JP2009057608A - スパッタリング装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 スパッタ室11a内に所定の間隔を置いて並設した複数枚のターゲット41と、各ターゲットへの電力投入を可能とするスパッタ電源Eと、スパッタ室へのスパッタガス及び反応ガスの導入を可能とするガス導入手段8とを備え、反応ガスを導入するガス導入手段は、少なくとも1本のガス供給管84を有し、このガス供給管は、並設した各ターゲットの背面側で各ターゲットから離間させて配置されると共に、反応ガスを噴射する噴射口84aが形成されている。ターゲット相互間の各間隙を通って流れる前記反応ガス流量の調整を可能とする調節手段9が設けられている。
【選択図】 図3
Description
11a スパッタ室
31、32 シールド
41a乃至41h ターゲット
8 ガス導入手段
84 ガス供給管
9 調整手段
91 コンダクタンス調整部材
93 駆動手段
E1乃至E4 交流電源
S 基板
Claims (6)
- スパッタ室内に所定の間隔を置いて並設した複数枚のターゲットと、各ターゲットへの電力投入を可能とするスパッタ電源と、スパッタ室へのスパッタガス及び反応ガスの導入を可能とするガス導入手段とを備え、
前記反応ガスをスパッタ室に導入するガス導入手段は、少なくとも1本のガス供給管を有し、このガス供給管は、並設した各ターゲットの背面側で各ターゲットから離間させて配置されると共に、反応ガスを噴射する噴射口が形成されているスパッタリング装置であって、
前記ターゲット相互間の各間隙を通って流れる前記反応ガス流量の調整を可能とする調節手段を設けたことを特徴とするスパッタリング装置。 - 前記調整手段は、ターゲットの背面側に配置された凸の山角状の先端部を有するコンダクタンス調整部材と、当該コンダクタンス調整部材を前記間隙に対し進退自在に駆動する駆動手段とを備えることを特徴とする請求項1記載のスパッタリング装置。
- 前記コンダクタンス調整部材は、前記間隙の全長に亘って設けられていることを特徴とする請求項1または請求項2記載のスパッタリング装置。
- 前記コンダクタンス調整部材はその長手方向に沿う所定の長さで複数個に分割され、当該分割された部分にそれぞれ駆動手段が連結されていることを特徴とする請求項2または請求項3記載のスパッタリング装置。
- 前記スパッタ電源は、並設された複数枚のターゲットのうち一対のターゲット毎に所定の周波数で交互に極性をかえて電圧を印加する交流電源であり、各ターゲットをアノード電極、カソード電極に交互に切替え、アノード電極及びカソード電極間にグロー放電を生じさせてプラズマ雰囲気を形成し、各ターゲットをスパッタリングすることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のスパッタリング装置。
- 前記並設したターゲットとガス管との間に、各ターゲットの前方にトンネル状の磁束を形成する磁石組立体を設けると共に、当該各磁石組立体を一体で、かつ、ターゲット裏面に沿って平行に往復動させる他の駆動手段を備えたことを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のスパッタリング装置。
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