JP2009111209A - 固体撮像素子およびそれを用いた撮像装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】固体撮像素子を、所定のピッチで2次元配置された複数の受光部と、個々の前記受光部に対応させて複数のマイクロレンズが2次元配置されてなるマイクロレンズアレイとを少なくとも備えるものとし、マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズを、曲率半径が異なる2種以上のマイクロレンズからなるものとし、有効撮像領域を中心から周辺に向って複数の部分領域に分割し、個々の部分領域内には曲率半径が同じマイクロレンズを配置し、マイクロレンズの曲率半径が異なる部分領域が隣接する境界部には、隣接する部分領域における各々の曲率半径のマイクロレンズが混在している中間帯状部が存在するものとし、隣接するマイクロレンズの曲率半径の差を10%以下とする。
【選択図】 図4
Description
ここで、固体撮像素子には有効撮像領域周辺で感度が低下するシェーディングという現象がある。このシェーディングは、図17に示されるように、カメラレンズから入射する光が、有効撮像領域中心ではほぼ垂直に入射するのに対し、有効撮像領域周辺に向うにつれて入射角度が大きくなり、有効撮像領域周辺での受光部51に対する入射光量の低下が起こることにより生じる現象である。
例えば、図19に示されるようなカメラレンズ特性に起因して生じるシェーディングを、上述のマイクロレンズの曲率を変えることによりマイクロレンズの集光効率を変えて補正する方法では、有効撮像領域の中心部から周辺部に向けて徐々に、且つ、非線形にマイクロレンズの曲率半径を変化させる方法が考えられる。この場合、1画素毎に、すなわち隣接するマイクロレンズ間で曲率を僅かに変化させるように設計することも考えられるが、数百万から一千万以上の全画素に亘って夫々の設計を行うのは膨大な工程となる。また、マイクロレンズの曲率の変化量は全有効撮像領域に亘ってせいぜい数十%、またはそれ以下となることが予想され、隣接するマイクロレンズ間で曲率を僅かに変化させるには変化量が小さすぎる。
本発明は、上記のような実情に鑑みてなされたものであり、シェーディングを防止した固体撮像素子と、このような固体撮像素子を使用した撮像装置を提供することを目的とする。
本発明の他の態様として、前記中間帯状部での曲率半径が異なるマイクロレンズの混在比率は1:0〜0:1の範囲内で連続的に変化するような構成とした。
本発明の他の態様として、部分領域内での曲率半径の異なるマイクロレンズの混在比率は、該部分領域内においてほぼ均一であるような構成とした。
本発明の他の態様として、部分領域内にて、曲率半径の異なるマイクロレンズがランダムに配置されているような構成とした。
本発明の他の態様として、マイクロレンズの平均的曲率半径が、有効撮像領域の中心から周辺に向って大きくなる傾向であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記部分領域はモザイク状であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記部分領域は有効撮像領域中心を中心とする同心の環状領域であるような構成とした。
本発明の撮像装置は、上述の固体撮像素子を備えるような構成とした。
本発明の撮像装置は、シェーディングが防止され、有効撮像領域内で、斜め入射に起因するケラレ等のロスが少なく、入射光量に対しての効率分布の少ない高品位のものであり、小型化、薄型化が可能である。
[固体撮像素子]
図1は本発明の固体撮像素子の一例を示す概略構成図である。図1において、固体撮像素子1は、一定の配置ピッチで設けられた複数の受光部3と遮光膜4を備える基板2と、遮光層6を備えたパッシベーション層5を介して基板2と対向するように積層された下平坦化層7、カラーフィルタ8、上平坦化層9、および、マイクロレンズアレイ10を有している。マイクロレンズアレイ10は、個々の受光部3に対応させて複数のマイクロレンズ11が2次元配置されたものである。そして、一定の配置ピッチで設けられた複数の受光部3に対して、マイクロレンズアレイ10を構成するマイクロレンズ11は、曲率半径が異なる2種以上のマイクロレンズからなるものである。尚、本発明の固体撮像素子は、図1に示す構成に限定されるものではない。
まず、フォトレジストを露光、現像してレジストパターンを形成し、これを熱溶融して凸レンズ状に成形する通常のマイクロレンズの形成方法について説明する。この場合は、マイクロレンズ形成用のフォトマスクのマイクロレンズ底面に対応する部分の寸法を変化させることにより曲率半径を変化させる。図2はマイクロレンズ形成用フォトマスクの1画素分を示す図面である。図2では、黒部がマスクの遮光部であり四角形の角部を切り落とした八角形となっているが、これに限定されるものではなく、四角形でもよく、また、八角形以外の多角形でもよく、さらに、円形、楕円形等であってもよい。図示例では、Aがマイクロレンズ配置のピッチであり、Dがマイクロレンズ底面寸法に対応する寸法である。そして、所望の曲率半径にあわせてDを複数種設定し、所望の配置を行ったフォトマスクを作製すれば、1回のフォトレジスト塗布、露光、現像、熱溶融にて複数種類の曲率半径を有するマイクロレンズアレイを形成することができる。尚、図示例ではX軸方向、Y軸方向を同寸法としているがこれに限定されるものではなく、例えば、デジタルカメラ用途では、X軸方向、Y軸方向が同寸法のマイクロレンズが多く用いられるが、ビデオカメラ用途では、X軸方向、Y軸方向の寸法が異なる場合もある。また、上述の底面八角形のマイクロレンズは、厳密には八角形の対向する頂点を結ぶ方向と、対向する辺の中点を結ぶ方向とで、その断面形状は異なるが、レンズの頂点近傍では略等価であり、底面が
略円形の球面レンズとして見なすことができる。また、以降の説明にてマイクロレンズの底面形状が矩形の場合も示される。この場合、矩形が正方形であれば、正方形の対向する辺の中点を結ぶ方向のマイクロレンズの断面形状と、正方形の対角線方向のマイクロレンズの断面形状とが異なり、それぞれ異なる曲率を有する。このような場合は対向する辺の中点を結ぶ方向の断面形状に基づく曲率を議論することとする。
尚、部分領域の大きさは適宜設定することができ、例えば、幅を100〜10,000μmの範囲、あるいは、幅方向の画素数を50〜2,000個の範囲となるように設定することができる。
また、中間帯状部における曲率半径が異なるマイクロレンズの混在比率を連続的に、すなわち、1:0〜0:1に変化させた場合には、図3に鎖線で示されるように、マイクロレンズの平均的曲率半径の変化を更にスムースなものとすることができる。
尚、中間帯状部の幅は適宜設定することができ、例えば、部分領域の幅の1〜50%の範囲で、あるいは、20〜5,000μmの範囲で設定することができる。
また、本発明の固体撮像素子1は、有効撮像領域は中心から周辺に向って複数の部分領域に分割され、これらの複数の部分領域には、曲率半径の異なるマイクロレンズが混在しているような部分領域を存在させたものとし、隣接するマイクロレンズの曲率半径の差を10%以下、好ましくは5%以下としたものである。この曲率半径の差が10%を超えると、画素間の感度差が10%を超えることとなり、感度バラツキが大きくなって好ましくない。
ここで、本発明における平均的曲率半径とは、ある画素に着目した際の、その画素を含む近傍の連続した画素の集合でのマイクロレンズの曲率半径の平均値である。
また、上記説明では、マイクロレンズの高さを一律として、マイクロレンズの底面寸法を変えて曲率半径を変化させているが、上述のように、マイクロレンズの底面積の大きさを一定としながら曲率半径の異なるマイクロレンズを形成してもよいことは勿論である。以下の実施形態の説明においても同様である。
(第1の実施形態)
図7は、本発明の固体撮像素子の一実施形態におけるマイクロレンズの配置を説明するための図である。本実施形態の固体撮像素子は、有効撮像領域を中心から周辺に向って複数の部分領域に分割し、個々の部分領域内には曲率半径が同じマイクロレンズを配置し、マイクロレンズの曲率半径が異なる部分領域が隣接する境界部には、隣接する部分領域における各々の曲率半径のマイクロレンズが混在している中間帯状部を設け、さらに、隣接するマイクロレンズの曲率半径の差を10%以下、好ましくは5%以下としたものである。すなわち、図7に示されるように、複数のマイクロレンズから構成されるマイクロレンズアレイにおいて、有効撮像領域が中心(0,0)から周辺に向ってX軸方向に3分割、Y軸方向に3分割され、モザイク状に(1)〜(9)までの9種の部分領域に分割されている。そして、隣接する部分領域には鎖線で示すような中間帯状部が設定されている。
図8は図7において円で囲んだ部分領域(1)、(2)、(4)、(5)の拡大図であり、隣接する部分領域に設定される中間帯状部は鎖線で囲まれた領域であり、斜線を付して示している。この図8のY軸方向では、部分領域(1)と部分領域(4)の境界の中間帯状部に、1.6μm×1.6μmと1.6μm×1.645μmの底面寸法のマイクロレンズが混在して配置される。このような2種のマイクロレンズの混在比率は、例えば、1.6μm×1.6μmと1.6μm×1.645μmとが交互となるような1:1とすることができる。また、2種のマイクロレンズの混在比率を1:0〜0:1の範囲内で連続的に変化させてもよい。例えば、部分領域(1)側では1.6μm×1.6μmのマイクロレンズが2/3、1.6μm×1.645μmのマイクロレンズが1/3の比率で混在し、部分領域(4)側では1.6μm×1.6μmのマイクロレンズが1/3、1.6μm×1.645μmのマイクロレンズが2/3の比率で混在するように連続的に変化させることにより、部分領域(1)と部分領域(4)の境界部付近でのスムースな平均的曲率半径の変化が可能となる。さらに、部分領域(1)側では1.6μm×1.6μmのマイクロレンズの比率をほぼ100%とし、部分領域(4)に向うにつれて1.6μm×1.645μmのマイクロレンズの比率を高め、部分領域(4)側では1.6μm×1.645μmのマイクロレンズがほぼ100%となるように混在させることにより、部分領域(1)と部分領域(4)の境界部付近でのマイクロレンズの平均的曲率半径の変化が更にスムースなものとなる。
一方、図8のX軸方向についても同様に、部分領域(1)と部分領域(2)の境界の中間帯状部には、1.6μm×1.6μmと1.645μm×1.6μmの底面積のマイクロレンズが混在して配置され、また、部分領域(4)と部分領域(5)の境界の中間帯状部には、1.6μm×1.645μmと1.645μm×1.645μmの底面積のマイクロレンズが混在して配置される。このような2種のマイクロレンズの混在比率は、上述のY軸方向の中間帯状部と同様とすることができる。
上述の第1の実施形態では、有効撮像領域をX軸方向、Y軸方向に分割してモザイク状に部分領域を設定しているが、有効撮像領域を中心に同心の環状領域に分割して部分領域としてもよい。図10はこのような実施形態を示す図であり、(0,0)点は有効撮像領域の中心点を示し、有効撮像領域はこの中心点を中心とする同心の環状領域に分割されて4つの部分領域(1)〜(4)が画定されている。また、隣接する部分領域には鎖線で示すような中間帯状部が設定されている。そして、部分領域(1)には、曲率半径が最も小さいマイクロレンズL1を配置し、部分領域(2)には、曲率半径が2番目に小さいマイクロレンズL2を配置し、部分領域(3)には、曲率半径が3番目に小さいマイクロレンズL3を配置し、部分領域(4)には、曲率半径が最も大きいマイクロレンズL4を配置する。例えば、画素ピッチを2μmとし、曲率半径が最も小さいマイクロレンズL1を、高さ0.565μm、曲率半径1.944μmとすると、この曲率半径1.944μmの103%の曲率半径は2.003μmとなり、このマイクロレンズL2の高さは0.545μmとなる。また、最小の曲率半径1.944μmの106%の曲率半径は2.061μmとなり、このマイクロレンズL3の高さは0.527μmとなり、さらに、最小の曲率半径1.944μmの110%の曲率半径は2.139μmとなり、このマイクロレンズL4の高さは0.504μmとなる。そして、部分領域(1)には、曲率半径が最も小さいマイクロレンズL1として曲率半径1.944μmのマイクロレンズを配置し、以下、マイクロレンズL2として曲率半径2.003μm、マイクロレンズL3として曲率半径2.061μm、マイクロレンズL4として曲率半径2.139μmのマイクロレンズが部分領域(2)、(3)、(4)に配置される。
本実施形態の固体撮像素子は、有効撮像領域が中心から周辺に向って複数の部分領域に分割され、これらの複数の部分領域には、曲率半径の異なるマイクロレンズが混在しているような部分領域を存在させたものとし、隣接するマイクロレンズの曲率半径の差を10%以下、好ましくは5%以下としたものである。
図11は本実施形態の固体撮像素子のマイクロレンズ配置図である。図11において、(0,0)点は有効撮像領域の中心点を示し、図面が煩雑になるのを避けるために、中心点から右上の1/4の領域の30個×30個の画素のみを示している。図11に示される固体撮像素子では、X軸方向、Y軸方向とも5画素毎に部分領域に分割され、X軸方向では(X1)〜(X6)の6分割とされ、Y軸方向では(Y1)〜(Y6)の6分割とされ、1個の部分領域は5個×5個の画素からなっている。また、マイクロレンズは、曲率半径の小さいマイクロレンズL1(図では白で表示している)と、曲率半径の大きいマイクロレンズL2(図では斜線を付して表示している)の2種類で構成されている。そして、これらのマイクロレンズL1、L2が図11に示すように、1個の部分領域当たり25個の割合で、36個の部分領域に配置されている。また、図12は、図11において円で囲んだ箇所の2個のマイクロレンズL1、L2を示す図である。
上記の例で、例えば、曲率半径の小さいマイクロレンズL1の焦点距離が4μm、曲率半径の大きいマイクロレンズL2の焦点距離が4.4μmであれば、マイクロレンズの平均焦点距離は4μmから4.4μmまでの間をほぼ連続的に表現できる。そして、実際に使用されるマイクロレンズは、曲率半径の小さいマイクロレンズL1と、曲率半径の大きいマイクロレンズL2のわずか2種であり、マスク製作時のマスクデータも比較的容易に作製できる。
上述の実施形態は例示であり、本発明の固体撮像素子はこれらに限定されるものではない。
図14は、本発明の撮像装置の一実施形態を示す概略断面図である。図14において、本発明の撮像装置31は、本発明の固体撮像素子32を備えた基板33と、固体撮像素子32の外側に配した封止用部材34と、この封止用部材34を介して固体撮像素子32と所望の間隙を設けて対向するように配設された保護材35とを備えている。また、固体撮像素子32は配線36、表裏導通ビア37を介して外部端子38に接続されている。このようなセラミックパッケージ型の撮像装置31は、種々のデジタルカメラ、ビデオカメラ等に使用することができ、カメラの高感度化、小型化、薄型化が可能である。
本発明の撮像装置は上述の実施形態に限定されるものではなく、固体撮像素子として本発明の固体撮像素子を備えるものであればよく、従来の種々の撮像装置の構成をそのまま採用することができる。
[実施例]
まず、画素受光部ピッチ2.0μm、画素数2592個×1944個のCMOSイメージセンサーを形成したウェハを用意した。
次に、上記のウェハ上に、以下のようにして、下平坦化層、カラーフィルタ、上平坦化層、および、マイクロレンズを形成した。
ウェハ表面をスピンスクラパーで洗浄した後、光硬化型アクリル系透明樹脂材料(富士マイクロエレクトロニクスマテリアルズ(株)製 CT−2020L)をスピン塗布し、次いで、プリベーク、紫外線全面露光、ポストベークを行って下平坦化層(厚み0.3μm)を形成した。
ネガ型感光性の赤色材料(R用材料)、緑色材料(G用材料)、青色材料(B用材料)として以下の材料を用意した。
R用材料:富士マイクロエレクトロニクスマテリアルズ(株)製 SR−4000L
G用材料:富士マイクロエレクトロニクスマテリアルズ(株)製 SG−4000L
B用材料:富士マイクロエレクトロニクスマテリアルズ(株)製 SB−4000L
G、R、Bの形成順序で、上記材料をスピン塗布し、プリベーク、1/5縮小型のi線ステッパーによる露光、現像、ポストベークを行って、RGBカラーフィルタ(厚み0.8μm)を形成した。尚、現像液として、富士マイクロエレクトロニクスマテリアルズ(株)製 CD−2000の50%希釈液を使用した。また、カラーフィルタの配置ピッチは1.998μm(スケーリング率=99.900%)とした。
RGBカラーフィルタ上に、光硬化型アクリル系透明樹脂材料(富士マイクロエレクトロニクスマテリアルズ(株)製 CT−2020L)をスピン塗布し、次いで、プリベーク、紫外線全面露光、ポストベークを行って上平坦化層(厚み0.3μm)を形成した。
上平坦化層上に、マイクロレンズ材料としてJSR(株)製 MFR401Lを0.7μm厚にスピン塗布し、プリベーク、1/5縮小型のi線ステッパーによる露光、現像、後露光、ポストベークを行って、マイクロレンズを形成した。尚、現像液として、TMAH(テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド)の1.19%液を使用した。
次いで、ウェハのダイシングを行い、パッケージ組立を行って、本発明の固体撮像素子を作製した。
マイクロレンズの形成を以下のように行った他は、実施例と同様にして固体撮像素子を作製した。
(マイクロレンズの形成)
上平坦化層上に、マイクロレンズ材料としてJSR(株)製 MFR401Lをスピン塗布し、プリベーク、1/5縮小型のi線ステッパーによる露光、現像、後露光、ポストベークを行って、マイクロレンズを形成した。尚、現像液として、TMAH(テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド)の1.19%液を使用した。
上記露光においては、図3に示すようなマイクロレンズ形成用のマスクパターンを1種だけ用いて露光を行い、形成したマイクロレンズの曲率半径は1.944μmとした。
上述のように作製した固体撮像素子に関して、下記の条件で感度を測定し、結果を図16に示した。図16に示されるように、本発明の固体撮像素子は、シェーディング補正が有効になされ、その感度分布(図16に実線で示す)は比較例の固体撮像素子の感度分布(図16に鎖線で示す)に比べて約10%改善されていることが確認された。
(感度の測定条件)
作製した固体撮像素子に、カメラレンズとして図19に示す特性のものを用い、
白色光源に対するX軸方向の感度分布を測定した。
2…基板
3…受光部
4…遮光膜
5…パッシベーション層
6…遮光層
7…下平坦化層
8…カラーフィルタ
9…上平坦化層
10…マイクロレンズアレイ
11…マイクロレンズ
31,41…撮像装置
32,42…固体撮像素子
Claims (10)
- 所定のピッチで2次元配置された複数の受光部と、個々の前記受光部に対応させて複数のマイクロレンズが2次元配置されてなるマイクロレンズアレイとを少なくとも備えている固体撮像素子において、
マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズは、曲率半径が異なる2種以上のマイクロレンズからなり、有効撮像領域は中心から周辺に向って複数の部分領域に分割され、個々の部分領域内には曲率半径が同じマイクロレンズが配置され、マイクロレンズの曲率半径が異なる部分領域が隣接する境界部には、隣接する部分領域における各々の曲率半径のマイクロレンズが混在している中間帯状部が存在し、隣接するマイクロレンズの曲率半径の差が10%以下であることを特徴とする固体撮像素子。 - 前記中間帯状部での曲率半径が異なるマイクロレンズの混在比率は1:0〜0:1の範囲内で連続的に変化することを特徴とする請求項1に記載の固体撮像素子。
- 所定のピッチで2次元配置された複数の受光部と、個々の前記受光部に対応させて複数のマイクロレンズが2次元配置されてなるマイクロレンズアレイとを少なくとも備えている固体撮像素子において、
マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズは、曲率半径が異なる2種以上のマイクロレンズからなり、有効撮像領域は中心から周辺に向って複数の部分領域に分割され、該複数の部分領域には、曲率半径の異なるマイクロレンズが混在しているような部分領域が存在し、隣接するマイクロレンズの曲率半径の差が10%以下であることを特徴とする固体撮像素子。 - 部分領域内での曲率半径の異なるマイクロレンズの混在比率は、該部分領域内において有効撮像領域の中心から周辺に向う方向に沿って変化していることを特徴とする請求項3に記載の固体撮像素子。
- 部分領域内での曲率半径の異なるマイクロレンズの混在比率は、該部分領域内においてほぼ均一であることを特徴とする請求項3に記載の固体撮像素子。
- 部分領域内にて、曲率半径の異なるマイクロレンズがランダムに配置されていることを特徴とする請求項3に記載の固体撮像素子。
- マイクロレンズの平均的曲率半径が、有効撮像領域の中心から周辺に向って大きくなる傾向であることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の固体撮像素子。
- 前記部分領域はモザイク状であることを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の固体撮像素子。
- 前記部分領域は有効撮像領域中心を中心とする同心の環状領域であることを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の固体撮像素子。
- 請求項1乃至請求項9のいずれかに記載の固体撮像素子を備えることを特徴とする撮像装置。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010282120A (ja) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | Toppan Printing Co Ltd | 濃度分布マスク |
JP2011158894A (ja) * | 2010-01-07 | 2011-08-18 | Canon Inc | フォトマスクデータの生成方法、その作製方法、そのためのプログラム、固体撮像装置の製造方法、および、マイクロレンズアレイの製造方法 |
EP2902819A1 (en) | 2014-02-03 | 2015-08-05 | Ricoh Company, Ltd. | Image-display apparatus having a micro-lens array, the lenses of which having different curvatures |
JP2017011091A (ja) * | 2015-06-22 | 2017-01-12 | 凸版印刷株式会社 | 固体撮像素子および電子機器 |
JP2018077413A (ja) * | 2016-11-11 | 2018-05-17 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 画像表示装置およびスクリーン |
US10114151B2 (en) | 2015-05-14 | 2018-10-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Solid-state image sensor and camera |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11186530A (ja) * | 1997-12-25 | 1999-07-09 | Sony Corp | マイクロレンズの形成方法 |
JP2004200334A (ja) * | 2002-12-18 | 2004-07-15 | Sony Corp | 固体撮像装置 |
-
2007
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11186530A (ja) * | 1997-12-25 | 1999-07-09 | Sony Corp | マイクロレンズの形成方法 |
JP2004200334A (ja) * | 2002-12-18 | 2004-07-15 | Sony Corp | 固体撮像装置 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010282120A (ja) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | Toppan Printing Co Ltd | 濃度分布マスク |
JP2011158894A (ja) * | 2010-01-07 | 2011-08-18 | Canon Inc | フォトマスクデータの生成方法、その作製方法、そのためのプログラム、固体撮像装置の製造方法、および、マイクロレンズアレイの製造方法 |
EP2902819A1 (en) | 2014-02-03 | 2015-08-05 | Ricoh Company, Ltd. | Image-display apparatus having a micro-lens array, the lenses of which having different curvatures |
EP3346303A1 (en) | 2014-02-03 | 2018-07-11 | Ricoh Company Ltd. | Image-display apparatus having a micro-lens array, the lenses of which having different curvatures |
US11002887B2 (en) | 2014-02-03 | 2021-05-11 | Ricoh Company, Ltd. | Image display apparatus, moving body, and lens array |
US10114151B2 (en) | 2015-05-14 | 2018-10-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Solid-state image sensor and camera |
JP2017011091A (ja) * | 2015-06-22 | 2017-01-12 | 凸版印刷株式会社 | 固体撮像素子および電子機器 |
JP2018077413A (ja) * | 2016-11-11 | 2018-05-17 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 画像表示装置およびスクリーン |
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