JP2009048063A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. 基板上に、
   第１絶縁膜と、
   該第１絶縁膜上に設けられた画素電極と、
   前記第１絶縁膜より下層側に形成された着色層と、
   前記着色層より下層側に形成され、前記第１絶縁膜を貫通して開孔されたコンタクトホールを介して前記画素電極と電気的に接続された導電膜と、
   前記着色層と重なる領域には設けられず、前記コンタクトホールが形成される領域に、前記導電膜より下層側に形成された調整膜と
   を備えたことを特徴とする電気光学装置。
2. 前記導電膜より下層側に形成された半導体層及びゲート電極を有し、前記画素電極に前記導電膜及び前記コンタクトホールを介して電気的に接続されたトランジスタを備え、
   前記調整膜は、前記半導体層及び前記ゲート電極のうち少なくともいずれかと同一膜からなる
   ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 前記導電膜より下層側に形成されると共に、前記コンタクトホールが形成される領域に、上層側に向かって突出する第１突出部を有する第２絶縁膜を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
4. 前記基板は、前記コンタクトホールが形成される領域に、上層側に向かって突出する第２突出部を有することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
5. 基板上に、
   第１絶縁膜と、
   該第１絶縁膜上に設けられた画素電極と、
   前記第１絶縁膜より下層側に形成された着色層と、
   前記着色層より下層側に形成され、前記第１絶縁膜を貫通して開孔されたコンタクトホールを介して前記画素電極と電気的に接続された導電膜と、
   前記コンタクトホールが形成される領域において、前記導電膜より下層側に、上層側に向かって突出する第１突出部を有する第２絶縁膜と、を備え、
   前記第１突出部は前記着色層と重なる領域には設けられない
   ことを特徴とする電気光学装置。
6. 基板上に、
   第１絶縁膜と、
   該第１絶縁膜上に設けられた画素電極と、
   前記第１絶縁膜より下層側に形成された着色層と、
   前記着色層より下層側に形成され、前記第１絶縁膜を貫通して開孔されたコンタクトホールを介して前記画素電極と電気的に接続された導電膜と
   を備え、
   前記基板は、前記コンタクトホールが形成される領域に、上層側に向かって突出する第２突出部を有し、前記第２突出部は前記着色層と重なる領域には設けられない
   ことを特徴とする電気光学装置。
7. 請求項１から６のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
8. 基板上に、調整膜を形成する工程と、
   前記調整膜より上層側に導電膜を形成する工程と、
   前記導電膜より上層側に着色層を形成する工程と、
   前記着色層より上層側に、前記導電膜及び前記着色層を覆うように、第１絶縁膜を形成する工程と、
   前記第１絶縁膜を貫通してコンタクトホールを開孔する工程と、
   前記コンタクトホールを介して前記導電膜に電気的に接続された画素電極を前記第１絶縁膜上に形成する工程と
   を備え、
   前記調整膜を形成する工程では、前記調整膜を、前記コンタクトホールが形成される領域に配置すると共に前記着色層と重なる領域には配置しない
   ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
9. 基板上に、上層側に向かって突出する第１突出部を有する第２絶縁膜を形成する工程と、
   前記第２絶縁膜より上層側に導電膜を形成する工程と、
   前記導電膜より上層側に着色層を形成する工程と、
   前記着色層より上層側に、前記導電膜及び前記着色層を覆うように、第１絶縁膜を形成する工程と、
   前記第１絶縁膜を貫通してコンタクトホールを開孔する工程と、
   前記コンタクトホールを介して前記導電膜に電気的に接続された画素電極を前記第１絶縁膜上に形成する工程と
   を備え、
   前記第２絶縁膜を形成する工程では、前記第１突出部を、前記コンタクトホールが形成される領域に配置すると共に前記着色層と重なる領域には配置しない
   ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
10. 基板に、上層側に向かって突出する第２突出部を形成する工程と、
    前記基板上に、導電膜を形成する工程と、
    前記導電膜より上層側に着色層を形成する工程と、
    前記着色層より上層側に、前記導電膜及び前記着色層を覆うように、第１絶縁膜を形成する工程と、
    前記第１絶縁膜を貫通してコンタクトホールを開孔する工程と、
    前記コンタクトホールを介して前記導電膜に電気的に接続された画素電極を前記第１絶縁膜上に形成する工程と
    を備え、
    前記第２突出部を形成する工程では、前記第２突出部を、前記コンタクトホールが形成される領域に配置すると共に前記着色層と重なる領域には配置しない
    ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。