JP4658004B2 - デバイス製造方法 - Google Patents
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Description
着色された放射線感光材料から成る第一層で覆われた基板に、パターン化された放射ビームを投影することを含み、前記パターン化されたビームのパターンは、製品ダイの領域にデバイス・フィーチャーを形成するために用いられるパターンと、その他の領域にアラインメントマーク・フィーチャーを形成するために用いられるパターンとを含むデバイス製造方法。
基板上の1つ以上のダイ上にカラーフィルターを形成する際に用いられるパターンを放射線の投影ビームに与えるためのパターン付与構造と、前記ダイの外側領域にアラインメントマークを形成する際に用いられるパターンを前記放射線の投影ビームに与えるためのパターン付与構造とを含むマスク。
放射ビームB(例えば、UV放射線またはEUV放射線)を調整するように構成された照明系(照明装置)ILと、
パターン付与デバイス(例えば、マスク)MAを支持するように構成され、かつ、特定のパラメータに従って正確にパターン付与デバイスの位置決めを行うように構成された第一位置決め装置PMに連結を行った支持構造体(例えば、マスクテーブル)MTと、
基板(例えば、レジスト塗布したウェハ)Wを支持するように構成され、かつ、特定のパラメータに従って正確に基板の位置決めを行うように構成された第二位置決め装置PWに連結された基板テーブル(例えば、ウェハテーブル)WTと、
パターン付与デバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wの目標部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)に投影するように構成された投影系(例えば、屈折性投影レンズ系)PSとを含む。
1.ステップモードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは、基本的に静止状態に保たれている。そして、放射ビームに与えたパターン全体が1回で目標部分Cに投影される(すなわち1回の静止露光)。次に基板テーブルWTがX方向および/あるいはY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが照射され得る。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の静止露光で描像される目標部分Cのサイズを制限する。
2.走査モードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを同期走査する一方、放射ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する(つまり1回の動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影系PLの拡大(縮小)および像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の動的露光で目標部分の(非走査方向における)幅を制限し、走査動作の長さが目標部分の(走査方向における)高さを決定する。
3.別のモードでは、マスクテーブルMTが基本的に静止状態に維持されて、プログラム可能なパターン付与デバイスを保持し、放射ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する間に、基板テーブルWTが動作するか、走査される。このモードでは、一般的にパルス状放射線源を用いて、基板テーブルWTを動作させるごとに、または走査中に連続する放射線パルス間に、プログラム可能なパターン付与デバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラム可能なミラーアレイなどのプログラム可能なパターン付与デバイスを使用するマスクなしリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (8)
- 着色された第一放射線感光材料から成る第一層で覆われた基板に、パターン化された放射ビームを投影するステップであって、前記パターン化されたビームのパターンは、製品ダイの領域にカラーフィルターとしてのデバイス・フィーチャーを形成するために用いられるパターンと、その他の領域にアラインメントマーク・フィーチャーを形成するために用いられるパターンとを含む、ステップと、
照射した第一層の領域が残るとともに照射していない第一層の領域が除去されるか、またはその逆になるように、前記第一層を現像するステップと、
前記第一層の色とは異なるように着色された第二放射線感光材料からなる第二層を前記基板に適用するステップと
を含み、
前記アライメントマーク・フィーチャーは、前記基板のスクライブライン領域に配置され、
前記第二層を前記基板に適用するステップにおいて、前記アライメントマーク・フィーチャーが、現像された前記第一層の領域と前記第二層の領域との反射率の変化に起因するコントラストを有するように、前記第二層を、前記アライメントマーク・フィーチャーである現像された前記第一層の領域の上方を除く前記領域の周りに設ける、デバイス製造方法。 - 前記第二放射線感光材料の前記色が青色または青緑色である請求項1に記載されたデバイス製造方法。
- 前記アラインメントマークが、2つの直交方向で位置合わせするためにほぼ直交して配向されたフィーチャーを含む請求項1に記載されたデバイス製造方法。
- 前記第一放射線感光材料の色が、緑色または赤色または赤紫色または黄色である請求項1に記載されたデバイス製造方法。
- 現像した放射線感光材料が前記デバイスの一部を形成する請求項1に記載されたデバイス製造方法。
- 前記デバイスがCMOSまたはCCDデバイスである請求項1に記載されたデバイス製造方法。
- 前記アラインメントマークの前記フィーチャーを使用して、リソグラフィ投影装置内で前記基板を位置合わせすることを更に含む請求項1に記載されたデバイス製造方法。
- 赤色レーザを用いてアライメントを行うことを含む、請求項1から7のいずれかに記載されたデバイス製造方法。
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