JP2009044042A - 被処理物の浸漬型処理装置及び被処理物の処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】送風機5から送風されたエアは、第1,第2のガス吹出ノズル4a,5aに送風される。第1のガス吹出ノズル4aから開放部1aに吹き出したエアは、第1のガス吸込ノズル4bから吸入され、第2のガス吹出ノズル5aから吹き出したエアは、第2のガス吸込ノズル5bで吸入され、開放部1aに2組のエアカーテンが形成される。被処理物32を開放部1aから槽体1外に抜き出すときに、第2のガス吹出ノズル5a及び第1のガス吹出ノズル4aから吹き下ろされるエアによって、被処理物32の表面の全面に残留する液31が十分に吹き飛ばされる。
【選択図】図1
Description
導入工程を開始する場合、まず、弁2aを開とする。また、弁11aを閉とし、送風機5を作動させる。
上記のようにして貯留部1b内の液31内に被処理物32を浸漬した状態を所定時間維持し、被処理物32の液体31による処理を行う。この浸漬時間は、被処理物、汚染物質及び液体の種類、汚れの程度等によって適宜決められるが、例えば1〜20分間、特に3〜10分間程度である。このようにして所定時間浸漬することにより、被処理物32が液体31によって洗浄される。
その後、弁11aを開とする。
図1の処理装置を用い、上記実施の形態の手順に従って導入工程、浸漬工程及び抜出工程を行い、被処理物の処理を行った。
浸漬時間:5分間
貯留部1b内への液体の供給流量:20L/min
ガス流量計6の流量:300L/min
ガス流量計21の流量:ガス流量計6の流量の0.4倍
被処理物:有機汚染(有機物:クリーンルーム内での自然堆積物)したチタン板
無害化装置:容器内にニッケル触媒を充填したもの
導入工程、浸漬工程及び抜出工程を実施した後、被処理物を、純水を貯留したリンス槽まで移送し、該リンス槽内に浸漬した。
抜出工程においても弁11aを閉のままにしたことの他は実施例1と同様にして、被処理物の処理を行った。
実施例1において、図1の処理装置に代え、図2の処理装置を用いた。また、ガス流量計6A及びガス流量計21の流量を以下の通りとした。
ガス流量計21の流量:ガス流量計6の流量の3倍
その他については実施例1と同様にして、実験を行った。
1a 開放部
1b 貯留部
2 液供給配管
3 液排出配管
4a 第1のガス吹出ノズル
4b 第1のガス吸込ノズル
5 送風機
5a 第2のガス吹出ノズル
5b 第2のガス吸込ノズル
10 送風配管
11 第1の送風配管
12 第2の送風配管
13 第1の吸気配管
14 第2の吸気配管
15 吸気配管
20 排気配管
22 ガス無害化装置
Claims (8)
- 被処理物が浸漬される液の貯留部を有した槽体を備え、該貯留部の上方に被処理物の出し入れ用の開放部を備えた浸漬型処理装置において、
該開放部にガスカーテン設備を、前記被処理物出し入れ方向に配置位置を異ならせて多段に設けてなり、
一部の該ガスカーテン設備のガスの吹出方向が他のガスカーテン設備のガスの吹出方向と反対方向となっていることを特徴とする浸漬型処理装置。 - 請求項1において、前記ガスカーテン設備のガス吹出方向が斜め下向きであることを特徴とする浸漬型処理装置。
- 請求項1又は2において、各ガスカーテン設備は、前記開放部にガスを吹き出すガス吹出手段と、該開放部からガスを吸い込むガス吸込手段とを有することを特徴とする浸漬型処理装置。
- 請求項3において、前記ガス吹出手段からのガス吹出量が、前記ガス吸込手段からのガス吸込量よりも小さいことを特徴とする浸漬型処理装置。
- 請求項1ないし4のいずれか1項の浸漬型処理装置を用いた被処理物の処理方法であって、
前記開放部から前記貯留部内に前記被処理物を導入する導入工程と、
該貯留部内の前記液に該被処理物を浸漬した状態を維持する浸漬工程と、
該貯留部内の該被処理物を該開放部から該槽体外に抜き出す抜出工程と
を有し、
上記の全工程において、前記ガスカーテン設備の少なくとも一部を作動させ、
該抜出工程において、吹出方向が互いに反対方向となっているガスカーテン設備を共に作動させることを特徴とする被処理物の処理方法。 - 請求項5において、前記導入工程及び前記浸漬工程では、前記ガスカーテン設備のうち、吹出方向が同一方向となっているガスカーテン設備のみを作動させることを特徴とする浸漬型処理方法。
- 請求項5又は6において、前記液は、オゾン、水素、酸素、窒素、アルゴン、二酸化炭素、アンモニア及び希ガスよりなる群から選択される少なくとも一種を水中に溶存させたガス溶解水であることを特徴とする被処理物の処理方法。
- 請求項5又は6において、前記液体は、アルコール類、ケトン類、酸、アルカリ、レジスト現像液及び過酸化水素水よりなる群から選択される少なくとも一種であることを特徴とする被処理物の処理方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011001569A (ja) * | 2009-06-16 | 2011-01-06 | Toyota Motor Corp | オゾン水処理装置及びオゾン水処理方法 |
JP2011187851A (ja) * | 2010-03-11 | 2011-09-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH049773A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-14 | Fujitsu Ltd | 水の比抵抗値測定方法 |
JPH0684859A (ja) * | 1992-08-31 | 1994-03-25 | Fuji Electric Co Ltd | 多槽浸漬式ウェーハ洗浄装置 |
JPH09194887A (ja) * | 1996-01-17 | 1997-07-29 | Masayuki Tsuda | 洗浄液および洗浄方法 |
JP2005136437A (ja) * | 2005-01-04 | 2005-05-26 | Tadahiro Omi | 半導体製造システム及びクリーンルーム |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH049773A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-14 | Fujitsu Ltd | 水の比抵抗値測定方法 |
JPH0684859A (ja) * | 1992-08-31 | 1994-03-25 | Fuji Electric Co Ltd | 多槽浸漬式ウェーハ洗浄装置 |
JPH09194887A (ja) * | 1996-01-17 | 1997-07-29 | Masayuki Tsuda | 洗浄液および洗浄方法 |
JP2005136437A (ja) * | 2005-01-04 | 2005-05-26 | Tadahiro Omi | 半導体製造システム及びクリーンルーム |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011001569A (ja) * | 2009-06-16 | 2011-01-06 | Toyota Motor Corp | オゾン水処理装置及びオゾン水処理方法 |
JP2011187851A (ja) * | 2010-03-11 | 2011-09-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
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