の圧電材料を一対の電極(不図示)で挟持したものである。その一対の電極は、駆動回路99に接続されている。
上述したようなインクジェット装置を長期にわたって休止する際や、インクジェット装置の保管、運搬の際に、そのインクの流路内に、上述したような本発明の充填液を充填することにより、インク流路内が乾燥するのを防止する。
次に、上述したような導体パターン形成用インクの製造方法の一例について説明する。
本実施形態では導体パターン形成用インクは、銀コロイド粒子が水系分散媒中に分散したコロイド液であるとして説明する。
本実施形態のインクを製造する際には、まず、上記分散剤と、還元剤とを溶解した水溶液を調製する。
分散剤の配合量としては、出発物質である硝酸銀のような銀塩中の銀と分散剤とのモル比が1:1〜1:100程度となるように配合することが好ましい。銀塩に対する分散剤のモル比が大きくなると、銀粒子の粒径が小さくなって導体パターン形成後の粒子同士の接触点が増えるため、体積抵抗値の低い被膜を得ることができる。
還元剤としては、特に限定されず、例えば、ヒドラジン、ジメチルアミノエタノール、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミン系;水酸化ホウ素ナトリウム、水素ガス、ヨウ化水素等の水素化合物系;一酸化炭素、亜硫酸次亜リン酸等の酸化物系、Fe(II)化合物、Sn(II)化合物等の低原子価金属塩系、D−グルコースのような糖類、ホルムアルデヒド等の有機化合物系、あるいは上記の分散剤として挙げたヒドロキシ酸であるクエン酸、りんご酸や、ヒドロキシ酸塩であるクエン酸三ナトリウム、クエン酸三カリウム、クエン酸三リチウム、クエン酸三アンモニウム、りんご酸二ナトリウムやタンニン酸等が挙げられる。中でも、タンニン酸や、ヒドロキシ酸は還元剤として機能すると同時に分散剤としての効果を発揮するため好適に用いることができる。あるいは、金属表面で安定した結合を形成する分散剤として上記に挙げたメルカプト酸であるメルカプト酢酸、メルカプトプロピオン酸、チオジプロピオン酸、メルカプトコハク酸、チオ酢酸やメルカプト酸塩であるメルカプト酢酸ナトリウム、メルカプトプロピオン酸ナトリウム、チオジプロピオン酸ナトリウム、メルカプトコハク酸ナトリウム、メルカプト酢酸カリウム、メルカプトプロピオン酸カリウム、チオジプロピオン酸カリウム、メルカプトコハク酸カリウム等を好適に用いることができる。これらの分散剤や還元剤は単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。これらの化合物を使用する際には、光や熱を加えて還元反応を促進させてもよい。
本実施形態において、分散剤と還元剤とを溶解して水溶液を調製した後、この水溶液のpHを6〜12に調整することが好ましい。
−COO−+H+ → −COOH…(1)
添加するアルカリ性の化合物としては、特に限定されず、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア水等を用いることができる。これらの中では、少量で容易にpHを調整できる水酸化ナトリウムが好ましい。
なお、アルカリ性の化合物の添加量が多すぎて、pHが10を超えると、鉄イオンのような残存している還元剤のイオンの水酸化物の沈殿が起こりやすくなる。
銀塩としては、特に限定されず、例えば、酢酸銀、炭酸銀、酸化銀、硫酸銀、亜硝酸銀、塩素酸銀、硫化銀、クロム酸銀、硝酸銀、二クロム酸銀等を用いることができる。これらの中では、水への溶解度が大きい硝酸銀が好ましい。
銀塩水溶液は、上記銀塩を純水に溶かすことにより調製し、調製した銀塩の水溶液を徐々に前述した分散剤と還元剤とが溶解した水溶液中に滴下する。
この工程において、銀塩は還元剤により銀粒子に還元され、さらに、該銀粒子の表面に分散剤が吸着して銀コロイド粒子が形成される。これにより、銀コロイド粒子が水溶液中にコロイド状に分散した水溶液が得られる。
洗浄の方法としては、例えば、得られたコロイド粒子を含む水溶液を一定期間静置し、生じた上澄み液を取り除いた上で、純水を加えて再度攪拌し、さらに一定期間静置して生じた上澄み液を取り除く工程を幾度が繰り返す方法、上記静置の代わりに遠心分離を行う方法、限外濾過等でイオンを取り除く方法等を挙げることができる。
これは、還元後に洗浄を行ったため、電解質イオンであるナトリウム濃度が減少している場合があり、このような状態の溶液では、下記反応式(2)で表される反応の平衡が右辺へ移動する。このままでは、銀コロイドの電気的反発力が減少して銀粒子の分散性が低下するため、適当量の水酸化アルカリを添加することにより、反応式(2)の平衡を左辺に移動させ、銀コロイドを安定化させるのである。
−COO−Na++H2O → −COOH+Na++OH−…(2)
pHが6未満では、反応式(2)の平衡が右辺に移動するため、コロイド粒子が不安定化し、一方、pHが11を超えると、鉄イオンのような残存しているイオンの水酸化塩の沈殿が起こりやすくなるため好ましくない。ただし、予め鉄イオン等を取り除いておけば、pHが11を超えても大きな問題はない。
以上のようにして得られた銀コロイド粒子が分散した水溶液に、前述したような糖アルコール等の他の成分を添加することにより、導体パターン形成用インクを得る。
次に、導体パターンについて説明する。
本実施形態の導体パターンは、上述したようなインクジェット装置を用いて、上記インクをセラミックス成形体上に付与した後、加熱することにより形成される薄膜状の導体パターンであって、銀粒子が相互に結合されてなり、少なくとも導体パターン表面において銀粒子同士が隙間なく結合している。
本実施形態の導体パターンは、上記インクを液滴吐出法によりセラミックス成形体上に付与し、パターン(前駆体)を形成した後、乾燥(脱水系分散媒)させ、その後、焼結することにより形成される。
また、本実施形態の導体パターンを形成する際には、液滴吐出方法によりインクを付与してから予備加熱して水等の分散媒を蒸発させ、予備加熱後の膜の上に再度インクを付与する、といった工程を繰り返し行うことで、厚膜の導体パターンを形成することもできる。
また、上述したようなポリグリセリン化合物は、化学的、物理的に安定な化合物であるので、インクを付与して乾燥してから長時間放置してもインクが変質するおそれがなく、再度インクを付与することが可能になり、均質なパターンを形成できる。これにより、導体パターン自体が多層構造になるおそれがなく、層間同士の間の比抵抗が上昇して導体パターン全体の比抵抗が増大するおそれがない。
なお、上記のような導体パターンは、携帯電話やPDA等の移動通話機器の高周波モジュール、インターポーザー、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)、加速度センサー、弾性表面波素子、アンテナや櫛歯電極等の異形電極、その他各種計測装置等の電子部品等に適用することができる。
次に、導体パターン形成用インクによって形成された導体パターンを有する配線基板(セラミックス回路基板)およびその製造方法の一例について説明する。
本実施形態に係る配線基板は、各種の電子機器に用いられる電子部品となるもので、各種配線や電極等からなる回路パターン、積層セラミックスコンデンサ、積層インダクター、LCフィルタ、複合高周波部品等を基板に形成してなるものである。
積層基板3は、積層されたセラミックス基板2、2間に、導体パターン形成用インク(以下、単にインクと記す)により形成された回路(導体パターン)5を備えている。
また、これら回路5には、これに接続するコンタクト(ビア)6が形成されている。このような構成によって回路5は、上下に配置された回路5、5間が、コンタクト6によって導通したものとなっている。なお、回路4も、回路5と同様に、上記導体パターン形成用インクにより形成されたものとなっている。
まず、原料粉体として、平均粒径が1〜2μm程度のアルミナ(Al2O3)や酸化チタン(TiO2)等からなるセラミックス粉末と、平均粒径が1〜2μm程度のホウ珪酸ガラス等からなるガラス粉末とを用意し、これらを適宜な混合比、例えば1:1の重量比で混合する。
次に、得られたスラリーを、ドクターブレード、リバースコーター等を用いてPETフィルム上にシート状に形成し、製品の製造条件に応じて数μm〜数百μm厚のシートに成形し、その後、ロールに巻き取る。
続いて、製品の用途に合わせて切断し、さらに所定寸法のシートに裁断する。本実施形態では、例えば1辺の長さを200mmとする正方形状に裁断する。
そして、このスルーホールに、金属粒子が分散した厚膜導電ペーストを充填することにより、コンタクト6となるべき部位を形成する。さらに、厚膜導電ペーストをスクリーン印刷によって所定の位置に端子部(図示せず)を形成する。このようにしてコンタクト、端子部までを形成することにより、セラミックグリーンシート(セラミックス成形体)7を得る。なお、厚膜導電ペーストとしては、本発明の導体パターン形成用インクを用いることができる。
このようにして前駆体11を形成したら、同様の工程により、前駆体11を形成したセラミックスグリーンシート7を必要枚数、例えば10枚から20枚程度作製する。
次いで、これらセラミックスグリーンシート7からPETフィルムを剥がし、図4に示すようにこれらを積層する。このとき、積層するセラミックスグリーンシート7については、上下に重ねられるセラミックスグリーンシート7間で、それぞれの前駆体11が必要に応じてコンタクト6を介して接続するように配置する。その後、セラミックスグリーンシート7を構成するバインダーのガラス転移点以上に加熱しつつ、各セラミックスグリーンシート7同士を圧着する。これにより、積層体12を得る。
ここで、セラミックスグリーンシート7上に配されたインク10中の金属は、加熱処理によって互いに融着し、連続することによって導電性を示すようになる。
このような加熱処理によって回路5は、セラミックス基板2中のコンタクト6に直接接続させられ、導通させられて形成されたものとなる。ここで、この回路5が単にセラミックス基板2上に載っているだけでは、セラミックス基板2に対する機械的な接続強度が確保されず、したがって衝撃等によって破損してしまうおそれがある。しかしながら、本実施形態では、前述したようにセラミックスグリーンシート7中のガラスを一旦軟化させ、その後硬化させることにより、回路5をセラミックス基板2に対し強固に固着させている。したがって、形成された回路5は、機械的にも高い強度を有するものとなる。
なお、このような加熱処理により、回路4についても前記回路5と同時に形成することができ、これによってセラミックス回路基板1を得ることができる。
例えば、充填液は、液滴吐出装置を洗浄する洗浄液として用いてもよい。
また、前述した実施形態では、金属粒子を溶媒に分散してなる分散液として、コロイド液を用いる場合について説明したが、コロイド液でなくてもよい。
[1]充填液および導体パターン形成用インクの調製
各実施例および各比較例における導体パターン形成用インクは、以下のようにして製造した。
[充填液の調製]
イオン交換水と、糖アルコールAとしてのキシリトールと、界面活性剤AとしてのオルフィンEXP4036(日信化学工業社製、アセチレン基を中心に左右対称の構造を有するアセチレングリコール系化合物を80wt%含有)とを表1に示す配合量で混合することにより、充填液を得た。
10N−NaOH水溶液を3mL添加してアルカリ性にした水50mLに、クエン酸3ナトリウム2水和物17g、タンニン酸0.36gを溶解した。得られた溶液に対して3.87mol/L硝酸銀水溶液3mLを添加し、2時間攪拌を行い銀コロイド液を得た。得られた銀コロイド液に対し、導電率が30μS/cm以下になるまで透析することで脱塩を行った。透析後、3000rpm、10分の条件で遠心分離を行うことで、粗大金属コロイド粒子を除去した。
糖アルコールA、糖アルコールBとしてソルビトールを用いた以外は、前記実施例1と同様にして充填液および導体パターン形成用インクを調製した。
(実施例3)
糖アルコールA、糖アルコールBとして、キシリトールおよびマルチトールを用いた以外は、前記実施例1と同様にして充填液および導体パターン形成用インクを調製した。
糖アルコールA、糖アルコールBとして、キシリトールおよびラクチトールを用いた以外は、前記実施例1と同様にして充填液および導体パターン形成用インクを調製した。
(実施例5)
糖アルコールA、糖アルコールBとして、ソルビトールおよびマルチトールを用いた以外は、前記実施例1と同様にして充填液および導体パターン形成用インクを調製した。
糖アルコールA、糖アルコールBとして、ソルビトールおよびラクチトールを用いた以外は、前記実施例1と同様にして充填液および導体パターン形成用インクを調製した。
(実施例7〜9)
糖アルコールAの含有量を表1に示すように変更した以外は、前記実施例1と同様にして洗浄液および導体パターン形成用インクを調製した。
界面活性剤Aの含有量を表1に示すように変更した以外は、前記実施例1と同様にして充填液および導体パターン形成用インクを調製した。
(実施例13〜15)
界面活性剤Aの含有量を表1に示すように変更した以外は、前記実施例3と同様にして充填液および導体パターン形成用インクを調製した。
界面活性剤Aとして、オルフィンEXP4001(日信化学工業社製、アセチレン基を中心に左右対称の構造を有するアセチレングリコール系化合物を80wt%含有)を用いた前記実施例1と同様にして充填液および導体パターン形成用インクを調製した。
(実施例17〜19)
界面活性剤Aとして、サーフィノール104PG50(日信化学工業社製、アセチレン基を中心に左右対称の構造を有するアセチレングリコール系化合物を50wt%含有)を用い、その含有量を表1に示すように変更した以外は、前記実施例1と同様にして充填液および導体パターン形成用インクを調製した。
(実施例20)
充填液を以下のように調製した以外は、前記実施例1と同様にして充填液および導体パターン形成用インクを調製した。
イオン交換水と、糖アルコールAとしてのキシリトールと、界面活性剤AとしてのオルフィンEXP4036(日信化学工業社製、アセチレン基を中心に左右対称の構造を有するアセチレングリコール系化合物を80wt%含有)と、クエン酸3ナトリウム2水和物とを表1に示す配合量で混合することにより、充填液を得た。
クエン酸3ナトリウム2水和物の代わりに、メルカプト酢酸を用いた以外は、前記実施例16と同様にして充填液および導体パターン形成用インクを調製した。
(実施例22)
導体パターン形成用インクを以下のように調製した以外は、前記実施例1と同様にして充填液および導体パターン形成用インクを調製した。
この銀コロイド粒子の湿ケーキを濃度が10wt%になるように水に添加し、撹拌しながら26wt%アンモニア水にてpHを9.0に調整して再分散させて、さらに濃縮して銀コロイド液を得た。
以下、実施例1と同様にして導体パターン形成用インクを調製した。
充填液の調製において糖アルコールAを添加しなかった以外は、前記実施例1と同様にして充填液および導体パターン形成用インクを調製した。
(比較例2)
充填液の調製において界面活性剤Aを添加しなかった以外は、前記実施例1と同様にして充填液および導体パターン形成用インクを調製した。
図1、図2に示すようなインクジェット装置を構成するインクジェットヘッドのインク流路内に各実施例および各比較例で得られた充填し、当該インクジェットヘッドを室温25℃、相対湿度50%、クラス100のクリーンルーム内に24時間放置した。
次に、上記インクジェットヘッドを用いて、図1、図2に示すようなインクジェット装置を組み立て、インクジェットヘッド内の充填液を排出した。
A:ΔW/WTの値が、0.020未満。
B:ΔW/WTの値が、0.020以上、0.420未満。
C:ΔW/WTの値が、0.420以上、0.720未満。
D:ΔW/WTの値が、0.720以上。
図1、図2に示すようなインクジェット装置を構成するインクジェットヘッドのインク流路内に各実施例および各比較例で得られた充填し、当該インクジェットヘッドを室温25℃、相対湿度50%、クラス100のクリーンルーム内に24時間放置した。
次に、上記インクジェットヘッドを用いて、図1、図2に示すようなインクジェット装置を組み立てた後、インクジェット装置のインクの流路に同じインクを再び充填した。充填は、インクの流路内に、導体パターン形成用インクを1.0ml/minの流速で、300秒間流すことによって行った。
A:ΔW/WTの値が、0.020未満。
B:ΔW/WTの値が、0.020以上、0.420未満。
C:ΔW/WTの値が、0.420以上、0.720未満。
D:ΔW/WTの値が、0.720以上。
これらの結果を表3に示す。
Claims (12)
- インクジェット方式による導体パターンの形成に用いられ、金属粒子が水系分散媒に分散した導体パターン形成用インクを吐出する液滴吐出装置を保管する際に、該液滴吐出装置内を充填する充填液であって、
前記水系分散媒と、糖アルコールAと、界面活性剤Aとを含むことを特徴とする充填液。 - 前記導体パターン形成用インクは、糖アルコールBを含み、
充填液中に含まれる前記糖アルコールAは、前記導体パターン形成用インク中に含まれる前記糖アルコールBと同種のものを含む請求項1に記載の充填液。 - 前記導体パターン形成用インクは、界面活性剤Bを含み、
充填液中に含まれる前記界面活性剤Aは、前記導体パターン形成用インク中に含まれる前記界面活性剤Bを構成する成分の少なくとも一部を含むものである請求項1または2に記載の充填液。 - 前記糖アルコールAは、キシリトールおよび/またはソルビトールを含む請求項1ないし3のいずれかに記載の充填液。
- 充填液中における前記糖アルコールAの含有量は、3〜25wt%である請求項1ないし4のいずれかに記載の充填液。
- 前記界面活性剤Aの親水親油バランス(HLB)は、8〜16である請求項1ないし5のいずれかに記載の充填液。
- 前記界面活性剤Aは、アセチレングリコール系化合物を含む請求項1ないし6のいずれかに記載の充填液。
- 前記アセチレングリコール系化合物は、アセチレン基を中心に左右対称の構造を有するものである請求項7に記載の充填液。
- 充填液中における前記界面活性剤Aの含有量は、0.05〜5wt%である請求項1ないし8のいずれかに記載の充填液。
- COOH基とOH基とを合わせて3個以上有し、かつ、COOH基の数がOH基の数と同数またはCOOH基の数がOH基の数よりも多いヒドロキシ酸またはその塩を含む請求項1ないし9のいずれかに記載の充填液。
- COOH基とSH基とを合わせて2個以上有するメルカプト酸またはその塩を含む請求項1ないし10のいずれかに記載の充填液。
- 前記充填液の表面張力は、20〜50dyn/cmであって、
充填液の表面張力は前記導体パターン形成用インクの表面張力以下である請求項1ないし11のいずれかに記載の充填液。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007319025A JP4416032B2 (ja) | 2007-12-10 | 2007-12-10 | 充填液 |
US12/330,567 US20090145519A1 (en) | 2007-12-10 | 2008-12-09 | Filling liquid |
CN2008101843748A CN101691087B (zh) | 2007-12-10 | 2008-12-10 | 填充液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007319025A JP4416032B2 (ja) | 2007-12-10 | 2007-12-10 | 充填液 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009136845A true JP2009136845A (ja) | 2009-06-25 |
JP4416032B2 JP4416032B2 (ja) | 2010-02-17 |
Family
ID=40720392
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007319025A Expired - Fee Related JP4416032B2 (ja) | 2007-12-10 | 2007-12-10 | 充填液 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090145519A1 (ja) |
JP (1) | JP4416032B2 (ja) |
CN (1) | CN101691087B (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013170252A (ja) * | 2012-02-22 | 2013-09-02 | Seiko Epson Corp | インクジェット用インクセット、および洗浄方法 |
JP2013227414A (ja) * | 2012-04-25 | 2013-11-07 | Seiko Epson Corp | インクジェット用インクセット、および洗浄方法 |
JP2014162819A (ja) * | 2013-02-22 | 2014-09-08 | Seiko Epson Corp | インクジェット用インクセット、及び記録装置 |
WO2018212053A1 (ja) * | 2017-05-17 | 2018-11-22 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録方法、及びインクジェット記録装置 |
JP2018192786A (ja) * | 2017-05-17 | 2018-12-06 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録方法、及びインクジェット記録装置 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103289474B (zh) * | 2012-02-22 | 2016-07-06 | 精工爱普生株式会社 | 喷墨用油墨组和清洗方法 |
JP2022170282A (ja) * | 2021-04-28 | 2022-11-10 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | インクセット及び記録ヘッドの検査方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6123876A (en) * | 1995-04-04 | 2000-09-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Metal-containing composition for forming electron-emitting device |
JPH111046A (ja) * | 1997-06-12 | 1999-01-06 | Brother Ind Ltd | 記録ヘッドユニットの梱包体及び記録ヘッドユニットの梱包方法 |
JP2004010632A (ja) * | 2002-06-03 | 2004-01-15 | Fuji Xerox Co Ltd | インクジェット記録用ブラックインク、インクセットおよびこれを用いたインクジェット記録方法 |
TWI288770B (en) * | 2002-08-27 | 2007-10-21 | Kiwa Chemical Ind Co Ltd | Inkjet recording ink for sublimation transfer and method of dyeing |
US7198351B2 (en) * | 2002-09-24 | 2007-04-03 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Ink jet recording apparatus |
US6893790B2 (en) * | 2003-08-26 | 2005-05-17 | Eastman Kodak Company | Photopatterning of conductive electrode layers containing electrically-conductive polymer particles |
KR101215119B1 (ko) * | 2004-03-01 | 2012-12-24 | 스미토모덴키고교가부시키가이샤 | 금속콜로이드용액 및 잉크젯용 금속잉크 |
JP4151653B2 (ja) * | 2005-01-17 | 2008-09-17 | セイコーエプソン株式会社 | 機能液滴吐出ヘッドの初期充填方法、機能液滴吐出ヘッドの初期充填装置、機能液滴吐出ヘッド、機能液供給装置、液滴吐出装置、および電気光学装置の製造方法 |
JP4207161B2 (ja) * | 2005-04-20 | 2009-01-14 | セイコーエプソン株式会社 | マイクロカプセル化金属粒子及びその製造方法、水性分散液、並びに、インクジェット用インク |
JP4636251B2 (ja) * | 2005-08-10 | 2011-02-23 | ブラザー工業株式会社 | インクジェット記録装置 |
JP4636252B2 (ja) * | 2005-08-11 | 2011-02-23 | ブラザー工業株式会社 | インクジェット記録装置 |
JP5125463B2 (ja) * | 2007-12-10 | 2013-01-23 | セイコーエプソン株式会社 | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 |
JP4867904B2 (ja) * | 2007-12-10 | 2012-02-01 | セイコーエプソン株式会社 | 導体パターン形成用インク、導体パターン、導体パターンの形成方法および配線基板 |
JP4911003B2 (ja) * | 2007-12-10 | 2012-04-04 | セイコーエプソン株式会社 | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 |
JP4867905B2 (ja) * | 2007-12-11 | 2012-02-01 | セイコーエプソン株式会社 | 導体パターン形成用インク、導体パターン、および配線基板 |
-
2007
- 2007-12-10 JP JP2007319025A patent/JP4416032B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-12-09 US US12/330,567 patent/US20090145519A1/en not_active Abandoned
- 2008-12-10 CN CN2008101843748A patent/CN101691087B/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013170252A (ja) * | 2012-02-22 | 2013-09-02 | Seiko Epson Corp | インクジェット用インクセット、および洗浄方法 |
JP2013227414A (ja) * | 2012-04-25 | 2013-11-07 | Seiko Epson Corp | インクジェット用インクセット、および洗浄方法 |
JP2014162819A (ja) * | 2013-02-22 | 2014-09-08 | Seiko Epson Corp | インクジェット用インクセット、及び記録装置 |
WO2018212053A1 (ja) * | 2017-05-17 | 2018-11-22 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録方法、及びインクジェット記録装置 |
JP2018192786A (ja) * | 2017-05-17 | 2018-12-06 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録方法、及びインクジェット記録装置 |
CN110520303A (zh) * | 2017-05-17 | 2019-11-29 | 佳能株式会社 | 喷墨记录方法和喷墨记录设备 |
US10844237B2 (en) | 2017-05-17 | 2020-11-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording method and ink jet recording apparatus |
JP7130415B2 (ja) | 2017-05-17 | 2022-09-05 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録方法、及びインクジェット記録装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101691087A (zh) | 2010-04-07 |
US20090145519A1 (en) | 2009-06-11 |
CN101691087B (zh) | 2011-12-14 |
JP4416032B2 (ja) | 2010-02-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4867905B2 (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターン、および配線基板 | |
JP4867904B2 (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターン、導体パターンの形成方法および配線基板 | |
KR101036203B1 (ko) | 도체 패턴 형성용 잉크, 도체 패턴 및 배선 기판 | |
JP4416032B2 (ja) | 充填液 | |
JP4483929B2 (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 | |
JP5125463B2 (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 | |
JP4911003B2 (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 | |
JP4911004B2 (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 | |
JP4911007B2 (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 | |
JP5125464B2 (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 | |
JP4911005B2 (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 | |
JP2009136844A (ja) | 洗浄液および液滴吐出装置 | |
JP2011129787A (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターン、配線基板 | |
JP5024014B2 (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 | |
JP4911006B2 (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 | |
JP2009120718A (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 | |
JP2009138165A (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 | |
JP5076868B2 (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JP2009298914A (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 | |
JP2009298913A (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 | |
JP2009138164A (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 | |
JP2011184562A (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 | |
JP2011157531A (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 | |
JP2011178934A (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 | |
JP2011190353A (ja) | 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090811 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091007 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091104 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091117 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121204 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121204 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131204 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |