JP2009085872A - 光吸収分析装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】種々の光学的な雑音を同時に除去することにより検出精度を向上させ、波長1.9〜5.5μmの中赤外光を連続的に発生させることにより、複数の被測定物を同時に測定する。
【解決手段】光源からのレーザ光を被測定物に入射し、被測定物からの透過光、反射光または散乱光を受光することにより、被測定物の吸収を測定する光吸収分析装置において、薄膜のビームスプリッタからなり、レーザ光の光路上、被測定物を収容する容器に入射する直前で、光源からのレーザ光を分岐する分岐手段と、分岐手段により分岐されたレーザ光の一部を参照光として測定する第1測定手段と、被測定物を収容する容器の中を透過、反射または散乱して出力された測定光を測定する第2測定手段と、第1および第2測定手段の測定した信号強度を組み合わせて、被測定物の吸収信号を算出する演算手段とを備えた。
【選択図】図11

Description

本発明は、光吸収分析装置に関し、より詳細には、大気中の希薄なガスの吸収線を測定する光吸収分析装置に関する。
環境保護、安全衛生上の観点から、NOx、SOx、アンモニア系等の環境ガス、水の吸収、あるいは多くの有機系ガスまたは残留農薬の極微量分析技術の確立が強く望まれている。極微量分析技術としては、被測定ガスを特定の物質に吸着し、電気化学的手法による定量分析、または被測定物質の固有の光学吸収特性を測定する方法が一般的である。光学的手法は、実時間測定が可能で、測定光の通過する広範囲な領域の観測が可能といった特徴を有する。
希薄なガスに代表される極微弱な吸収の検出には、実質的に光路長を長くとれるマルチパスセル、光の共振器、遠方に配した反射板ないしは散乱板が用いられる。これら光学系においては、出力信号に、光学干渉雑音(フリンジ)が混入される。フリンジは、サンプルガスやその周囲に存在する物質からの散乱光、多重反射などによって発生する光学的な背景雑音と、光学部品における多重反射に基づく光学雑音とを含む。光路長が長くなればなる程、散乱光から生ずる光学雑音が無視できなくなる。簡便な波長掃引のみによるスペクトル全体の検出を目的とする場合、多重反射による雑音は、光吸収分析装置の検出精度を劣化させる。そして、フリンジの強度、つまり光学雑音レベルにより、光吸収分析装置の検出限界が決まってしまう。
従来、このような光学雑音を除去するために、参照光を用いた同相雑音の抑圧手法が知られている。しかしながら、従来の抑圧手法でも、特に長い光路を要する分光系では、消去しきれない雑音が存在する。消去しきれない雑音には、上記の同相雑音を除く、逆相雑音と、これら同相および逆相雑音とは本質的に異なる独立した雑音(以下、独立雑音という)とがある。独立雑音には、参照光の分岐点以降の光学系および被測定物から生ずる反射光、散乱光が出力光に重畳して検出される背景雑音が含まれる。これら独立雑音の除去は、これまで不可能とされている。
次に、測定系のレーザ光源について説明する。被測定物質の吸収ピークは、原子間結合の振動回転モードに起因し、主に2μmから20μmの中赤外領域に基本振動に基づく強い吸収バンドがある。しかし、波長2μm以上の中赤外領域で室温での連続発振が安定に得られるレーザは、未だ実用化が困難である。量子カスケードレーザの研究開発がなされているものの、上述した光学的手法に用いることのできるレーザ光源がないことが大きな支障になっている。
中赤外領域における実用可能なレーザ光源が存在しないので、既存の通信用半導体レーザ(波長0.8〜2μm)を使用する。しかし、この波長で各種ガスなどの微量分析を行う場合、本来の基本吸収波長の倍音(=基本吸収波長の2分の1)、3倍音(=基本吸収波長の3分の1)、または結合音(=複数の基本吸収波長の和と差の組み合わせ)における吸収を利用することになる。しかし、倍音程度であれば必要な感度が得られる場合もあるが、3倍音以上に相当するような高次の吸収ピークでの測定となると、吸収量そのものが小さいために検出に限界が生じる。従って、本来の基本吸収ピークにおける測定に較べて、3桁程度以上の感度の低下を招くことになる。
そのため、環境ガスや危険性を伴うガスなどを分析する際に高い検出感度を得るためには、中赤外レーザ光源の開発が不可欠である。最近では、波長3μm等において中赤外光を発生させ、ガスセンサー動作を確認したことが報告されている(例えば、非特許文献1参照)。非特許文献1の光源は、周期的な分極反転構造を有するニオブ酸リチウム(LiNbO、以下、LNという)波長変換素子を用いて、差周波発生により中赤外光を発生させる。
しかしながら、従来の光源では、固定された波長の中赤外光を出力するだけである。一度に多種のガスを検出できるように、光源の波長を可変とするためには、(1)波長変換素子の中に多種の周期を設ける(例えば、非特許文献2参照)、(2)Fanout Gratingという構造により周期を変化させる(例えば、非特許文献1参照)、または(3)励起光を素子に斜めに入射させて実効的な周期を変える(例えば、非特許文献3参照)という方法が適用される。
(1)、(2)の方法では、波長を広範囲に掃引することは可能ではあるが、様々な周期を有する波長変換素子を束ねなければならないことから、光源の作製に多くの作業工程が必要となるという問題があった。(3)の方法では、波長変換効率を高めるために波長変換素子に導波路構造を導入することが困難であるという問題があった。しかも、従来の方法では、波長1.9〜5.5μmの中赤外光を、連続的に発生させることはできない。
D.Richter, et al., "Development of an automated diode-laser-based multicomponent gas sensor", Applied Optics, Vol.39, No.24, pp.4444-4450 (2000) I. B. Zotova et al., Optics Letters, vol.28, p.552 (2003) C.W. Hsu et al., Optics Letters, vol.26, p.1412 (2001)
上述したように、光吸収分析装置において発生する光学的な雑音、すなわち同相雑音、逆相雑音および独立雑音を、同時に除去する必要がある。また、一度に多種のガスを検出できるように、光源の波長を可変とする必要がある。
本発明の目的は、種々の光学的な雑音を同時に除去することにより検出精度を向上させ、波長1.9〜5.5μmの中赤外光を連続的に発生させることにより、複数の被測定物を同時に測定できる光吸収分析装置を提供することにある。
本発明は、このような目的を達成するために、請求項1に記載の発明は、光源からのレーザ光を被測定物に入射し、前記被測定物からの透過光、反射光または散乱光を受光することにより、前記被測定物の吸収を測定する光吸収分析装置において、前記レーザ光の光路上、前記被測定物を収容する容器に入射する直前で、前記光源からのレーザ光を分岐する分岐手段と、該分岐手段により分岐されたレーザ光の一部を参照光として測定する第1測定手段と、前記被測定物を収容する容器の中を透過、反射または散乱して出力された測定光を測定する第2測定手段と、前記第1および第2測定手段の測定した信号強度を組み合わせて、前記被測定物の吸収信号を算出する演算手段とを備え、前記分岐手段は、薄膜のビームスプリッタであることを特徴とする。
この構成によれば、同相雑音および逆相雑音を同時に除去することができる。
請求項2に記載の発明は、光源からのレーザ光を被測定物に入射し、前記被測定物からの透過光、反射光または散乱光を受光することにより、前記被測定物の吸収を測定する光吸収分析装置において、前記レーザ光の光路上、前記被測定物を収容する容器に入射する直前で、前記被測定物または前記容器から戻る反射光を分岐する第1分岐手段と、前記レーザ光の光路上、前記第1分岐手段の直前で、前記光源からのレーザ光を分岐する第2分岐手段と、前記第1分岐手段により分岐された反射光の一部を測定する第1測定手段と、前記第2分岐手段により分岐されたレーザ光の一部を参照光として測定する第2測定手段と、前記被測定物を収容する容器の中を透過、反射または散乱して出力された測定光を測定する第3測定手段と、前記第1、第2および第3測定手段の測定した信号強度を組み合わせて、前記被測定物の吸収信号を算出する演算手段とを備え、前記第1分岐手段は、薄膜のビームスプリッタと反射鏡のいずれかであり、前記第2分岐手段は、薄膜のビームスプリッタであることを特徴とする。
この構成によれば、同相雑音、逆相雑音および独立雑音の反射雑音成分を同時に除去することができる。
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の光吸収分析装置において、前記第2分岐手段により分岐されたレーザ光の一部をさらに分岐して、前記参照光と出射側透過光に相当する光とに分岐する第3分岐手段と、前記被測定物を収容する容器の光学窓と同じ光学特性を有する光学板と、前記光学板を透過した前記出射側透過光に相当する光の一部を測定する第4測定手段とをさらに備え、前記演算手段は、前記第1ないし第4測定手段の測定した信号強度を組み合わせて、前記被測定物の吸収信号を算出することを特徴とする。
この構成によれば、同相雑音と、逆相雑音と、独立雑音の反射雑音成分および透過雑音成分とを同時に除去することができる。
請求項4に記載の発明は、光源からのレーザ光を被測定物に入射し、前記被測定物からの透過光、反射光または散乱光を受光することにより、前記被測定物の吸収を測定する光吸収分析装置において、前記レーザ光の光路上、前記被測定物を収容する容器に入射する直前で、前記光源からのレーザ光を分岐する第1分岐手段と、該第1分岐手段により分岐されたレーザ光の一部をさらに分岐して、入射側反射光に相当する光と出射側透過光に相当する光とに分岐する第2分岐手段と、前記被測定物を収容する容器の光学窓と同じ光学特性を有する第1および第2光学板と、前記第1光学板において反射した前記入射側反射光に相当する光の一部を測定する第1測定手段と、前記第2光学板を透過した前記出射側透過光に相当する光の一部を測定する第2測定手段と、前記被測定物を収容する容器の中を透過、反射または散乱して出力された測定光を測定する第3測定手段と、前記第1、第2および第3測定手段の測定した信号強度を組み合わせて、前記被測定物の吸収信号を算出する演算手段とを備え、前記第1および第2分岐手段は、薄膜のビームスプリッタであることを特徴とする。
この構成によれば、同相雑音と、逆相雑音と、独立雑音の反射雑音成分および透過雑音成分とを同時に除去することができる。
請求項5に記載の発明は、光源からのレーザ光を被測定物に入射し、前記被測定物からの透過光、反射光または散乱光を受光することにより、前記被測定物の吸収を測定する光吸収分析装置において、前記レーザ光の光路上、前記被測定物を収容する容器に入射する直前で、前記光源からのレーザ光を分岐する分岐手段と、該第1分岐手段により分岐されたレーザ光の一部を参照光として測定する第1測定手段と、前記被測定物を収容する容器の中を透過、反射または散乱して出力された測定光を測定する第2測定手段と、前記第1および第2測定手段の測定した信号強度を組み合わせて、前記被測定物の吸収信号を算出する演算手段とを備え、前記分岐手段は、薄膜のビームスプリッタであり、前記容器にレーザ光を入射する光学窓、および測定光を出射する光学窓の双方は、ウェッジ基板を含む非平行光学板であることを特徴とする。
この構成によれば、同相雑音、逆相雑音および独立雑音を同時に除去することができる。
以上説明したように、本発明によれば、種々の光学的な雑音を同時に除去することにより検出精度を向上させ、波長1.9〜5.5μmの中赤外光を連続的に発生させることにより、複数の被測定物を同時に測定することが可能となる。
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について詳細に説明する。
(同相雑音)
同相雑音は、光源からの出射光が被測定物に入射するまでの経路における光源、光学部品のゆらぎ、反射などにより生ずる。特に、光学部品における多重反射は、フリンジとなって、測定信号のベースラインに重畳されるため、微小信号の検出には障害になる。そこで、被測定物に入射する直前の光を参照光として測定し、被測定ガスを透過した透過光の測定結果から差し引いて、同相雑音を抑圧することが行われている。
図1に、参照光を用いた同相雑音の抑圧手法を適用した従来の光吸収分析装置を示す。レーザ光出射手段である光源1からのレーザ光を、光学チョッパ2により強度変調(ON/OFF変調)し、被測定物が封入されたマルチパスセル等のガスセル3aに入射する。ガスセル3aから出射された測定光は、光電気変換手段である受光器5aに入力され、電気信号に変換されてロックインアンプ6aに入力される。一方、光源1からのレーザ光を、分岐手段であるビームスプリッタ4により分岐し、真空のガスセル3bに入射する。ガスセル3bから出射された参照光は、光電気変換手段である受光器5bに入力され、電気信号に変換されてロックインアンプ6bに入力される。
チョッパ電源7から出力されたチョッピング信号は、光学チョッパ2、ロックインアンプ6a,6bに入力される。ロックインアンプ6a,6bは、チョッパ電源7の周波数成分のみを検出し、各々の出力同士を除算して、ガスセル3aの測定結果から同相雑音成分を除去する。
図2に、従来の光吸収分析装置の測定結果を示す。図2(a)は、光源を波長掃引したときガスセル3bから出射された参照光の測定結果であり、図2(b)は、一酸化炭素が封入されたガスセル3aから出射された透過光の測定結果である。参照光に含まれる雑音を、透過光の測定結果から除去することにより、検出精度が向上することがわかる。
図3に、光吸収分析装置の同相雑音成分を示す。図2(a)に示した参照光に含まれる光学雑音を、さらに詳細に解析すると、光源1に用いられた波長変換素子のLN結晶の端面間で起こる多重反射による光学フリンジ(図3(a)に示す)と、光源1に用いられた偏波保持ファイバアンプの偏波モード分散による光学フリンジ(図3(b)に示す)などが含まれる。
(逆相雑音)
図1に示した光吸収分析装置において、逆相雑音は、主として、光源1からのレーザ光から参照光を分岐させるビームスプリッタ4により発生する。図4に、光吸収分析装置の逆相雑音成分の発生原理を示す。周囲の屈折率がnで、両端面が平行平面、屈折率がnの光学板を考える。外部から光学板に入射される光の電界強度をEとする。光学板において、多重反射を繰り返して反射光と透過光とが複数出力されることになる。
これを解析的に解くために、屈折率n→nの場合の電界反射率をr、電界透過率をtとし、逆に屈折率n→nの場合の電界反射率をr、電界透過率をtとする。反射光電界強度をE、透過光電界強度をEとすると、E、Eの各成分をそれぞれEr1、Er2、Er3、・・・・・・、Et1、Et2、Et3、・・・・・・と表わす。また、入射光の入射角をθ、光学板内部への出射角をθとし、1往復分の光路差による位相変化をδとする。光学板の厚さをdとすると、
Figure 2009085872
と表せる。このδを用いると、それぞれの電界成分の関係は、
Figure 2009085872
Figure 2009085872
ここで、電界(振幅)反射率r=−rであり、パワー反射率を
Figure 2009085872
とし、パワー透過率を
Figure 2009085872
Figure 2009085872
Figure 2009085872
従って、複素振幅から強度表現を求めると、
Figure 2009085872
となる。上記のPrとPtの和は常に1となり、一方が1(最大)の場合は他方が0(最小)になる。ちなみに、1回光学板を横切る度に電界(振幅)損失αを生じると仮定すると、
Figure 2009085872
として、上記の結果からさらに下記が得られる。
Figure 2009085872
中赤外の波長域では、透過率が高く平坦な透過特性を有するGeの光学基板が、ビームスプリッタに用いられる。Geの光学基板は、屈折率n=4と極めて高い値を有するため、入射光の入射角θ=45°の場合であっても、基板内部への出射角θ=10°となり、平行ビームに近い反射を繰り返すことになる。このことは、波長掃引に対して発生するδの変化が、フリンジを発生することとなり、微弱信号の検出の障害になる。
従って、上記の解析解からも明らかであるが、位相が逆転する透過光と参照光の測定結果の除算では、逆相雑音を除去することができない。なぜなら、参照光と被測定物を透過した測定光とでは、受光器に入射される光学フリンジが逆相になっているからである。透過光と参照光の測定結果の除算では、雑音が強調されてしまう。図5に、光吸収分析装置の逆相雑音成分を示す。光吸収分析装置のビームスプリッタ4における多重反射によるフリンジである。
上述の式(1)、式(2)を割り算すると、反射率Rが0.5程度の条件の下では、割り算を実施するとフリンジの振幅は大きくなる。これを抑制するためには、フリンジ間隔が問題にならない程度に大きな周期で存在するような薄膜のビームスプリッタが有効である。つまり、使用する波長域の全域にわたって、フリンジが全く現れない状況を作り出すために、δ/2<<1で表される薄膜のビームスプリッタを導入すればよい。波長1.9〜5.5μmの領域では、厚さ0.3mm未満が目安である。このとき、薄膜のビームスプリッタの導入と同相雑音の除去とによる相互の影響は、フリンジ間隔さえ大きければ無視することができるので、好都合である。
(独立雑音)
上述したように、同相雑音と逆相雑音とを除去したとしても、被測定物で発生する独立雑音は依然として残存している。この独立雑音が測定系の測定限界を決定する。一方、これら3種類の雑音を同時に除去することは困難である。1つの雑音を除去すると、他の雑音の除去に影響を与えるからである。上述したように、同相雑音を除去すると逆相雑音が強調される。そこで、これら3種類の雑音を同時に除去するために、本実施形態では、測定光と参照光の測定結果を除算することにより同相雑音を除去し、薄膜のビームスプリッタにより逆相雑音を除去し、最後に独立雑音を除去する。
図1に示した光吸収分析装置において、独立雑音は、主として、ガスセルの測定光の入出力部に設けられた光学窓における多重反射により発生する。そこで、独立雑音の除去には、光学窓における透過光および反射光の測定結果を利用する。独立雑音のうちガスセル3の光学窓における多重反射には損失がないと考えることができる。従って、損失を含む光の干渉計の透過、反射の解析解である式(3),(4)を適用するのではなく、式(1),(2)を適用する。同相雑音と逆相雑音とを除去した後に、式(1),(2)で表される独立雑音のフリンジを消去することにより、光吸収分析装置の検出精度を改善することができる。
図6を参照して、ガスセルの光学窓における逆相雑音を説明する。ガスセル3は、図6(a)に示したように、被測定物が封入されたセル室31(損失α<1)と光学窓32(損失α≒0)とに分けることができる。光源1からのレーザ光35は、光学窓32から入射し、凹面鏡33a,33bの間を多重反射して、光学窓32から測定光として出射される。ここで、ガスセル3は、図6(b)に示したように、解析する上でセル室31と光学窓32とに分離することができる。
入射側と出射側の光学窓が同じ仕様を満たすとすると、光学窓32における多重反射の透過光と反射光とは、入射側と出射側で同じ特性を示す。入射側と出射側で光の強度およびスペクトルは異なっているが、多重反射による雑音は同じ特性である。つまり、雑音を除去する上で、光の強度およびスペクトル形状は影響しない。従って、図6(c)に示したように、ガスセル3をモデル化する。光源1からのレーザ光35(P)は、入射側透過光(P)と入射側反射光37(P)に分岐し、被測定物を透過した光(PT0)は、測定光である出射側透過光38(P)と出射側反射光(P)に分岐する。
入射側反射光37(P)と出射側反射光(P)とは、光学窓32における多重反射の位相差さえ再現できれば、光学窓32と等価な光学材料を利用して測定することができる。ガスセル3での吸収量αは、PT0=αPとすると、
被測定物を透過した光(PT0)=出射側透過光38(P)+出射側反射光(P
レーザ光35(P)=入射側透過光(P)+入射側反射光37(P
であるから、
吸収量α=PT0/P=(P+P)/(P−P)=(P/F)/(P−P
となり、光学窓32における反射光と透過光に重畳される逆相雑音が除去された測定光を得ることができる。ここで、P=PT0・Fであり、Fは、式(2)から得られる。
図7に、ガスセルの光学窓における反射雑音成分を除去する方法を示す。図7(a)は、ガスセル3としてマルチパスセルに分類されるWhite cellおよびHanst cellを適用した例であり、図7(b)は、マルチパスセルに分類されるHerriot cellを適用した例である。光源1からのレーザ光35は、光学窓32aから入射し、凹面鏡33a〜33cの間を多重反射して、光学窓32bから測定光として出射され、受光器51aに入力される。一方、ガスセル3の直前にビームスプリッタ41を配置し、光学窓32aからの反射光を分岐し、受光器51bに入力する。光学窓32aからの反射光の光軸が、入射光であるレーザ光35の光軸から空間的にずれている場合には、ビームスプリッタ41に代えて、反射鏡を用いることができる。
反射光は、入射側と出射側とで同じ特性とすると、
=P,P=Pref
吸収量α=(P+P)/(Pref−P)=(P/F)/(Pref−P
となる。レーザ光35(P)と等しい参照光(Pref)と、受光器51bにより測定される入射側反射光37(P)とにより、独立雑音の反射雑音成分が除去された測定光を得ることができる。
図8に、ガスセルの光学窓における透過雑音成分および反射雑音成分を除去する方法を示す。図8(a)は、ガスセル3としてWhite cellおよびHanst cellを適用した例であり、図8(b)は、Herriot cellを適用した例である。出射側反射光38(P)を測定するためには、セル室31への反射光を受光器で受光する必要があるが、事実上は困難である。そこで、ガスセル3の外部に光学窓32と等価な光学板を配置して、透過光および反射光を測定する。
光源1からのレーザ光35は、光学窓32aから入射し、凹面鏡33a〜33cの間を多重反射して、光学窓32bから測定光として出射され、受光器51aに入力される。一方、光源1からのレーザ光35を、ガスセル3の直前で、ビームスプリッタ41a,41bにより2経路に分岐する。第1経路には、光学窓32と等価な光学板42aを挿入し、光学板42aの透過光を受光器51cに入力する。第2経路には、光学窓32と等価な光学板42bを挿入し、光学板42bの反射光を受光器51bに入力する。
第1経路における受光器51cにより出射側透過光38(P)に含まれる雑音成分に相当するフリンジが測定され、第2経路における受光器51bにより入射側反射光37(P)に含まれる雑音成分に相当するフリンジが測定される。
=P,P=P,P=Pref,P=P+P,PT0=αP=P+P
であるから、受光器51bの検出信号を(P)とし、受光器51cの検出信号を(P)とすると、
T0=P/2P,P=P−2P
となるから、α=PT0/Pより、
吸収量α=P/2P(P−2P
となり、独立雑音の全てが除去される。ただし、受光器の感度、検出する光に対する結合効率を考慮して補正する必要がある。
なお、光学窓32aでの入射角と光学窓32bでの入射角のわずかな相違によって、位相差が異なってくるので、フリンジ雑音の周期がわずかにずれる。外部に光学板42を用いる場合には、入射角の調整を前もって行う必要がある。
図9に、参照光を独立に検出し、ガスセルにおける光学的な雑音を除去する方法を示す。図9(a)は、ガスセル3としてWhite cellおよびHanst cellを適用した例であり、図9(b)は、Herriot cellを適用した例である。光源1からのレーザ光35は、光学窓32aから入射し、凹面鏡33a〜33cの間を多重反射して、光学窓32bから測定光として出射され、受光器51aに入力される。一方、ガスセル3の直前にビームスプリッタ41bを配置し、光学窓32aからの反射光を分岐し、受光器51bに入力する。さらに、光源1からのレーザ光35を、ビームスプリッタ41bの直前で、ビームスプリッタ41aにより分岐し、受光器51cに入力する。
受光器51cにより参照光を測定し同相雑音を除去する。ビームスプリッタ41a,41bに薄膜のビームスプリッタを適用して逆相雑音を除去し、ビームスプリッタ41bと受光器51bを含む図7に示した構成により、独立雑音の反射雑音成分を除去する。なお、図8に示した構成に加えて、図9に示したビームスプリッタ41aと受光器51cとを含む構成、すなわち参照光を独立に検出する系を組合せることにより、独立雑音の反射雑音成分および透過雑音成分と、同相雑音とを同時に除去することもできる。
図10は、ガスセルにおける多重反射を抑制する方法を示す図である。図10(a)は、ガスセル3としてWhite cellおよびHanst cellを適用した例であり、図10(b)は、Herriot cellを適用した例である。独立雑音は、光学窓における多重反射により発生し、フリンジとなって出力される。そこで、光学板の入力面と出力面とが非平行面を形成する光学窓を用いれば、独立雑音を防ぐことができる。なお、念のために記すと、図10の構成に加えて、逆相雑音は薄膜のビームスプリッタを用いて除去し、同相雑音は参照光を用いて除去する必要がある。
従来、ガスセルを用いた光吸収分析装置においては、コヒーレンシのよい赤外領域の光源がなかったことから、フリンジは、光路長が長いガスセル特有の現象と認識されていた。ガスセルの光学窓における多重反射によって発生する周期的なフリンジを識別することができなかったからである。従って、光学窓における多重反射によるフリンジの影響を、同相雑音および逆相雑音とは独立して同時に除去できることは、光吸収分析装置の検出精度の向上に非常に有効である。
以上述べたように、光吸収分析装置の検出精度を決定する光学部品のフリンジを含む光学雑音のうち、同相雑音は、測定光と参照光の測定結果を除算することにより除去され、逆相雑音は、薄膜のビームスプリッタにより除去される。さらに、被測定物から発生する独立雑音についても、上述した方法により、同相雑音および逆相雑音と独立に除去することができる。
(光源)
光吸収分析装置の光源として、LN結晶からなる波長変換素子に、2つの励起レーザ光を入射して差周波発生により中赤外光を発制する光源を用いる。2つの励起レーザ光の波長をλ、λとし、発生する中赤外光の波長λとすると、
Figure 2009085872
の関係を有する。ここで、波長λとλの大小関係は問わないが、便宜上、λ>0とするため、λ<λとする。差周波光λを効率よく発生させるためには、位相整合条件
Figure 2009085872
を満足する必要がある。式(6)で、k(i=1,2,3)は、非線形光学結晶内を伝搬する各レーザ光の伝搬定数であり、波長λにおける非線形光学結晶の屈折率をnとすると、
Figure 2009085872
となる。しかし、結晶のもつ分散特性により、一般的には、式(6)を満足することは難しい。
これを解決する方法として、非線形光学結晶を周期的に分極反転させた擬似位相整合法が用いられている。擬似位相整合法には、LN結晶のような強誘電体結晶が有利であるが、これらの非線形光学定数の符号は自発分極の極性に対応する。この自発分極を、光の伝搬方向に周期Λで変調した場合、位相整合条件は、
Figure 2009085872
で表され、特定の波長λ、λを励起光として用いた場合は、式(5)、(8)を同時に満足し、高効率な差周波光λの発生が可能となる。
しかしながら、波長λ、λを変化させて異なる波長λの差周波光を得ようとする場合、波長λ、λに変動がある場合には、式(8)を満足することができず、差周波光λの強度は低下する。ここで、波長λ、λ、λ、および周期Λと、差周波光の発生効率ηとの関係について考えると、以下のようになる。まず、位相不整合量Δkを、
Figure 2009085872
と定義する。このとき、試料長をlとすると、差周波光の発生効率ηは、位相不整合量Δkとlの積に依存し、
Figure 2009085872
と表される。式(10)において、ηはΔk=0の時の差周波発生効率であり、このηは、LN結晶の非線形光学定数、励起光強度、試料長などで決まる。差周波光の発生強度は、2つの励起光の強度の積に比例する。
以上述べたように、周期Λの周期的な分極反転構造を有する非線形光学結晶に、2つの励起光を入射させて、差周波光を発生させる。一方の励起光の波長を0.9〜1.1μmとし、他方の励起光の波長を1.25〜1.75μmの領域で変化させる。これにより、波長1.9〜5.5μmの領域で波長可変な中赤外光源を実現することができる。
以下、本発明にかかる実施例を詳細に説明するが、本発明は、下記の実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において、種々変更可能であることは言うまでもない。
図11に、実施例1にかかる光吸収分析装置の構成を示す。光源1は、第1の励起光を発生する半導体レーザ11と、第2の励起光を発生する半導体レーザ12と、周期的な分極反転構造を有するLN結晶バルクからなる波長変換素子13とを含む。半導体レーザ11は、波長λ=0.9〜1.1μmの第1の励起光を出力し、光ファイバ14a、光アイソレータ15aを介して合波器16に入力する。半導体レーザ11は、出力側である光ファイバ14a側の端面には、反射率2%以下の低反射膜が形成され、反対の端面には、90%以上の高反射膜が形成されている。光ファイバ14aには、ファイバブラッググレーティング17を設けて、波長安定性を向上させている。
半導体レーザ12は、波長λ=1.25〜1.75μmの第2の励起光を出力し、この波長範囲の少なくともいずれかの波長領域で波長を可変することができる。第2の励起光は、光ファイバ14b、光アイソレータ15bを介して合波器16に入力される。第2の励起光は、必要に応じてファイバアンプ18により増幅される。合波器16の出力は、レンズ19aにより波長変換素子13に入力される。波長変換素子13の温度調整を適宜行うことにより、1.9μm<λ<5.5μmの波長範囲の中赤外光が出力され、レンズ19bを介して、光源1からのレーザ光として出力される。
半導体レーザ11の波長λ、出力レベルを一定として、半導体レーザ12の波長λを変化させる場合、波長λの変化が、中赤外光の波長λの変化に対応する。発生した中赤外光の波長は、分光器により確認することができる。素子長10mmの波長変換素子13では、全ての波長域で1%/W程度の波長変換効率を得ることができる。また、波長λ=1.06μm、波長λ=1.55μm帯とし、波長λ=3.3μm帯の中赤外光を発生させると、素子長50mmの波長変換素子13では、40%/W程度の高い波長変換効率が得られる。
光源1からのレーザ光を、外部変調器である光学チョッパ21により強度変調(ON/OFF変調)し、Geの波長フィルタ43により励起光を除去し、中赤外光のみを被測定物が封入されたガスセル3に入射する。ガスセル3から出射された測定光は、受光器5aに入力され、電気信号に変換されてロックインアンプ6aに入力される。一方、光源1からのレーザ光を、ビームスプリッタ41により分岐し、受光器5bに入力する(参照光の測定)。受光器5bの出力は、ロックインアンプ6bに入力される。ロックインアンプ6a,6bは、チョッパ電源7の周波数成分のみを検出し、各々の出力同士を除算して、ガスセル3の測定結果から同相雑音成分を除去する。
図12に、実施例1にかかる光吸収分析装置により大気中のCHガスを測定した結果を示す。光吸収分析装置は、素子長50mmの波長変換素子13を用いて、波長λ=3.3μm帯の中赤外光を発生する。ガスセル3は、130回の多重反射を利用したWhite cellであり、光路長は107mである。この光吸収分析装置により、大気中に存在する1.78ppmのメタンガス(CH)を測定すると、吸収波長域νバンドのQ枝スペクトルを確認することができる。
図12に示した測定結果は、同相雑音成分として、図3(a)で示した波長変換素子のLN結晶の端面間で起こる多重反射による光学フリンジと、図3(b)で示した偏波保持ファイバアンプの偏波モード分散による光学フリンジとが除去されている。しかしながら、高エネルギー側(高波数側または短波長側)のベースラインには除去されなかった雑音、すなわち逆相雑音が重畳している。本来ならば、何ら信号のない領域であるにもかかわらず、大きな雑音が観測されている。
これは、図5に示したように、ビームスプリッタ41における多重反射によるフリンジである。そこで、ビームスプリッタ41に薄膜のビームスプリッタを適用する。図13に、実施例1にかかる光吸収分析装置の逆相雑音成分を除去した測定結果を示す。
図14に、実施例2にかかる光吸収分析装置の構成を示す。図11に示した実施例1の光吸収分析装置に加えて、図7(a)または図9(a)に示した独立雑音の入射側反射雑音成分を除去するための構成(具体的には、反射鏡44、受光器5cおよびロックインアンプ6c)と、図8(a)に示した出射側透過雑音成分を除去するための構成(具体的には、光学板42、受光器5dおよびロックインアンプ6d)とを設けている。光源1の構成は、実施例1と同じである。光源1からのレーザ光を、外部変調器である光学チョッパ21により強度変調(ON/OFF変調)し、Geの波長フィルタ43により励起光を除去し、中赤外光のみを被測定物が封入されたガスセル3に入射する。ガスセル3から出射された測定光は、受光器5aに入力され、電気信号に変換されてロックインアンプ6aに入力される。
一方、ガスセル3の直前に反射鏡44を配置し、ガスセル3の入射側からの反射光を分岐し、受光器5cに入力する。さらに、光源1からのレーザ光35を、ガスセル3の直前で、ビームスプリッタ41aにより2経路に分岐する。第1経路は、ビームスプリッタ41bを介して受光器5bに入力する(参照光の測定)。第2経路は、ガスセル3の光学窓と等価な光学板42を挿入し、光学板42の透過光を受光器5dに入力する(出射側透過光に相当する光の測定)。
図15は、ガスセルの入射側における光学系の模式図である。式(1)、(2)を簡略化して式(11)、(12)とする。
Figure 2009085872
Figure 2009085872
ここで、ガスセル3の光学窓が入射側と出射側でほぼ同じ材質、同じサイズであると考えると、出入口それぞれの反射係数も透過係数も、各々BとBの項の位相の部分だけが異なるので、αは近似的に、
Figure 2009085872
と表せる。ただし、P、P、Pのそれぞれは、受光器の出力I、I、Iから得られるが、受光器各々の結合効率に関する定数補正は各々必要となる。
図16に、実施例2にかかる光吸収分析装置により大気中のCHガスを測定した結果を示す。式(16)を用いて、独立雑音の反射雑音成分が除去されていることがわかる。ガスセル3内部の凹面鏡での損失と、光学窓からの反射光による補正とを、参照光の測定結果による規格化を行えば、ガスセル透過光にこの項を加えて(P+P)/Prefから図16に示した結果を求めることもできる。
次に、独立雑音の透過雑音成分を除去するための構成について説明する。同相雑音を除去するための構成とは分離して、第2経路に、ガスセル3の光学窓と等価な光学板42を挿入する。受光器5dの出力を、ロックインアンプ6dに入力して、ロックイン検出を行う。光源1からのレーザ光35との角度を微調整して、ガスセル3の出射側のフリンジを除去する。図17に、実施例2にかかる光吸収分析装置の独立雑音成分を除去した測定結果を示す。
=P,P=P,P=Pref,P=P+P,PT0=αP
であるから、受光器5aの検出信号を(P)とし、受光器5bの検出信号を(P)とし、受光器5cの検出信号を(P)とし、受光器51dの検出信号を(P)とすると、
T0=P+P/2P=P/P
=2P−P/2P=2P−P
が得られる。従って、
吸収量α=(2P+P)/(4P −P)=P/P(2P−P
となり、独立雑音の全てが除去される。ただし、受光器の感度、検出する光に対する結合効率を考慮して補正する必要がある。
図18に、実施例3にかかる光吸収分析装置の構成を示す。実施例3では、図8(a)に示した構成により、独立雑音を除去する。図14に示した光吸収分析装置では、光源1からのレーザ光35を、ガスセル3の直前で、ビームスプリッタ41aにより2経路に分岐する。分岐後の経路を図8(a)に示した構成に置き換える。
図8(a)と同じ符号で示すと、分岐後の第1経路における光学板42aと光検出器51cにより出射側の光学窓のフリンジを除去し(出射側透過光に相当する光の測定)、分岐後の第2経路における光学板42bと光検出器51bにより入射側の光学窓のフリンジを除去するために用いられる(入射側反射光に相当する光の測定)。光検出器51cの出力は、参照光の測定を兼ねることになるが、実際の光検出器の感度、光の結合効率は各々異なるため、図14に示した第2経路の構成のように、望ましくは参照光も独立して測定した方が正確なスペクトルを得ることができる。実施例3においても、図17に示した測定結果と同等の測定結果を得ることができる。
実施例4では、図10に示したガスセルを適用する。非平行面を形成する光学窓を有するので、光学窓の多重反射で発生する独立雑音を防ぐことができる。光学窓の形状は、入力面と出力面とが平行でなければ、どのような形状でも構わないが、便宜上片面に傾斜を有する楔状のウェッジ基板を利用する。Geなどのように屈折率が高い場合は、フリンジが出やすくなるので、屈折率が低い材質が望ましい。また、中赤外域では、例えば、屈折率1.45前後のCaFなどのフッ化物の光学板が適している。
また、光学窓の厚みにも注意が必要である。薄い場合は減圧や加圧の際の強度が問題になり、ウェッジの傾き角がとりにくくなる、従って、3〜4mm程度以上の比較的厚いほうが望ましい。このように比較的厚みがあり、干渉が起こらない程度の傾きが確保された光学窓材を用いることにより、フリンジのないガス容器を実現することができる。
参照光を用いた同相雑音の抑圧手法を適用した従来の光吸収分析装置を示す図である。 従来の光吸収分析装置の測定結果を示す図である。 光吸収分析装置の同相雑音成分を示す図である。 光吸収分析装置の逆相雑音成分の発生原理を示す図である。 光吸収分析装置の逆相雑音成分を示す図である。 ガスセルの光学窓における逆相雑音を説明するための図である。 ガスセルの光学窓における反射雑音成分を除去する方法を示す図である。 ガスセルの光学窓における透過雑音成分および反射雑音成分を除去する方法を示す図である。 参照光を独立に検出し、ガスセルにおける光学的な雑音を除去する方法を示す図である。 ガスセルにおける多重反射を抑制する方法を示す図である。 実施例1にかかる光吸収分析装置の構成を示す図である。 実施例1にかかる光吸収分析装置により大気中のCHガスを測定した結果を示す図である。 実施例1にかかる光吸収分析装置の逆相雑音成分を除去した測定結果を示す図である。 実施例2にかかる光吸収分析装置の構成を示す図である。 ガスセルの入射側における光学系の模式図である。 実施例2にかかる光吸収分析装置により大気中のCHガスを測定した結果を示す図である。 実施例2にかかる光吸収分析装置の独立雑音成分を除去した測定結果を示す図である。 実施例3にかかる光吸収分析装置の構成を示す図である。
符号の説明
1 光源
2,21 光学チョッパ
3 ガスセル
4,41 ビームスプリッタ
5,51 受光器
6 ロックインアンプ
7 チョッパ電源
11,12 半導体レーザ
13 波長変換素子
14 光ファイバ
15 光アイソレータ
16 合波器
17 ファイバブラッググレーティング
18 ファイバアンプ
19 レンズ
31 セル室
32 光学窓
33 凹面鏡
42 光学板
43 波長フィルタ
44 反射鏡

Claims (9)

  1. 光源からのレーザ光を被測定物に入射し、前記被測定物からの透過光、反射光または散乱光を受光することにより、前記被測定物の吸収を測定する光吸収分析装置において、
    前記レーザ光の光路上、前記被測定物を収容する容器に入射する直前で、前記光源からのレーザ光を分岐する分岐手段と、
    該分岐手段により分岐されたレーザ光の一部を参照光として測定する第1測定手段と、
    前記被測定物を収容する容器の中を透過、反射または散乱して出力された測定光を測定する第2測定手段と、
    前記第1および第2測定手段の測定した信号強度を組み合わせて、前記被測定物の吸収信号を算出する演算手段とを備え、
    前記分岐手段は、薄膜のビームスプリッタであることを特徴とする光吸収分析装置。
  2. 光源からのレーザ光を被測定物に入射し、前記被測定物からの透過光、反射光または散乱光を受光することにより、前記被測定物の吸収を測定する光吸収分析装置において、
    前記レーザ光の光路上、前記被測定物を収容する容器に入射する直前で、前記被測定物または前記容器から戻る反射光を分岐する第1分岐手段と、
    前記レーザ光の光路上、前記第1分岐手段の直前で、前記光源からのレーザ光を分岐する第2分岐手段と、
    前記第1分岐手段により分岐された反射光の一部を測定する第1測定手段と、
    前記第2分岐手段により分岐されたレーザ光の一部を参照光として測定する第2測定手段と、
    前記被測定物を収容する容器の中を透過、反射または散乱して出力された測定光を測定する第3測定手段と、
    前記第1、第2および第3測定手段の測定した信号強度を組み合わせて、前記被測定物の吸収信号を算出する演算手段とを備え、
    前記第1分岐手段は、薄膜のビームスプリッタと反射鏡のいずれかであり、前記第2分岐手段は、薄膜のビームスプリッタであることを特徴とする光吸収分析装置。
  3. 前記第2分岐手段により分岐されたレーザ光の一部をさらに分岐して、前記参照光と出射側透過光に相当する光とに分岐する第3分岐手段と、
    前記被測定物を収容する容器の光学窓と同じ光学特性を有する光学板と、
    前記光学板を透過した前記出射側透過光に相当する光の一部を測定する第4測定手段とをさらに備え、
    前記演算手段は、前記第1ないし第4測定手段の測定した信号強度を組み合わせて、前記被測定物の吸収信号を算出することを特徴とする請求項2に記載の光吸収分析装置。
  4. 光源からのレーザ光を被測定物に入射し、前記被測定物からの透過光、反射光または散乱光を受光することにより、前記被測定物の吸収を測定する光吸収分析装置において、
    前記レーザ光の光路上、前記被測定物を収容する容器に入射する直前で、前記光源からのレーザ光を分岐する第1分岐手段と、
    該第1分岐手段により分岐されたレーザ光の一部をさらに分岐して、入射側反射光に相当する光と出射側透過光に相当する光とに分岐する第2分岐手段と、
    前記被測定物を収容する容器の光学窓と同じ光学特性を有する第1および第2光学板と、
    前記第1光学板において反射した前記入射側反射光に相当する光の一部を測定する第1測定手段と、
    前記第2光学板を透過した前記出射側透過光に相当する光の一部を測定する第2測定手段と、
    前記被測定物を収容する容器の中を透過、反射または散乱して出力された測定光を測定する第3測定手段と、
    前記第1、第2および第3測定手段の測定した信号強度を組み合わせて、前記被測定物の吸収信号を算出する演算手段とを備え、
    前記第1および第2分岐手段は、薄膜のビームスプリッタであることを特徴とする光吸収分析装置。
  5. 光源からのレーザ光を被測定物に入射し、前記被測定物からの透過光、反射光または散乱光を受光することにより、前記被測定物の吸収を測定する光吸収分析装置において、
    前記レーザ光の光路上、前記被測定物を収容する容器に入射する直前で、前記光源からのレーザ光を分岐する分岐手段と、
    該第1分岐手段により分岐されたレーザ光の一部を参照光として測定する第1測定手段と、
    前記被測定物を収容する容器の中を透過、反射または散乱して出力された測定光を測定する第2測定手段と、
    前記第1および第2測定手段の測定した信号強度を組み合わせて、前記被測定物の吸収信号を算出する演算手段とを備え、
    前記分岐手段は、薄膜のビームスプリッタであり、
    前記容器にレーザ光を入射する光学窓、および測定光を出射する光学窓の双方は、ウェッジ基板を含む非平行光学板であることを特徴とする光吸収分析装置。
  6. 前記分岐手段は、厚さ0.3mm未満の薄膜のビームスプリッタであることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の光吸収分析装置。
  7. 前記光源は、
    光の進行方向に非線形光学定数が周期的に反転した構造を有するニオブ酸リチウム(LiNbO)結晶からなる波長変換素子と、
    該波長変換素子に第1の励起光を入射する第1の半導体レーザと、
    前記波長変換素子に第2の励起光を入射する第2の半導体レーザとを含み、
    前記光源は、前記波長変換素子における和周波発生、差周波発生、第2高調波発生のいずれか、またはその組み合わせにより変換されたレーザ光を出射することを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに光吸収分析装置。
  8. 前記第1の励起光は、波長0.9μmから1.1μmの間のいずれかであり、
    前記第2の励起光は、波長1.25μmから1.75μmの間のいずれかであり、
    前記波長変換素子から出射されるレーザ光は、中赤外領域の波長1.9μmから5.5μmの間であることを特徴とする請求項7に記載の光吸収分析装置。
  9. 前記波長変換素子は、導波路構造を有することを特徴とする請求項7または8に記載の光吸収分析装置。
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