JP2009075182A - ポジ型感光性樹脂組成物の硬化膜の形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の目的は、アルカリ現像液の供給部を前記塗布膜の中心部に配置し、塗布膜を回転させると共に供給部を中心部から塗布膜の外周部側へと移動させながらアルカリ現像液の供給を行い、アルカリ現像液が塗布膜に拡がった段階で塗布膜の回転を停止し、静置する工程を実施する現像工程、および前記現像工程では、塗布膜を静置する時間の合計をTs1〔秒間〕とし、洗浄工程の直前の塗布膜の静置時間をTs2〔秒間〕としたとき、Ts2/Ts1が0.5以上とすることにより達成することができる。
【選択図】図1
Description
ここでポリベンゾオキサゾール樹脂やポリイミド樹脂を用いた場合のプロセスを簡略化するために、感光材のジアゾキノン化合物をこれらの樹脂と組み合わせたポジ型感光性樹脂組成物も使用されている(例えば、特許文献1参照)。近年、半導体素子の小型化、高集積化による多層配線化、チップサイズパッケージ(CSP)、ウエハーレベルパッケージ(WLP)への移行等により、チップに対するダメージを低減するため、低応力性に優れたポリベンゾオキサゾール樹脂やポリイミド樹脂が必要とされている。これらポジ型感光性樹脂組成物を実際のプロセスに用いた場合、半導体の小型化に伴い微細パターンの形成が必要となるために高解像度であることが望まれている。
ところが、高解像度のパターン形成を従来の現像工程で実施すると、現像時にウェハー表面に付着物がつき、その付着物の影響でウェハー表面が白濁して見えるという問題があった。
[1]支持体にポジ型感光性樹脂組成物の硬化膜を形成する方法であって、支持体にポジ型感光性樹脂組成物を塗布して塗布膜を形成する塗布工程と、前記塗布膜に化学線を選択的に照射して、前記塗布膜を露光する露光工程と、アルカリ現像液の供給部を前記塗布膜の中心部に配置し、前記塗布膜を回転させると共に前記供給部を中心部から前記塗布膜の外周部側へと移動させながら前記アルカリ現像液の供給を行い、前記アルカリ現像液が前記塗布膜に拡がった段階で前記塗布膜の回転を停止し、静置する現像 工程を1回または2回以上繰返し、前記現像工程後の前記塗布膜の中心部に洗浄液を供給し、前記塗布膜を回転させ前記塗布膜を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程後に塗布膜を加熱して、硬化膜を形成する硬化工程とを有し、前記現像工程では、前記塗布膜を静置する時間の合計をTs1〔秒間〕とし、前記洗浄工程の直前の前記塗布膜の静置時間をTs2〔秒間〕としたとき、Ts2/Ts1が0.5以上であることを特徴とする硬化膜の形成方法。
[2]前記供給部が前記塗布膜の中心部近傍に有る場合の前記塗布膜の回転数が、前記供給部が前記塗布膜の外周部近傍に有る場合の前記塗布膜の回転数よりも高いものである[1]記載の硬化膜の形成方法。
おいて、塗布膜に白濁がなく高解像度でパターンを形成することができるポジ型感光性樹脂組成物の硬化膜を形成する方法を提供することができる。
てもよい。前記プリベークの方法としては、ホットプレート、オーブン等の加熱処理装置を用い、加熱処理温度としては、60〜140℃が好ましく、より好ましくは100〜130℃である。加熱処理をする際、加熱処理装置内に窒素等の不活性ガスを流して、塗布膜の酸化を低減させることも可能である。
−O−R3、−COO−R3のいずれかであり、同一でも異なっても良い。mは0〜8の整数、nは0〜8の整数である。R3は炭素数1〜15の有機基である。ここで、R1が複数ある場合は、それぞれ異なっていても同じでもよい。R1として水酸基がない場合は、R2は少なくとも1つはカルボキシル基でなければならない。また、R2としてカルボキシル
基がない場合、R1は少なくとも1つは水酸基でなければならない。)
Yの置換基としてのO−R3、COO−R3は、水酸基、カルボキシル基のアルカリ水溶液に対する溶解性を調節する目的で、炭素数1〜15の有機基であるR3で保護された基で
あり、必要により水酸基、カルボキシル基を保護しても良い。R3の例としては、ホルミ
ル基、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ターシャリーブチル基、ターシャリーブトキシカルボニル基、フェニル基、ベンジル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。
ため、1−ヒドロキシ−1,2,3−ベンゾトリアゾール等を予め反応させた活性エステル型のジカルボン酸誘導体を用いてもよい。
は省略)。
クロアルキル基のいずれかであり、同一でも異なっても良い。R11は、アルキル基、アル
キルエステル基、ハロゲン原子の内から選ばれた1つを表し、それぞれ同じでも異なっていてもよい。s=1〜3、t=0〜2の整数である。)
下記式(5)中のテトラカルボン酸二無水物由来の構造については、C=O基に結合する位置が両方メタ位であるもの、両方パラ位であるものを挙げているが、メタ位とパラ位をそれぞれ含む構造でもよい。
このような、アミノ基と反応した後のアルケニル基またはアルキニル基を少なくとも1個有する脂肪族基または環式化合物基を含む酸無水物に起因する基としては、例えば式(7)、式(8)で示される基等を挙げることができる。これらは単独で用いてもよいし、2種類以上組み合わせて用いても良い。
ルケニル基又はアルキニル基を少なくとも1個有する脂肪族基又は環式化合物基を含むアミン誘導体を反応させアミドとしてキャップすることもできる。
ポジ型感光性樹脂組成物中の感光性ジアゾキノン化合物(B)が化学変化を起こし酸を発生するため、現像工程(後述する)で溶解除去される。化学線としては、紫外線、可視光線等が使用できるが、200〜500nmの波長のものが好ましい。具体的には、所望のパターン形状が得られるように、石英ガラス基板等の表面を例えばクロム等で遮蔽させたフォトマスク、レチクルと呼ばれるものを作製し、前記フォトマスク、レチクルを通して前記塗布膜に化学線を照射させる。露光装置の照射方法として、前記フォトマスク、レチクルとポジ型感光性樹脂組成物を塗布した支持体との位置関係または、前記フォトマスク、レチクルに描かれたパターンと所望のパターンとの縮小比の関係により、密着露光、近接露光、等倍投影露光、縮小投影露光、走査露光等を適宜選択することができる。
前述の通り、未露光部の塗布膜は、アルカリ現像液存在下でアルカリ可溶性樹脂と感光性ジアゾキノン化合物がアゾカップリング反応を起こすため、塗布膜表層にアルカリ現像液に対して難溶である層を形成する一方、アルカリ現像液により徐々にではあるが塗布膜は溶解していく。塗布膜が溶解するとアルカリ現像液中のアルカリ濃度は低下するが、洗浄工程直前のアルカリ現像液の静置時間が短い場合、アルカリ現像液のアルカリ濃度が高い状態で洗浄液が供給されるため、アルカリ現像液と洗浄液の濃度差が大きく、アルカリ現像液に溶解していたポジ型感光性樹脂組成物が析出し、白いしみ状模様の付着物が発生すると考えられる。
アルカリ現像液の供給部を、塗布膜の外周部から中心部に移動させてアルカリ現像液の供給を行った場合、塗布膜中心部の方が塗布膜外周部よりもアルカリ現像液を静置する時間が短いため、
アルカリ現像液のアルカリ濃度が高い状態になっている。このような状態のところに、塗布膜の中心部に洗浄液を供給すると、アルカリ現像液と洗浄液の濃度差が大きく、アルカリ現像液に溶解しているポジ型感光性樹脂組成物が析出し、白いしみ状模様の付着物が発生すると考えられる。
せると共に前記供給部を中心部から前記塗布膜の外周部側へと移動させながらアルカリ現像液の供給を行うことにより、白いしみ状模様の付着物の発生を抑制できることを見出した。前述の通り、アルカリ現像液の供給部を塗布膜の中心部から外周部へと移動させながらアルカリ現像液を供給することにより、塗布膜中心部のアルカリ現像液のアルカリ濃度が低くなった状態で洗浄液を供給することができるため、塗布膜中心部はアルカリ現像液と洗浄液の濃度差が小さくなり、アルカリ現像液に溶解しているポジ型感光性樹脂組成物の析出を抑制することが可能となる。また、塗布膜外周部は、アルカリ現像液を静置する時間が短いため、アルカリ現像液のアルカリ濃度は高い状態であるが、洗浄液である洗浄液を塗布膜中心部に供給し、塗布膜を回転させながら洗浄するため、洗浄液とアルカリ現像液の混合物で洗浄することが可能となる。従って、塗布膜外周部の洗浄液は、僅かにアルカリ性になっているため、アルカリ現像液との濃度差を小さくすることが可能となる。以上により、塗布膜中心部および外周部に白いしみ状模様の付着物の発生を抑制することが可能となる。
特に限定されるものではないが、下記の例示が挙げられる。なお、下記に例示される塗布膜は円形をしているが、この形状に限定されるものではない。
図1−1は塗布膜にアルカリ現像液を供給する工程の上面図であり、回転している塗布膜1の中心部にアルカリ現像液の供給部2を配置し、矢印Aで示すようにアルカリ現像液の供給部2を塗布膜の外周部へ移動させながらアルカリ現像液を供給する。また、図1−2では、矢印Bで示すように現像液の供給部2を塗布膜中心部から外周部へ移動させながらアルカリ現像液を供給し、次いで、矢印Cで示すように、アルカリ現像液供給部2を塗布膜1の外周部から中心部に移動させながらアルカリ現像液を供給し、さらに矢印Dで示すように、アルカリ現像液供給部2を塗布膜1の中心部から外周部に移動させアルカリ現像液を供給することを示している。この矢印Bおよび矢印Cで示す現像液の供給部2の動作は、複数回繰り返し行ってもよい。図1-3では、矢印Eで示すように現像液の供給部2
を塗布膜中心部から中心部と外周部の間へ移動させながらアルカリ現像液を供給し、次いで、矢印Fで示すように、アルカリ現像液の供給部2を塗布膜1の中心部と外周部の間から中心部に移動させながらアルカリ現像液を供給し、さらに矢印Gで示すように、アルカリ現像液供給部2を塗布膜1の中心部から外周部に移動させアルカリ現像液を供給することを示している。この矢印Eおよび矢印Fで示す現像液の供給部2の動作は、複数回繰り返し行ってもよい。図1−4では、矢印Hで示すように現像液の供給部2を塗布膜中心部から外周部へ移動させながらアルカリ現像液を供給し、次いで、矢印Iで示すように、アルカリ現像液供給部2を塗布膜1の外周部から中心部を通過して反対側の外周部に移動させながらアルカリ現像液を供給することを示している。図1−5では、矢印Jで示すように現像液の供給部2を塗布膜中心部から中心部と外周部の間へ移動させながらアルカリ現像液を供給し、次いで、矢印Kで示すように、アルカリ現像液供給部2を塗布膜1の中心部と外周部の間から中心部を通過して反対側の外周部に移動させながらアルカリ現像液を供給することを示している。図1−1〜図1−5で示されるアルカリ現像液の供給部の動作は例示であり、特に限定されるものではない。また、図1−2〜図1−5で示されるそれぞれの動作を組み合わせることも可能である。
これらの中でも、塗布膜全面に均一に現像液を盛ることができる、図1−1に示す現像液を供給する工程が好ましい。さらに、塗布膜の回転数が低い場合でも、塗布膜全面に均一に現像液を盛ることができる図1−3で示される現像液を供給する工程も好ましい。
定されるものではない。また、アルカリ現像液の供給部自体も、1個のものだけではなく複数個あるものを使用してもよい。
≪実施例1≫
[アルカリ可溶性樹脂(A−1)の合成]
ジフェニルエーテル−4,4’−ジカルボン酸0.900モルと1−ヒドロキシ−1,2,3−ベンゾトリアゾール1.800モルとを反応させて得られたジカルボン酸誘導体(活性エステル)443.21g(0.900モル)とヘキサフルオロ−2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン366.26g(1.000モル)とを温度計、攪拌機、原料投入口、乾燥窒素ガス導入管を備えた4つ口のセパラブルフラスコに入れ、N−メチル−2−ピロリドン3200gを加えて溶解させた。その後オイルバスを用いて75℃にて12時間反応させた。
次にN−メチル−2−ピロリドン100gに溶解させた4−エチニルフタル酸無水物34.43g(0.200モル)を加え、更に12時間攪拌して反応を終了した。反応混合物を濾過した後、反応混合物を水/イソプロパノール=3/1(体積比)の溶液に投入、沈殿物を濾集し水で充分洗浄した後、真空下で乾燥し、目的のアルカリ可溶性樹脂(A−1)を得た。
フェノール式(Q−1)15.82g(0.025モル)と、トリエチルアミン8.40g(0.083モル)とを温度計、攪拌機、原料投入口、乾燥窒素ガス導入管を備えた4つ口のセパラブルフラスコに入れ、テトラヒドロフラン135gを加えて溶解させた。この反応溶液を10℃以下に冷却した後に、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホニルクロライド22.30g(0.083モル)をテトラヒドロフラン100gと共に10℃以上にならないように徐々に滴下した。その後10℃以下で5分攪拌した後、室温で5時間攪拌して反応を終了させた。反応混合物を濾過した後、反応混合物を水/メタノール=3/1(体積比)の溶液に投入、沈殿物を濾集し水で充分洗浄した後、真空下で乾燥し、式(B−1)の構造で示される感光性ジアゾキノン化合物を得た。
合成したアルカリ可溶性樹脂(A−1)100g、式(B−1)の構造を有する感光性ジ
アゾキノン化合物15gを、γ―ブチロラクトン150gに溶解した後、孔径0.2μmのテフロン(登録商標)製フィルターで濾過しポジ型感光性樹脂組成物を得た。
上記ポジ型感光性樹脂組成物をシリコンウェハー上にスピンコーターを用いて塗布した後、ホットプレートにて120℃で4分プリベークし、膜厚約8.0μmの塗布膜を得た。この塗布膜にマスク(凸版印刷(株)製、テストチャートNo.1:幅0.88〜50μmの残しパターン及び抜きパターンが描かれている)を通して、i線ステッパー((株)ニコン製・NSR−4425i)を用いて、100mJ/cm2から780mJ/cm2まで10mJ/cm2刻みで露光量を変化させて化学線を照射した。
次に、ポジ型感光性樹脂組成物が塗布・露光されたシリコンウェハーを700rpmで回転させて、シリコンウェハーの中心部に配置してある現像ノズルから2.38%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド現像液を吐出させ、現像ノズルをシリコンウェハーの外周部へと移動させ、シリコンウェハーの外周部近傍にて現像ノズルの移動を停止させた。現像ノズルを移動させる際にシリコンウェハーの回転数を徐々に落としていき最終的には20rpmにし、現像ノズルを停止すると同時にシリコンウェハーの回転も停止して40秒(一回目のシリコンウェハー静置時間)静置した。次に、シリコンウェハーを700rpmで回転させシリコンウェハー上の現像液を振り切った。次に、シリコンウェハーを700rpmで回転させておきながら、シリコンウェハーの中心部に配置してある現像ノズルから2.38%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド現像液を吐出させ、現像ノズルをシリコンウェハーの外周部近傍へと移動させ、シリコンウェハーの外周部近傍にて現像ノズルの移動を停止させた。現像ノズルを移動させる際にシリコンウェハーの回転数を徐々に落としていき最終的には20rpmにし、現像ノズルを停止すると同時に前記ウェハーの回転も停止して60秒(二回目のシリコンウェハー静置時間)静置した。次に、シリコンウェハーを1200rpmで回転させながら、洗浄液である純水をシリコンウェハーの中心部に供給し10秒間洗浄した。洗浄後の塗布膜全面に白濁は観察されなかった。
実施例1において、一回目のシリコンウェハー静置時間を20秒、二回目のシリコンウ
ェハーの静置時間を60秒とした以外は、実施例1と同様に現像、洗浄後塗布膜表面状態の評価を行った。洗浄後の塗布膜全面に白濁は観察されなかった。
現像ノズルを中心から外周部に移動させる際の回転数を中心で60rpm、ノズル移動終了時の回転数を60rpmとした以外は実施例1と同様に現像、洗浄後塗布膜表面状態の評価を行った。洗浄後の塗布膜表面には中心部にわずかに白濁が見られたが、実用上問題のない程度であった。
実施例1において、一回目のシリコンウェハー静置時間を70秒、二回目のシリコンウェハーの静置時間を30秒とした以外は、実施例1と同様に現像、洗浄後塗布膜表面状態の評価を行った。洗浄後の塗布膜に白濁が点在していた。
実施例1において、現像ノズルの移動方向をシリコンウェハーの外周部からシリコンウェハー中心部にした以外は、実施例1と同様に現像、洗浄後塗布膜表面状態の評価を行った。洗浄後の塗布膜に白濁が点在していた。
実施例1において、一回目のシリコンウェハー静置時間を70秒、二回目のシリコンウェハーの静置時間を30秒、現像ノズルの移動方向をシリコンウェハーの外周部からシリコンウェハー中心部にした以外は、実施例1と同様に現像、洗浄後塗布膜表面状態の評価を行った。洗浄後の塗布膜全面に白濁が観察された。
2 現像液の供給部
Claims (2)
- 支持体にポジ型感光性樹脂組成物の硬化膜を形成する方法であって、
支持体にポジ型感光性樹脂組成物を塗布して塗布膜を形成する塗布工程と、
前記塗布膜に化学線を選択的に照射して、前記塗布膜を露光する露光工程と、
アルカリ現像液の供給部を前記塗布膜の中心部に配置し、前記塗布膜を回転させると共に前記供給部を中心部から前記塗布膜の外周部側へと移動させながら前記アルカリ現像液の供給を行い、前記アルカリ現像液が前記塗布膜に拡がった段階で前記塗布膜の回転を停止し、静置する現像 工程を1回または2回以上繰返し、
前記現像工程後の前記塗布膜の中心部に洗浄液を供給し、前記塗布膜を回転させ前記塗布膜を洗浄する洗浄工程と、
前記洗浄工程後に塗布膜を加熱して、硬化膜を形成する硬化工程とを有し、
前記現像工程では、前記塗布膜を静置する時間の合計をTs1〔秒間〕とし、前記洗浄工程の直前の前記塗布膜の静置時間をTs2〔秒間〕としたとき、Ts2/Ts1が0.5以上であることを特徴とする硬化膜の形成方法。 - 前記供給部が前記塗布膜の中心部近傍に有る場合の前記塗布膜の回転数が、前記供給部が前記塗布膜の外周部近傍に有る場合の前記塗布膜の回転数よりも高いものである請求項1に記載の硬化膜の形成方法。
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