JPH049773A - 水の比抵抗値測定方法 - Google Patents
水の比抵抗値測定方法Info
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- JPH049773A JPH049773A JP11349190A JP11349190A JPH049773A JP H049773 A JPH049773 A JP H049773A JP 11349190 A JP11349190 A JP 11349190A JP 11349190 A JP11349190 A JP 11349190A JP H049773 A JPH049773 A JP H049773A
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Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Measurement Of Resistance Or Impedance (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
水面が大気に晒されるている水の比抵抗値測定方法に関
し、 水の比抵抗値を安定且つ確実に測定することのできる水
の比抵抗測定方法の提供を目的とし、水面が大気に晒さ
れるている水の比抵抗値測定方法において、水と大気と
の接触を、当該水に熔は込んでイオンとならない気体に
より遮断して行〔産業上の利用分野〕 本発明は、水面が大気に晒されるている水の比抵抗値測
定方法、特に水の比抵抗値を安定且つ確実に測定するこ
とのできる水の比抵抗測定方法に関する。
し、 水の比抵抗値を安定且つ確実に測定することのできる水
の比抵抗測定方法の提供を目的とし、水面が大気に晒さ
れるている水の比抵抗値測定方法において、水と大気と
の接触を、当該水に熔は込んでイオンとならない気体に
より遮断して行〔産業上の利用分野〕 本発明は、水面が大気に晒されるている水の比抵抗値測
定方法、特に水の比抵抗値を安定且つ確実に測定するこ
とのできる水の比抵抗測定方法に関する。
半導体装置の配線パターンの微細化に伴って、露光用の
マスク等が浸漬されて当該マスクを洗浄している洗浄槽
内の純水の品質の要求も益々厳しくなっている。
マスク等が浸漬されて当該マスクを洗浄している洗浄槽
内の純水の品質の要求も益々厳しくなっている。
そして、このような純水の品質の良し悪しを判定する方
法として、この純水の比抵抗値を測定することは良く知
られた方法である。
法として、この純水の比抵抗値を測定することは良く知
られた方法である。
このため、著しく進歩した最近の純水製造技術と製造シ
ステムにより１８ＭΩ−ｃｍ程度の比抵抗値で製造され
て上記状態で使用されている純水の比抵抗値を、安定、
且つ確実に測定することのできる水の比抵抗値測定方法
が要請されている。
ステムにより１８ＭΩ−ｃｍ程度の比抵抗値で製造され
て上記状態で使用されている純水の比抵抗値を、安定、
且つ確実に測定することのできる水の比抵抗値測定方法
が要請されている。
次に、水面が大気に晒されるている水の比抵抗値を測定
する従来の測定方法について図面を参照しながら説明す
る。
する従来の測定方法について図面を参照しながら説明す
る。
第２図は、従来の測定方法を説明するための模式的断面
図である。
図である。
尚、同じ部品・材料に対しては全図を通して同じ記号を
付与しである。
付与しである。
従来の測定方法は、容器、例えば洗浄槽１０内に入れら
れて水面が大気に晒されるている水、例えば純水３０の
中に比抵抗値測定器１４を投入し、純水３０の比抵抗値
を測定していた。
れて水面が大気に晒されるている水、例えば純水３０の
中に比抵抗値測定器１４を投入し、純水３０の比抵抗値
を測定していた。
という問題があった。
本発明は、このような問題を解決するためになされたも
ので、その目的は水の比抵抗値を安定且つ確実に測定す
ることのできる水の比抵抗測定方法の提供にある。
ので、その目的は水の比抵抗値を安定且つ確実に測定す
ることのできる水の比抵抗測定方法の提供にある。
前記目的は、第１図に示すように水面が大気に晒される
ている水の比抵抗値測定方法において、水と大気との接
触を、水に溶け込んでイオンとならない気体により遮断
して行うことを特徴とする水の比抵抗値測定方法により
達成される。
ている水の比抵抗値測定方法において、水と大気との接
触を、水に溶け込んでイオンとならない気体により遮断
して行うことを特徴とする水の比抵抗値測定方法により
達成される。
ところが、純水３０の水面が大気に晒されていると、大
気中の炭酸ガスが純水３０の中に溶け込んで）ＩＣＯｚ
−やｃｏ、！−等の純水３０の比抵抗値を低下させる炭
酸系のイオン等になる。
気中の炭酸ガスが純水３０の中に溶け込んで）ＩＣＯｚ
−やｃｏ、！−等の純水３０の比抵抗値を低下させる炭
酸系のイオン等になる。
このために、従来の測定方法は、洗浄槽１０内の純水３
０の比抵抗値を安定且つ正確に測定できない〔作 用〕 本発明の水の比抵抗値測定方法は、水と大気との接触を
、水に溶け込んでイオンとならない気体、例えば窒素ガ
スにより遮断して行うように構成している。
０の比抵抗値を安定且つ正確に測定できない〔作 用〕 本発明の水の比抵抗値測定方法は、水と大気との接触を
、水に溶け込んでイオンとならない気体、例えば窒素ガ
スにより遮断して行うように構成している。
従って、大気中の炭酸ガスは、水に溶け込んでイオンと
なることはない。
なることはない。
斯くして、本発明の水の比抵抗値測定方法は、水、特に
比抵抗値の大きな純水の比抵抗値を安定且つ確実に測定
することとなる。
比抵抗値の大きな純水の比抵抗値を安定且つ確実に測定
することとなる。
以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら説
明する。
明する。
第１図は、本発明の一実施例の超音波洗浄装置を説明す
るための図で、同図（ａ）装置の模式的側断面図、同図
（ｂ）は窒素ガスの流れを模式的に示す平面図である。
るための図で、同図（ａ）装置の模式的側断面図、同図
（ｂ）は窒素ガスの流れを模式的に示す平面図である。
本発明の水の比抵抗値測定方法を採用した超音波洗浄装
置は同図（ａ）に示すように、側板１０ａ上部に洗浄用
液体、例えば純水３０を外部に流出する流出口１０ｂを
有する洗浄槽１０と、洗浄槽１０の側板１０ａを貫通し
、洗浄槽１．０内に純水３０を連続的に噴出する洗浄液
導入管１１と、洗浄槽１０の底板１０ｃに設けた開口部
を閉塞し、振動板１２ａが洗浄槽１０内に位置するよう
にして底板１０ｃに固定された超音波振動子１２と、超
音波振動子１２に超音波周波数の電力を給電して、超音
波振動子１２の振動板１２ａを振動させて洗浄槽１０内
の純水３０に超音波エネルギーを供給する超音波発振器
１３と、 洗浄槽１０内の純水３０の中に投入されて、この純水３
０の比抵抗値を連続的に測定する比抵抗値測定器１４と
、 同図（ａ）及び同図（ｂ）に示すように、気体供給口１
５ａを有して、洗浄槽１０の対向する二つの側板１．０
ａを貫通且つ水平方向に所定ビソヂで配列された噴出口
１０ｄを内部に含んで当該側板１０ａの外側面に固定さ
れ、気体供給口１５ａに高圧の気体、例えば窒素ガス３
１を連続的に供給され、噴出口１０ｃｌから窒素ガス３
１を矢印Ａ及び矢印Ｂで示す如く水平方向に噴出する気
体タンク１５を含んで構成したものである。
置は同図（ａ）に示すように、側板１０ａ上部に洗浄用
液体、例えば純水３０を外部に流出する流出口１０ｂを
有する洗浄槽１０と、洗浄槽１０の側板１０ａを貫通し
、洗浄槽１．０内に純水３０を連続的に噴出する洗浄液
導入管１１と、洗浄槽１０の底板１０ｃに設けた開口部
を閉塞し、振動板１２ａが洗浄槽１０内に位置するよう
にして底板１０ｃに固定された超音波振動子１２と、超
音波振動子１２に超音波周波数の電力を給電して、超音
波振動子１２の振動板１２ａを振動させて洗浄槽１０内
の純水３０に超音波エネルギーを供給する超音波発振器
１３と、 洗浄槽１０内の純水３０の中に投入されて、この純水３
０の比抵抗値を連続的に測定する比抵抗値測定器１４と
、 同図（ａ）及び同図（ｂ）に示すように、気体供給口１
５ａを有して、洗浄槽１０の対向する二つの側板１．０
ａを貫通且つ水平方向に所定ビソヂで配列された噴出口
１０ｄを内部に含んで当該側板１０ａの外側面に固定さ
れ、気体供給口１５ａに高圧の気体、例えば窒素ガス３
１を連続的に供給され、噴出口１０ｃｌから窒素ガス３
１を矢印Ａ及び矢印Ｂで示す如く水平方向に噴出する気
体タンク１５を含んで構成したものである。
かかる構成の本発明の一実施例の超音波洗浄装置による
露光用のマスク３３の洗浄は、洗浄液導入管１１から連
続的に給水されて流出口１０ｂから純水３０を溢れさせ
ている洗浄槽１０内に、マスク３３を収納した治具を浸
漬し、超音波発振器１３を作動して洗浄槽１０内の純水
３０に超音波振動子１２から超音波エネルギーを供給し
てマスク３３に付着していた汚れ物質を離脱させること
により行う。
露光用のマスク３３の洗浄は、洗浄液導入管１１から連
続的に給水されて流出口１０ｂから純水３０を溢れさせ
ている洗浄槽１０内に、マスク３３を収納した治具を浸
漬し、超音波発振器１３を作動して洗浄槽１０内の純水
３０に超音波振動子１２から超音波エネルギーを供給し
てマスク３３に付着していた汚れ物質を離脱させること
により行う。
この時の純水３０の水質状態は、比抵抗値測定器１４に
より当該純水３０の比抵抗値を連続測定することにより
監視される。
より当該純水３０の比抵抗値を連続測定することにより
監視される。
そして、洗浄槽１０内の純水３０の水面は洗浄槽１０の
側板１０ａに設けた噴出口１０ｄから水平方向に噴出す
る窒素ガス３１により炭酸ガスを含んだ大気と接触を遮
断されているために、炭酸ガスが純水３０の中に溶け込
んでイオンとなることはない。
側板１０ａに設けた噴出口１０ｄから水平方向に噴出す
る窒素ガス３１により炭酸ガスを含んだ大気と接触を遮
断されているために、炭酸ガスが純水３０の中に溶け込
んでイオンとなることはない。
このため、比抵抗値測定器１４は、洗浄槽１０内の純水
３０の比抵抗値を安定且つ確実に測定できることとなる
。
３０の比抵抗値を安定且つ確実に測定できることとなる
。
以上の説明から明らかなように本発明の水の比抵抗値測
定方法によれば、大気中の炭酸ガスを溶け込ませない状
態の水の比抵抗値を測定するために、水の比抵抗値を安
定且つ確実に測定することができることとなる。
定方法によれば、大気中の炭酸ガスを溶け込ませない状
態の水の比抵抗値を測定するために、水の比抵抗値を安
定且つ確実に測定することができることとなる。
従って、本発明の水の比抵抗値測定方法で露光用のマス
ク等を洗浄する純水の水質管理を行うことにより、半導
体装置等の製造歩留まりを向上させることが可能となる
。
ク等を洗浄する純水の水質管理を行うことにより、半導
体装置等の製造歩留まりを向上させることが可能となる
。
第１図は、本発明の一実施例の超音波洗浄装置を説明す
るための図、 第２図は、従来の測定方法を説明するための模式的側断
面図である。 図において、 １０は洗浄槽、 １１は洗浄液導入管、 １２は超音波振動子、 １３は超音波発振器、 １４は比抵抗値測定器、 １５は気体タンク、 ３０は純水、 ３１は窒素ガス、 ３２は洗浄治具、 ３３はマスクをそれぞれ示す。 （Ｃ１） 装（−一の１季（デ８ζを一ンう一ヒコｔ’
＋ｆｉｌ１口（ｂ）會晃η゛ズの一゛たれヒ溪飢杓Ｉ；
示１乎面図イ（≠≦１月の一尖がシタ・１の月に１−浪
ａ（ル争丑、−Ｊ）９Ｈ口朋るｒ；あのＩＢ第１図
るための図、 第２図は、従来の測定方法を説明するための模式的側断
面図である。 図において、 １０は洗浄槽、 １１は洗浄液導入管、 １２は超音波振動子、 １３は超音波発振器、 １４は比抵抗値測定器、 １５は気体タンク、 ３０は純水、 ３１は窒素ガス、 ３２は洗浄治具、 ３３はマスクをそれぞれ示す。 （Ｃ１） 装（−一の１季（デ８ζを一ンう一ヒコｔ’
＋ｆｉｌ１口（ｂ）會晃η゛ズの一゛たれヒ溪飢杓Ｉ；
示１乎面図イ（≠≦１月の一尖がシタ・１の月に１−浪
ａ（ル争丑、−Ｊ）９Ｈ口朋るｒ；あのＩＢ第１図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 水面が大気に晒されるている水の比抵抗値測定方法に
おいて、 前記水と前記大気との接触を、当該水に溶け込んでイオ
ンとならない気体により遮断して行うことを特徴とする
水の比抵抗値測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11349190A JPH049773A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 水の比抵抗値測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11349190A JPH049773A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 水の比抵抗値測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH049773A true JPH049773A (ja) | 1992-01-14 |
Family
ID=14613652
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11349190A Pending JPH049773A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 水の比抵抗値測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH049773A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0497525A (ja) * | 1990-08-16 | 1992-03-30 | Nec Yamagata Ltd | ウェーハ処理装置 |
| JP2009044042A (ja) * | 2007-08-10 | 2009-02-26 | Kurita Water Ind Ltd | 被処理物の浸漬型処理装置及び被処理物の処理方法 |
| CN102262185A (zh) * | 2011-04-26 | 2011-11-30 | 无锡捷威电子有限公司 | 即热式电热水器水电阻的测试电路 |
-
1990
- 1990-04-27 JP JP11349190A patent/JPH049773A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0497525A (ja) * | 1990-08-16 | 1992-03-30 | Nec Yamagata Ltd | ウェーハ処理装置 |
| JP2009044042A (ja) * | 2007-08-10 | 2009-02-26 | Kurita Water Ind Ltd | 被処理物の浸漬型処理装置及び被処理物の処理方法 |
| CN102262185A (zh) * | 2011-04-26 | 2011-11-30 | 无锡捷威电子有限公司 | 即热式电热水器水电阻的测试电路 |
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