JP2009135826A - 圧電振動デバイスおよび圧電振動デバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 水晶基板3と、当該水晶基板3の表裏主面にレーザービームあるいは電子ビームによって接合される、透光性の第1のパッケージ基材2と第2のパッケージ基材4とからなる水晶振動子1であって、前記各パッケージ基材の前記水晶基板3との接合面の少なくとも周縁部分には、金属からなる下地層と、当該下地層の上に熱吸収接合材が形成されているとともに、前記熱吸収接合材は前記下地層よりも軟質金属で、かつ厚膜状態で形成されている。
【選択図】 図2
Description
前記第1の熱吸収接合材の厚みが、前記第2の熱吸収接合材の厚みよりも厚く形成されている圧電振動デバイスであるので、下地層に比べて厚膜状態である熱吸収接合材の厚み制御を段階的に行うことができる。
以下、圧電基板として水晶基板を用いた水晶振動子を例に挙げて、本発明による第1の実施形態について図1乃至図3に基づいて説明する。図1は本発明の第1の実施形態を示すパッケージ基材の長辺方向の断面図で、図2は本発明の第1の実施形態を示す水晶振動子の長辺方向の断面図であり、図3は図2のA部拡大図である。なお、図2において水晶振動子の底面(裏面)に形成される外部接続端子と、当該外部接続端子と水晶基板の表裏主面に形成された電極とを電気的に接続する配線導体の記載は省略している。
本実施形態における第2の実施形態を、圧電基板として水晶基板を用いた水晶振動子を例に挙げて、図4乃至図6を用いて説明する。図4は本発明の第2の実施形態を示す水晶振動子の長辺方向の断面図である。図5は図4のB部拡大図であり、図6は本発明の第2の実施形態を示す水晶振動子の平面図である。なお、第1の実施形態と同様の構成については同番号を付して説明の一部を割愛するとともに、前述の実施形態と同様の効果を有する。
前記第1の熱吸収接合材212は、めっき法を用いることによって真空蒸着法を用いる場合よりも厚膜状態に成膜することが可能となる。
本実施形態における第3の実施形態を、圧電薄膜共振子(FBAR:Film Bulk Acoustic Resonator)を例に挙げて、図7を用いて説明する。図7は第2の実施形態を示す水晶振動子の長辺方向の断面図であり、前述の実施形態と同様の構成については、同番号を付して説明の一部を割愛するとともに、前述の実施形態と同様の効果を有する。
接合界面における空隙(ボイド)に溶融金属を充填させることが可能になる。これにより、前記接合界面における空隙を抑制して平らな状態に近づけることができる。その結果、良好な気密性を有する圧電薄膜デバイスを提供することができる。
2 第1のパッケージ基材
3 水晶振動片
4 第2のパッケージ基材
5 水晶基板
201 第1の金属膜
301 第2の金属膜
302 第3の金属膜
401 第4の金属膜
211、311 下地層
212 第1の熱吸収接合材
213 第2の熱吸収接合材
312 上層金属膜(第2の金属膜の)
31 凹陥部
32 厚肉部
33 励振電極
Claims (5)
- 圧電基板と、当該圧電基板の表裏主面にレーザービームあるいは電子ビームによって接合される、2つの透光性のパッケージ基材とからなる圧電振動デバイスであって、
前記各パッケージ基材の前記圧電基板との接合面の少なくとも周縁部分には、金属からなる下地層と、当該下地層の上に熱吸収接合材が形成されているとともに、
前記熱吸収接合材は前記下地層よりも軟質金属で、かつ厚膜状態で形成されていることを特徴とする圧電振動デバイス。 - 前記熱吸収接合材は、前記下地層の上に形成される第2の熱吸収接合材と、当該熱吸収接合材の上に形成される第1の熱吸収接合材の2層で構成されているとともに、
前記第1の熱吸収接合材の厚みが、前記第2の熱吸収接合材の厚みよりも厚いことを特徴とする請求項1に記載の圧電振動デバイス。 - 前記第1の熱吸収接合材は、めっき法によって形成されていることを特徴とする請求項2に記載の圧電振動デバイス。
- 前記熱吸収接合材が、金からなることを特徴とする請求項1乃至3に記載の圧電振動デバイス。
- 表裏主面に金属膜が形成された透光性の圧電基板と、主面周縁部分の最上面にめっき法によって形成された熱吸収接合材を有する透光性の第1および第2のパッケージ基材と、を用意し、
前記金属膜に、前記熱吸収接合材が重なるように前記各パッケージ基材を前記圧電基板上に位置決め載置する位置決め工程と、
前記金属膜と前記熱吸収接合材を一部または全部接合することにより、前記各パッケージ基材と前記圧電基板とを仮止め接合する仮止め工程と、
前記第1のパッケージ基材の熱吸収接合材と前記圧電基板の金属膜との接合領域と、前記第2のパッケージ基材の熱吸収接合材と前記圧電基板の金属膜との接合領域とが、平面視で重ならない位置にレーザービームあるいは電子ビームを照射して前記各パッケージ基材と前記圧電基板との接合を行う本接合工程とを、
有する圧電振動デバイスの製造方法。
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