JP2009085872A - 光吸収分析装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光源からのレーザ光を被測定物に入射し、被測定物からの透過光、反射光または散乱光を受光することにより、被測定物の吸収を測定する光吸収分析装置において、薄膜のビームスプリッタからなり、レーザ光の光路上、被測定物を収容する容器に入射する直前で、光源からのレーザ光を分岐する分岐手段と、分岐手段により分岐されたレーザ光の一部を参照光として測定する第1測定手段と、被測定物を収容する容器の中を透過、反射または散乱して出力された測定光を測定する第2測定手段と、第1および第2測定手段の測定した信号強度を組み合わせて、被測定物の吸収信号を算出する演算手段とを備えた。
【選択図】図11
Description
(同相雑音)
同相雑音は、光源からの出射光が被測定物に入射するまでの経路における光源、光学部品のゆらぎ、反射などにより生ずる。特に、光学部品における多重反射は、フリンジとなって、測定信号のベースラインに重畳されるため、微小信号の検出には障害になる。そこで、被測定物に入射する直前の光を参照光として測定し、被測定ガスを透過した透過光の測定結果から差し引いて、同相雑音を抑圧することが行われている。
図1に示した光吸収分析装置において、逆相雑音は、主として、光源1からのレーザ光から参照光を分岐させるビームスプリッタ4により発生する。図4に、光吸収分析装置の逆相雑音成分の発生原理を示す。周囲の屈折率がn1で、両端面が平行平面、屈折率がn2の光学板を考える。外部から光学板に入射される光の電界強度をEiとする。光学板において、多重反射を繰り返して反射光と透過光とが複数出力されることになる。
上述したように、同相雑音と逆相雑音とを除去したとしても、被測定物で発生する独立雑音は依然として残存している。この独立雑音が測定系の測定限界を決定する。一方、これら3種類の雑音を同時に除去することは困難である。1つの雑音を除去すると、他の雑音の除去に影響を与えるからである。上述したように、同相雑音を除去すると逆相雑音が強調される。そこで、これら3種類の雑音を同時に除去するために、本実施形態では、測定光と参照光の測定結果を除算することにより同相雑音を除去し、薄膜のビームスプリッタにより逆相雑音を除去し、最後に独立雑音を除去する。
被測定物を透過した光(PT0)=出射側透過光38(PT)+出射側反射光(PR)
レーザ光35(Pi)=入射側透過光(Pt)+入射側反射光37(Pr)
であるから、
吸収量α=PT0/Pt=(PT+PR)/(Pi−Pr)=(PT/FT)/(Pi−Pr)
となり、光学窓32における反射光と透過光に重畳される逆相雑音が除去された測定光を得ることができる。ここで、Pt=PT0・FTであり、FTは、式(2)から得られる。
Pr=PR,Pi=Pref
吸収量α=(PT+PR)/(Pref−Pr)=(PT/FT)/(Pref−Pr)
となる。レーザ光35(Pi)と等しい参照光(Pref)と、受光器51bにより測定される入射側反射光37(Pr)とにより、独立雑音の反射雑音成分が除去された測定光を得ることができる。
であるから、受光器51bの検出信号を(Pb)とし、受光器51cの検出信号を(Pc)とすると、
PT0=PTPi/2Pc,Pt=Pi−2Pb
となるから、α=PT0/Ptより、
吸収量α=PTPi/2Pc(Pi−2Pb)
となり、独立雑音の全てが除去される。ただし、受光器の感度、検出する光に対する結合効率を考慮して補正する必要がある。
光吸収分析装置の光源として、LN結晶からなる波長変換素子に、2つの励起レーザ光を入射して差周波発生により中赤外光を発制する光源を用いる。2つの励起レーザ光の波長をλ1、λ2とし、発生する中赤外光の波長λ3とすると、
であるから、受光器5aの検出信号を(Pa)とし、受光器5bの検出信号を(Pb)とし、受光器5cの検出信号を(Pc)とし、受光器51dの検出信号を(Pd)とすると、
PT0=PT+Pc/2Pb=PTPb/Pd
Pt=2Pb−Pc/2Pb=2Pb−Pr
が得られる。従って、
吸収量α=(2PTPb+Pc)/(4Pb 2−Pc)=PTPb/Pd(2Pb−Pr)
となり、独立雑音の全てが除去される。ただし、受光器の感度、検出する光に対する結合効率を考慮して補正する必要がある。
2,21 光学チョッパ
3 ガスセル
4,41 ビームスプリッタ
5,51 受光器
6 ロックインアンプ
7 チョッパ電源
11,12 半導体レーザ
13 波長変換素子
14 光ファイバ
15 光アイソレータ
16 合波器
17 ファイバブラッググレーティング
18 ファイバアンプ
19 レンズ
31 セル室
32 光学窓
33 凹面鏡
42 光学板
43 波長フィルタ
44 反射鏡
Claims (9)
- 光源からのレーザ光を被測定物に入射し、前記被測定物からの透過光、反射光または散乱光を受光することにより、前記被測定物の吸収を測定する光吸収分析装置において、
前記レーザ光の光路上、前記被測定物を収容する容器に入射する直前で、前記光源からのレーザ光を分岐する分岐手段と、
該分岐手段により分岐されたレーザ光の一部を参照光として測定する第1測定手段と、
前記被測定物を収容する容器の中を透過、反射または散乱して出力された測定光を測定する第2測定手段と、
前記第1および第2測定手段の測定した信号強度を組み合わせて、前記被測定物の吸収信号を算出する演算手段とを備え、
前記分岐手段は、薄膜のビームスプリッタであることを特徴とする光吸収分析装置。 - 光源からのレーザ光を被測定物に入射し、前記被測定物からの透過光、反射光または散乱光を受光することにより、前記被測定物の吸収を測定する光吸収分析装置において、
前記レーザ光の光路上、前記被測定物を収容する容器に入射する直前で、前記被測定物または前記容器から戻る反射光を分岐する第1分岐手段と、
前記レーザ光の光路上、前記第1分岐手段の直前で、前記光源からのレーザ光を分岐する第2分岐手段と、
前記第1分岐手段により分岐された反射光の一部を測定する第1測定手段と、
前記第2分岐手段により分岐されたレーザ光の一部を参照光として測定する第2測定手段と、
前記被測定物を収容する容器の中を透過、反射または散乱して出力された測定光を測定する第3測定手段と、
前記第1、第2および第3測定手段の測定した信号強度を組み合わせて、前記被測定物の吸収信号を算出する演算手段とを備え、
前記第1分岐手段は、薄膜のビームスプリッタと反射鏡のいずれかであり、前記第2分岐手段は、薄膜のビームスプリッタであることを特徴とする光吸収分析装置。 - 前記第2分岐手段により分岐されたレーザ光の一部をさらに分岐して、前記参照光と出射側透過光に相当する光とに分岐する第3分岐手段と、
前記被測定物を収容する容器の光学窓と同じ光学特性を有する光学板と、
前記光学板を透過した前記出射側透過光に相当する光の一部を測定する第4測定手段とをさらに備え、
前記演算手段は、前記第1ないし第4測定手段の測定した信号強度を組み合わせて、前記被測定物の吸収信号を算出することを特徴とする請求項2に記載の光吸収分析装置。 - 光源からのレーザ光を被測定物に入射し、前記被測定物からの透過光、反射光または散乱光を受光することにより、前記被測定物の吸収を測定する光吸収分析装置において、
前記レーザ光の光路上、前記被測定物を収容する容器に入射する直前で、前記光源からのレーザ光を分岐する第1分岐手段と、
該第1分岐手段により分岐されたレーザ光の一部をさらに分岐して、入射側反射光に相当する光と出射側透過光に相当する光とに分岐する第2分岐手段と、
前記被測定物を収容する容器の光学窓と同じ光学特性を有する第1および第2光学板と、
前記第1光学板において反射した前記入射側反射光に相当する光の一部を測定する第1測定手段と、
前記第2光学板を透過した前記出射側透過光に相当する光の一部を測定する第2測定手段と、
前記被測定物を収容する容器の中を透過、反射または散乱して出力された測定光を測定する第3測定手段と、
前記第1、第2および第3測定手段の測定した信号強度を組み合わせて、前記被測定物の吸収信号を算出する演算手段とを備え、
前記第1および第2分岐手段は、薄膜のビームスプリッタであることを特徴とする光吸収分析装置。 - 光源からのレーザ光を被測定物に入射し、前記被測定物からの透過光、反射光または散乱光を受光することにより、前記被測定物の吸収を測定する光吸収分析装置において、
前記レーザ光の光路上、前記被測定物を収容する容器に入射する直前で、前記光源からのレーザ光を分岐する分岐手段と、
該第1分岐手段により分岐されたレーザ光の一部を参照光として測定する第1測定手段と、
前記被測定物を収容する容器の中を透過、反射または散乱して出力された測定光を測定する第2測定手段と、
前記第1および第2測定手段の測定した信号強度を組み合わせて、前記被測定物の吸収信号を算出する演算手段とを備え、
前記分岐手段は、薄膜のビームスプリッタであり、
前記容器にレーザ光を入射する光学窓、および測定光を出射する光学窓の双方は、ウェッジ基板を含む非平行光学板であることを特徴とする光吸収分析装置。 - 前記分岐手段は、厚さ0.3mm未満の薄膜のビームスプリッタであることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の光吸収分析装置。
- 前記光源は、
光の進行方向に非線形光学定数が周期的に反転した構造を有するニオブ酸リチウム(LiNbO3)結晶からなる波長変換素子と、
該波長変換素子に第1の励起光を入射する第1の半導体レーザと、
前記波長変換素子に第2の励起光を入射する第2の半導体レーザとを含み、
前記光源は、前記波長変換素子における和周波発生、差周波発生、第2高調波発生のいずれか、またはその組み合わせにより変換されたレーザ光を出射することを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに光吸収分析装置。 - 前記第1の励起光は、波長0.9μmから1.1μmの間のいずれかであり、
前記第2の励起光は、波長1.25μmから1.75μmの間のいずれかであり、
前記波長変換素子から出射されるレーザ光は、中赤外領域の波長1.9μmから5.5μmの間であることを特徴とする請求項7に記載の光吸収分析装置。 - 前記波長変換素子は、導波路構造を有することを特徴とする請求項7または8に記載の光吸収分析装置。
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