JP2009053716A - レチクル、露光方法および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】素子形成領域1A、1Bとその間に挟まれるダイシング領域3Bとから構成される四角形の所定領域2の外形の対辺の一方に配置されるダイシング領域の凹凸は対辺の他方に配置されるダイシング領域の凹凸に嵌まり合うような形状を有している。またダイシング領域3Aの凸部には、所定領域2の4つの角部のすべてに対応してモニタマーク領域5、7が配置されている。
【選択図】図1
Description
次に、この縮小投影露光装置に用いられる従来のレチクルの構成について説明する。
上記のレチクルにおいて好ましくは、第1の外周部ダイシング領域は、一辺の一方端から一辺上の第1の点までの第1の長さを有する第1の部分と、第1の点から一辺の他方端までの第2の長さを有する第2の部分とを有している。第2の外周部ダイシング領域は、一辺の一方端と同方向に位置する他辺の一方端から第2の点までの第2の長さを有する第1の部分と、第2の点から他辺の他方端までの第1の長さを有する第2の部分とを有している。第1の外周部ダイシング領域の第1の部分の凸部および凹部は、第2の外周部ダイシング領域の第2の部分の凹部および凸部に嵌まり合うような形状を有し、第1の外周部ダイシング領域の第2の部分の凸部および凹部は、第2の外周部ダイシング領域の第1の部分の凹部および凸部に嵌まり合うような形状を有している。
上記のレチクルにおいて好ましくは、第1の外周部ダイシング領域は、一辺の一方端から一辺上の第1の点までの第1の長さを有する第1の部分と、第1の点から一辺の他方端までの第2の長さを有する第2の部分とを有している。第2の外周部ダイシング領域は、一辺の一方端と同方向に位置する他辺の一方端から第2の点までの第2の長さを有する第1の部分と、第2の点から他辺の他方端までの第1の長さを有する第2の部分とを有している。第1の外周部ダイシング領域の第1の部分の凸部および凹部は、第2の外周部ダイシング領域の第2の部分の凹部および凸部に嵌まり合うような形状を有し、第1の外周部ダイシング領域の第2の部分の凸部および凹部は、第2の外周部ダイシング領域の第1の部分の凹部および凸部に嵌まり合うような形状を有している。
実施の形態1
図1は、本発明の実施の形態1におけるレチクルの構成を概略的に示す平面図である。また図2と図3とは、図1の領域P1と領域P2とを拡大して示す部分平面図である。
所定領域2の外形の対辺をなす一辺(たとえば図中左辺)に配置された左側ダイシング領域部の凸部3Aが、対辺をなす他辺(たとえば図中右辺)に配置された右側ダイシング領域部の凹部3Cに、また右側ダイシング領域部の凸部3Aは左側ダイシング領域部の凹部3Cに各々嵌り合うような形状を有している。
図5は、露光装置の主要部の構成を示す概略図である。図5を参照して、この露光装置は、レチクル上のパターンを縮小して、ウェハに塗布されたフォトレジストに投射するものである。また露光装置は、レチクル10と、光源からレチクル10のパターンまでの照明光学系30と、レチクル10のパターンからウェハ20までの投射光学系40とを有している。
図9は、本発明の実施の形態2におけるレチクルの構成を概略的に示す平面図である。図9を参照して、本実施の形態では、所定領域2の外周に配置されるダイシング領域103A、103C、103Dが凹凸形状を有している点、およびその凸部にモニタマーク領域5、7が所定領域2の4つの角部のすべてに対応して配置される点において実施の形態1と同じである。
Claims (8)
- 単一の素子形成領域から構成される、または複数の前記素子形成領域と前記素子形成領域間に挟まれる中間部ダイシング領域とから構成される、平面形状が四角形の所定領域と、
前記所定領域の四角形の平面形状の対辺をなす一辺に接し、かつ幅の広い凸部および幅の狭い凹部を有する平面形状の第1の外周部ダイシング領域と、
前記対辺をなす他辺に接して配置され、かつ前記第1の外周部ダイシング領域の前記凸部および凹部に嵌まり込むような凹部および凸部を有する平面形状の第2の外周部ダイシング領域と、
前記所定領域の四角形の平面形状の4つの角部のすべてに対応して前記第1および第2の外周部ダイシング領域の前記凸部内に配置されたモニタマーク領域とを備えた、レチクル。 - 透明基板と前記透明基板の表面上に形成された遮光膜とを有し、
前記所定領域の外周に配置された前記第1および第2の外周部ダイシング領域の前記凹部の外周には、前記遮光膜が形成されている、請求項1に記載のレチクル。 - 前記第1および第2の外周部ダイシング領域の少なくともいずれかは、前記凸部または凹部を2以上有している、請求項1に記載のレチクル。
- 2以上の前記凸部は、互いに幅の異なる凸部を有する、請求項3に記載のレチクル。
- 前記第1の外周部ダイシング領域は、前記一辺の一方端から前記一辺上の第1の点までの第1の長さを有する第1の部分と、前記第1の点から前記一辺の他方端までの第2の長さを有する第2の部分とを有し、
前記第2の外周部ダイシング領域は、前記一辺の前記一方端と同じ方向に位置する前記他辺の一方端から第2の点までの前記第2の長さを有する第1の部分と、前記第2の点から前記他辺の他方端までの前記第1の長さを有する第2の部分とを有し、
前記第1の外周部ダイシング領域の前記第1の部分の前記凸部および前記凹部は、前記第2の外周部ダイシング領域の前記第2の部分の前記凹部および前記凸部に嵌まり合うような形状を有し、
前記第1の外周部ダイシング領域の前記第2の部分の前記凸部および前記凹部は、前記第2の外周部ダイシング領域の前記第1の部分の前記凹部および前記凸部に嵌まり合うような形状を有している、請求項1に記載のレチクル。 - 露光光を発する光源と、前記光源からの露光光を照射するレチクルと、ステージとを備え、前記レチクルを透過した露光光を前記ステージ側へ照射する露光装置であって、
前記レチクルは、
単一の素子形成領域から構成される、または複数の前記素子形成領域と前記素子形成領域間に挟まれる中間部ダイシング領域とから構成される、平面形状が四角形の所定領域と、
前記所定領域の四角形の平面形状の対辺をなす一辺に接し、かつ幅の広い凸部および幅の狭い凹部を有する平面形状の第1の外周部ダイシング領域と、
前記対辺をなす他辺に接して配置され、かつ前記第1の外周部ダイシング領域の前記凸部および凹部に嵌まり込むような凹部および凸部を有する平面形状の第2の外周部ダイシング領域と、
前記所定領域の四角形の平面形状の4つの角部のすべてに対応して前記第1および第2の外周部ダイシング領域の前記凸部内に配置されたモニタマーク領域とを備えた、露光装置。 - ステップアンドリピートによりレチクルのパターンを縮小投影レンズを通してウェハ表面にショットとして連続的に並べて転写する露光方法であって、
光源から露光光を発する工程と、
前記露光光を前記レチクルに照射する工程と、
前記レチクルを透過した露光光を半導体基板上のフォトレジストに投射する工程とを備え、
前記レチクルは、
単一の素子形成領域から構成される、または複数の前記素子形成領域と前記素子形成領域間に挟まれる中間部ダイシング領域とから構成される、平面形状が四角形の所定領域と、
前記所定領域の四角形の平面形状の対辺をなす一辺に接し、かつ幅の広い凸部および幅の狭い凹部を有する平面形状の第1の外周部ダイシング領域と、
前記対辺をなす他辺に接して配置され、かつ前記第1の外周部ダイシング領域の前記凸部および凹部に嵌まり込むような凹部および凸部を有する平面形状の第2の外周部ダイシング領域と、
前記所定領域の四角形の平面形状の4つの角部のすべてに対応して前記第1および第2の外周部ダイシング領域の前記凸部内に配置されたモニタマーク領域とを備え、
前記露光光を前記フォトレジストに投射する工程は、隣り合う一方および他方のショットのうち前記一方のショットの前記第1の外周部ダイシング領域の前記凸部が前記他方のショットの前記第2の外周部ダイシング領域の前記凹部に嵌まり込み、前記他方のショットの前記第2の外周部ダイシング領域の前記凸部が前記一方のショットの前記第1の外周部ダイシング領域の前記凹部に嵌まり込むように各前記ショットを露光する工程を有する、露光方法。 - 前記レチクルは、前記第1および第2の外周部ダイシング領域に接してその外周全体に配置されたオーバーラップ領域をさらに備え、
前記一方のショットの前記第1の外周部ダイシング領域に接する前記オーバーラップ領域と前記他方のショットの前記第2の外周部ダイシング領域に接する前記オーバーラップ領域とが互いに重なり合うように露光される、請求項7に記載の露光方法。
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