JP2009093095A5 - - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims 6
- 229940007550 benzyl acetate Drugs 0.000 claims 4
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- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyloxyacetoaldehyde Natural products CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 2
- MLIREBYILWEBDM-UHFFFAOYSA-N cyanoacetic acid Chemical compound OC(=O)CC#N MLIREBYILWEBDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- QVEIBLDXZNGPHR-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-dione;diazide Chemical group [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 QVEIBLDXZNGPHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007265976A JP5132240B2 (ja) | 2007-10-12 | 2007-10-12 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007265976A JP5132240B2 (ja) | 2007-10-12 | 2007-10-12 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009093095A JP2009093095A (ja) | 2009-04-30 |
| JP2009093095A5 true JP2009093095A5 (https=) | 2010-11-25 |
| JP5132240B2 JP5132240B2 (ja) | 2013-01-30 |
Family
ID=40665115
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007265976A Expired - Fee Related JP5132240B2 (ja) | 2007-10-12 | 2007-10-12 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5132240B2 (https=) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5981739B2 (ja) * | 2012-03-14 | 2016-08-31 | 旭化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、及び硬化レリーフパターンの製造方法 |
| JP6217199B2 (ja) * | 2013-07-12 | 2017-10-25 | 日立化成株式会社 | フィルム状ポジ型感光性接着剤組成物、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ及び半導体装置 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6024545A (ja) * | 1983-07-21 | 1985-02-07 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感光性樹脂組成物 |
| JPS6450040A (en) * | 1987-08-21 | 1989-02-27 | Konishiroku Photo Ind | Production of photosensitive planographic printing plate |
| JPH087433B2 (ja) * | 1989-04-19 | 1996-01-29 | 日本ゼオン株式会社 | ポジ型レジスト組成物 |
| JP3057010B2 (ja) * | 1996-08-29 | 2000-06-26 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 |
| JP4548001B2 (ja) * | 2004-06-09 | 2010-09-22 | 東レ株式会社 | ポジ型感光性樹脂前駆体組成物 |
| JP2007052359A (ja) * | 2005-08-19 | 2007-03-01 | Jsr Corp | パターン形成方法、その硬化物および回路基板 |
| JP4640037B2 (ja) * | 2005-08-22 | 2011-03-02 | Jsr株式会社 | ポジ型感光性絶縁樹脂組成物およびその硬化物 |
| JP4627030B2 (ja) * | 2005-10-26 | 2011-02-09 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
-
2007
- 2007-10-12 JP JP2007265976A patent/JP5132240B2/ja not_active Expired - Fee Related
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