JP2009111348A - リソグラフィ装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板を所定の位置で保持するように構成された基板キャリアWCが開示される。基板キャリアは、基板キャリアを通して基板キャリアの基板が保持される側から基板キャリアの反対側へと延在する透明領域2を有し、透明領域は、ガラスから形成することができ、基板キャリア上にある基板の縁部の位置を割り出すために使用される信号に対して実質的に透明である。
【選択図】図2
Description
− 放射のビームPB(例えばUV放射、DUV放射又はEUV放射)を調節する照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持し、アイテムPLに対してパターニングデバイスを正確に位置決めする第一位置決め装置PMに接続された支持構造体(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板Wを担持して、所定の位置に保持するように構成された基板キャリアWCを保持し、アイテムPLに対して基板(例えばレジストコートウェーハ)を正確に位置決めする第二位置決め装置PWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームPBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に結像するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PLとを含む。
Claims (30)
- 静電力を使用して基板を所定の位置に保持する基板キャリアであって、前記基板キャリアが、前記基板キャリアを通って前記基板キャリアの前記基板が保持される側から、前記基板キャリアの反対側へと延在する透明領域を有し、前記透明領域が、前記基板キャリア上の前記基板の縁部の位置を割り出すために使用される信号に対して実質的に透明である、基板キャリア。
- 前記透明領域が、前記基板キャリア上の前記基板の前記縁部位置を割り出すために使用される信号に対して透明である材料を備える、請求項1に記載の基板キャリア。
- 前記透明領域が、前記基板キャリアを通って延在する空間である、請求項1に記載の基板キャリア。
- 保持される前記基板が、前記基板キャリアの実質的に中心に位置設定された場合に、前記基板の縁部の少なくとも一部が前記透明領域上に、又はそれにまたがって存在するように、前記透明領域が位置設定される、請求項1に記載の基板キャリア。
- 前記透明領域の全体的形状が、前記基板キャリア上に保持される基板の縁部の少なくとも一部に対応する、請求項1に記載の基板キャリア。
- 前記透明領域の少なくとも一部が、透明なリング、透明な分割リング又は透明なリングセグメントを形成する、請求項1に記載の基板キャリア。
- 前記透明なリング、前記透明な分割リング又は透明なリングセグメントが、前記基板キャリアの中心を中心とするか、それに近接する曲率半径を有する、請求項6に記載の基板キャリア。
- 前記透明なリング、前記透明な分割リング又は透明なリングセグメントが、前記基板キャリア上に保持される基板の半径より小さい曲率内径、及び前記基板キャリア上に保持される基板の半径より大きい曲率外径を有する、請求項6に記載の基板キャリア。
- 複数の透明領域を備える、請求項1に記載の基板キャリア。
- 前記透明領域の少なくとも一部が、1つ又は複数の透明なリング、1つ又は複数の透明な分割リング、又は1つ又は複数の透明なリングセグメントを形成する、請求項9に記載の基板キャリア。
- 前記少なくとも1つ又は複数の透明なリング、前記1つ又は複数の透明な分割リング、又は前記1つ又は複数の透明なリングセグメントが、前記基板キャリアの中心を中心とする、又はそれに近接する曲率半径を有する、請求項10に記載の基板キャリア。
- 前記1つ又は複数の透明なリング、前記1つ又は複数の透明な分割リング、又は前記1つ又は複数の透明なリングセグメントのうち少なくとも1つが、前記基板キャリア上に保持される基板の半径より小さい曲率内径、及び前記基板キャリア上に保持される基板の半径より大きい曲率外径を有する、請求項10に記載の基板キャリア。
- 第一透明領域及び第二透明領域を備える少なくとも2つの透明領域を備え、前記第一透明領域が、前記基板キャリア上に保持される第一基板と全体的に同様の形状を形成し、前記第二透明領域が、前記基板キャリア上に保持される第二基板のそれと全体的に同様の形状を形成する、請求項9に記載の基板キャリア。
- 前記基板キャリアの基板が保持される側に絶縁層を備え、前記絶縁層が、少なくとも透明領域で、前記基板キャリア上に保持される基板の縁部の位置を割り出すために使用される信号に対して透明である、請求項1に記載の基板キャリア。
- 前記基板キャリアの表面が節のアレイを備える、請求項1に記載の基板キャリア。
- 基板キャリア上の基板の縁部の位置を割り出す方法であって、使用時に、前記基板が静電力を使用して前記基板キャリア上に保持可能であり、
信号ビームを前記基板キャリアの一部へと誘導することを含み、前記信号ビームの少なくとも一部が前記基板キャリアの透明領域を通過し、さらに、
前記基板キャリアの前記透明領域を通過した前記信号ビームの前記少なくとも一部から、前記基板の前記縁部の位置を割り出すことを含む方法。 - 前記基板の前記縁部が、縁部検出器を使用して割り出される、請求項16に記載の方法。
- 前記基板の前記縁部が、信号ビームを移動することによって割り出される、請求項16に記載の方法。
- 前記信号ビームが検出された場合に、前記基板の前記縁部が割り出される、請求項18に記載の方法。
- 前記信号ビームがもはや検出されない場合に、前記基板の前記縁部が割り出される、請求項18に記載の方法。
- 前記放射ビームのどの部分が前記基板キャリアの前記透明領域を通過するかを割り出すことによって、前記基板の前記縁部が割り出される、請求項16に記載の方法。
- 前記放射ビームのどの部分が前記透明領域を通過したかを割り出すことが、その部分の強度を割り出すことを含む、請求項21に記載の方法。
- 前記基板キャリアの前記透明領域を通過した前記放射ビームの前記部分の前記強度が、前記基板に入射する前の前記信号ビームの強度と比較される、請求項22に記載の方法。
- 前記基板キャリアの前記透明領域を通過した前記放射ビームの前記部分の空間範囲を割り出すことによって、前記基板の前記縁部が割り出される、請求項16に記載の方法。
- 複数の位置で前記基板の前記縁部の前記位置を割り出すことを含む、請求項16に記載の方法。
- 放射のビームを調整する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを与えるパターニングデバイスを支持する支持構造体と、
基板キャリアを保持する基板テーブルと、
静電力を使用して基板を所定の位置に保持する基板キャリアであって、前記基板キャリアを通って前記基板キャリアの前記基板が保持される側から前記基板キャリアの反対側へと延在する透明領域を有し、前記透明領域が、前記基板キャリア上の前記基板の縁部の位置を割り出すために使用される信号に対して実質的に透明である、基板キャリアと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと
を備えるリソグラフィ装置。 - 基板を所定の位置に保持する基板キャリアであって、前記基板キャリアが保持するように設計された基板の少なくとも1つの幅より小さい少なくとも1つの外幅を有する基板キャリア。
- 静電力を使用して前記基板を所定の位置に保持する、請求項27に記載の基板キャリア。
- 前記基板キャリアが保持するように設計された基板が、前記基板キャリアの中心に配置されると、前記基板の周縁が前記基板キャリアの周縁を越えて延在するように成形される、請求項27に記載の基板キャリア。
- 基板を所定の位置に保持する方法であって、
基板の少なくとも1つの幅より小さい少なくとも1つの外幅を有する基板キャリア上に前記基板をロードし、
前記基板キャリアを使用して前記基板を所定の位置に保持することを含む方法。
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