JP2009117711A5 - - Google Patents

Claims (8)

1. 基板処理装置の処理室に配されて該処理室内の処理空間に処理ガスを供給する処理ガス供給部が有するシャワープレートであって、
   前記処理ガス供給部内に形成され且つ前記処理ガスが導入される処理ガス導入空間及び前記処理空間の間に介在し、
   前記処理ガス導入空間及び前記処理空間を連通させる処理ガス供給経路を有し、
   前記処理ガス供給経路は、前記処理ガス導入空間側に形成された複数のガス穴と、前記処理空間側に形成された複数のガス溝とを有し、前記複数のガス穴及び前記複数のガス溝は、前記複数のガス穴が、前記複数のガス溝の底部において該ガス溝の長さ方向に沿って均等に開口するようにして互いに連通し、
   前記全てのガス溝の流路断面積の合計値は、前記全てのガス穴の流路断面積の合計値よりも大きいことを特徴とするシャワープレート。
2. 前記断面における前記全てのガス溝の流路断面積の合計値は、前記全てのガス穴の流路断面積の合計値の１．７５倍以上であることを特徴とする請求項１記載のシャワープレート。
3. 前記ガス溝の深さは５ｍｍより大きいことを特徴とする請求項１又は２記載のシャワープレート。
4. 前記複数のガス溝は、前記処理空間側の表面において直線状且つ互いに平行に形成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のシャワープレート。
5. 厚さ方向に関して２分割された第１の部材及び第２の部材からなり、
   前記第１の部材は前記ガス導入空間側に配され、且つ前記第２の部材は前記処理空間側に配され、
   前記複数のガス穴は前記第１の部材に形成されるとともに、前記複数のガス溝は前記第２の部材に形成されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のシャワープレート。
6. 基板を収容して処理を施す処理室と、該処理室に配されて該処理室内の処理空間に処理ガスを供給する処理ガス供給部とを備える基板処理装置であって、
   前記処理ガス供給部は、該処理ガス供給部内に形成され且つ前記処理ガスが導入される処理ガス導入空間及び前記処理空間の間に介在するシャワープレートを有し、
   該シャワープレートは前記処理ガス導入空間及び前記処理空間を連通させる処理ガス供給経路を有し、
   前記処理ガス供給経路は、前記シャワープレートの前記処理ガス導入空間側に形成された複数のガス穴と、前記シャワープレートの前記処理空間側に形成された複数のガス溝とを有し、前記複数のガス穴及び前記複数のガス溝は、前記複数のガス穴が、前記複数のガス溝の底部において該ガス溝の長さ方向に沿って均等に開口するようにして互いに連通し、
   前記全てのガス溝の流路断面積の合計値は、前記全てのガス穴の流路断面積の合計値よりも大きいことを特徴とする基板処理装置。
7. 前記処理ガス供給部は、前記処理ガス導入空間及び前記シャワープレートの間に介在し、且つ該シャワープレートを冷却するクーリングプレートを有し、
   該クーリングプレートは、前記処理ガス導入空間及び前記処理ガス供給経路を連通させる複数の貫通穴を有することを特徴とする請求項６記載の基板処理装置。
8. 基板を収容して処理を施す処理室と、該処理室に配されて該処理室内の処理空間に処理ガスを供給する処理ガス供給部とを備える基板処理装置であって、
   前記処理ガス供給部は、該処理ガス供給部内に形成され且つ前記処理ガスが導入される処理ガス導入空間及び前記処理空間の間に介在するシャワープレートと、前記処理ガス導入空間及び前記シャワープレートの間に介在し、且つ該シャワープレートを冷却するクーリングプレートとを有し、
   前記シャワープレートは、厚さ方向に貫通し且つ前記処理空間に連通する複数のガス溝を有し、
   前記クーリングプレートは、前記処理ガス導入空間及び前記複数のガス溝を連通させる複数のガス穴であって、前記複数のガス溝の底部において該ガス溝の長さ方向に沿って均等に開口するガス穴を有し、
   前記全てのガス溝の流路断面積の合計値は前記全てのガス穴の流路断面積の合計値よりも大きいことを特徴とする基板処理装置。