JP2009129965A - 成膜方法及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】Pbと(CH3)2CHCOCHCOCH(CH3)2で示される第1の有機化合物との金属錯体を含む第1の有機金属原料と、Zrと(CH3)2CHCOCHCOCH(CH3)2で示される第2の有機化合物との金属錯体を含む第2の有機金属原料と、Tiと第3の有機化合物との金属錯体を含む第3の有機金属原料とを含む原料を用いて化学気相成長法により、Pb、Zr、Tiを含む膜を形成することを特徴とする成膜方法。
【選択図】なし
Description
そして、気化器に導入されて気化された原料は、キャリアガスとともに成膜チャンバーに導入され、同時に導入された酸化剤との反応及び分解により、成膜チャンバー内の基板上にPZT膜が形成される。
パーティクルがPZT膜中に存在すると、電気回路の短絡による不良等が多発し、歩留まりの向上に支障をきたすことになる。
本発明の目的は、PZT系の膜を形成する際にパーティクルの発生を抑制することができる成膜方法と半導体装置の製造方法を提供することにある。
図1は、本発明の実施形態に係る成膜方法を実施するための成膜装置の一例を示す構成図である。
なお、第3のガス管19、第1のガス配管15及び成膜チャンバー10のそれぞれの外面はヒータ9により覆われ、気化された有機金属原料等の凝集を防止している。
有機金属原料が気化する際には吸熱作用により気化チャンバー16aの温度が低下し易いので、これを防止するためには熱容量を稼げるステンレスなどの材質から気化チャンバー16aを構成する。
第1〜第6の原料容器24〜29のそれぞれには、内部に充填された液体原料に到達する深さで第2〜第7の給液管22a〜22fが差し込まれている。
なお、PZT膜を形成する際には、第4、第5の原料容器27、28は使用されない。
ここで、Pb、Zr等の金属をMで示し、金属Mに付加するDMHDの個数をnとすると、M(DMHD)nの構造式は次の式(13)で示される。
チタン(Ti)のCVD原料として、例えば、Ti(O iPr)2(DPM)2、Ti(O iPr)2(DMHD)2などの第3の有機金属原料が使用される。
[OCH(CH3)2]2[(CH3)2HC-COCHCO-CH(CH3)2]2 (15)
まず、成膜チャンバー10内のウェーハステージ5上に基板1を載置し、成膜チャンバー10内の圧力が0.1Torr〜20Torr(13.33Pa〜2666Pa)となるように自動圧力制御器14を制御し、さらにヒータ6により基板1を例えば620℃となるように加熱制御する。
なお、基板1の表面には、例えば、貴金属であるイリジウム或いは貴金属酸化物である酸化イリジウムが下地層として形成されている。
キャリアガスとして、有機金属化合物との反応を抑制するために不活性ガスが用いられる。
気化圧力は、成膜チャンバー10の圧力に影響されるが、液状のCVD原料の流量、キャリアガスの流量などの調整によって制御される。
これにより、CVD原料ガスと酸化ガスは基板1表面の下地膜上にムラ無く到達し、そこで反応及び分解を繰り返すことによりPZT膜2が基板1上に形成される。この場合、基板1の表面には、イリジウム或いは酸化イリジウムが形成されているので、PZT膜2は(111)優先配向性を有する。
まず、従来技術の成膜方法によってPZT膜を形成する際に基板上に飛来するパーティクルについて説明する。
有機溶剤種に溶解する有機金属化合物の濃度は、一般的に0.5mol/l〜1.0mol/lとなるように調整され、第1〜第3の原料容器24〜26に充填される。
従来技術の成膜方法によりPZT膜を形成する際に基板に飛来するパーティクルの発生原因は次の3つに分類される。
第2に、CVD原料中の液中に含まれるパーティクルが気化残渣となり、さらにこの気化残渣が基板1上に飛来する。
第3に、CVD原料間の気相反応により形成された前駆体がパーティクルとなり、そのまま基板1上に飛来する。
なお、以下の説明においても、0.2μm以上の大きさのパーティクルを検出対象にする。パーティクル数は所定面積当たりでカウントされる。
しかし、Zr(DPM)4は、非常に蒸気圧が低いために従来のPZTの成膜方法では十分な気化特性が得らず、この結果、Zr(DPM)4がガス凝縮してパーティクルとなる。
なお、Ti(O iPr)2(DPM)2は付加体交換が生じにくい。
PZT膜の形成時にZr(DMHD)4とTi(O iPr)2(DPM)2の供給量を固定し、Pb(DPM)2のみの供給量を変化させたところ、パーティクル数は、Pb(DPM)2供給量の増加に伴い増加し、その後に飽和する。
図5によれば、Pb(DMHD)2の供給量には殆ど影響されずにパーティクルの数は所定面積において約20個となり、図4に示した従来技術に比べて1桁以上減少した。
Zr(DMHD)4とTi(O iPr)2(DPM)2の供給量を固定し、Pb(DMHD)2の供給量を変化させ、これによりZrとTiの総量に対するPb量の割合の変化を調べたところ、図6の実線に示すようになった。
上述したように、基板1の表面にはイリジウム或いは酸化イリジウムの下地膜を形成し、そのような下地膜の上に本実施形態によりPZT膜2を形成した。さらに、同じ構造の下地膜の上に従来技術によりPZT膜を形成した。それらのPZT膜は図7に示すような配向性を有した。
まず、PZT膜の堆積条件を次のように設定する。
まず、PZT膜の堆積条件を次のように設定する。
これにより、Pb(DMHD)2を用いる本実施形態の成膜方法によって気化残渣を減少させることができ、基板1の上に形成されたPZT膜へ飛来するパーティクルを減少させることができる。
PZT膜2の作製条件は、気化器16内の圧力を20Torrに固定し、さらに気化器16内の気化温度を260℃に固定した。また、基板1の表面に下地膜としてイリジウム膜を形成した。そして、成膜チャンバー10において、ヒータ6による基板1の加熱温度を620℃とし、プロセス圧力を20Torrに固定し、チャンバー内の酸素分圧を5Torrとする。
原料に含まれる水分を0.05重量%、0.1重量%、0.5重量%に変化させ、PZT膜2へ飛来するパーテルクル量を調査した。
なお、酢酸ブチルに溶解するPb(DMHD)2の濃度を0.1mol/lとした。
これに対して、Pb(DPM)2を用いる従来技術の成膜方法によれば、CVD原料の含有水分に関わらずパーティクルが常に発生していた。
この結果、パーティクルを起因とする膜の欠陥を大幅に低減することができ、デバイス作製の歩留まりを改善することができる。
図11A〜図11Iは、本発明の第1実施形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図である。
図11Aにおいて、p型又はn型のシリコン(半導体)基板41のメモリセル領域Aと周辺回路領域Bにおける所定の活性領域にp型不純物とn型不純物のいずれかを選択して導入することにより、メモリセル領域Aの活性領域に第1のウェル42aを形成され、周辺回路領域Bの活性領域には第2のウェル42bを形成する。
シリコン基板41の表面上に、ゲート絶縁膜44として例えばシリコン酸化膜を熱酸化法により形成する。さらに、第1のウェル42a上のゲート絶縁膜44の上に、間隔をおいて第1、第2のゲート電極45a,45bを形成する。
まず、シリコン酸化膜の形成とその後のエッチバックにより、ゲート電極45a,45bの側面に絶縁性のサイドウォール50を形成する。続いて、ゲート電極45a,45b及びサイドウォール50をマスクにして第1のウェル42aにエクステンション領域47a,47b,47cと同じ導電型の不純物をイオン注入することにより、エクステンション領域47a,47b,47cの一部に重なる第1、第2及び第3の高濃度不純物拡散領域48a,48b,48cを形成する。第1、第2及び第3の高濃度不純物拡散領域48a,48b,48cは、それぞれエクステンション領域47a、47b、47cとともに第1、第2及び第3のソース/ドレイン領域49a,49b,49cを構成する。
まず、第1の層間絶縁膜52と第1、第2及び第3のプラグ電極55a,55b,15cの上に、チタン(Ti)膜をスパッタリング法により20nmの厚さに形成する。Ti膜は、自己配向性の強い性質を有する金属膜の1つであり、c軸に配向する良好な結晶性を有する。続いて、Ti膜を窒素(N2)雰囲気中で急速熱アニール(RTA)処理を行って窒化することによりTiN膜56を形成する。
PZT膜59の形成は、有機金属材料としてPb(DMHD)2、Zr(DMHD)4、Ti(O iPr)2(DPM)2をそれぞれ有機溶剤により液化し、それらを上述した本実施形態の成膜方法の条件に従って図1に示す成膜装置の成膜チャンバー10内に供給することによって、CVD法により実施される。
これにより、Pb(DMHD)2とZr(DMHD)4の原料間の付加体交換を抑制することができ、基板41上に飛来するパーティクルを抑制することができる。
ところで、PZT膜59は2ステップで形成されてもよく、例えば、一層目のPZT膜を5nmの厚さに形成し、二層目を115nmの厚さとする。
まず、PZT膜59上に、例えば厚さ150nmの酸化イリジウム(IrOx)膜61をスパッタ法により形成する。ここで、導電性酸化物である酸化イリジウムを用いたのは、PZT膜59の水素劣化耐性を向上させるためであるが、Pt膜、SrRuO3(SRO)を用いてもよい。
まず、第1の酸化アルミニウム(Al2O3;以降、ALOと表記する)膜66を保護膜として強誘電体キャパシタQ、層間絶縁膜52及び第2のプラグ電極55bの表面の上に形成する。ここでは、ステップカバレッジが良好な第1のALO膜66をALD(ALD;Atomic Layer Deposition)法により40nmの厚さに形成する。
まず、フォトレジストをマスクとするフォトリソグラフィー法により第3の層間絶縁膜69、第2のALO膜68、第2の層間絶縁膜67及び第1のALO膜66の一部をエッチングし、これにより第1、第3のプラグ電極55a,55cの上方の上部電極65の表面を露出させる第1、第3のビアホール70a,70cを形成する。
具体的には、まず、全面に、例えばスパッタリング法により厚さ60nm程度のTi膜、厚さ30nm程度のTiN膜からなる下側グルー膜74aを形成し、さらに厚さ400nm程度のAlCu合金からなる配線膜74bを形成し、続いて厚さ5nm程度のTi膜、及び厚さ70nm程度のTiN膜からなる上側グルー膜74cを順次積層する。
この結果、パーティクルを起因とするPZT系膜の欠陥を大幅に低減することができ、強誘電体メモリの歩留まりを改善することができる。
以上のように、PZT系膜中にパーティクルが入ることを防止することにより、強誘電体メモリを構成する強誘電体キャパシタの歩留まりを高くすることができ、しかも記憶容量の低下を防止することができる。
2 PZT膜
5 ウェーハステージ
6 ヒータ
8 マニホールド
10 成膜チャンバー
16 気化器
23a〜23f マスフローコントローラ
24〜29 原料容器
41 シリコン基板(半導体基板)
59 PZT膜
64 下部電極
65 上部電極
Qキャパシタ
Claims (6)
- 前記第3の有機化合物は、次の式(2)又は(3)のいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の成膜方法。
[OCH(CH3)2]2[(CH3)3C-COCHCO-C(CH3)3]2 (2)
[OCH(CH3)2]2[(CH3)2HC-COCHCO-CH(CH3)2]2 (3) - 前記第1の有機金属原料、前記第2の有機金属原料及び前記第3の有機金属原料は、それぞれ有機溶剤に溶解されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の成膜方法。
- 前記第1の有機金属原料、前記第2の有機金属原料及び前記第3の有機金属原料のそれぞれは、前記有機溶剤に溶解された後、気化されることを特徴とする請求項3に記載の成膜方法。
- 250〜270℃の温度条件で前記気化を行うことを特徴とする請求項4に記載の成膜方法。
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