JP5029204B2 - 被処理物の処理方法 - Google Patents

Description

本発明は、液体中に被処理物を浸漬して該液体と該被処理物とを接触させる被処理物の処理方法に関する。

洗浄液や薬液を用いて被処理物の洗浄や表面処理を行う方法としては、種々のものが知られている。

例えば、半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基板などを、ＲＣＡ洗浄法によって洗浄することが知られている。ＲＣＡ洗浄法においては、過酸化水素水と硫酸の混合液、過酸化水素水と塩酸と水の混合液、過酸化水素水とアンモニア水と水の混合液などの、過酸化水素をベースとする濃厚な薬液を用いて、上記基板を高温で洗浄した後、超純水で濯ぐことにより、洗浄が行われる。

しかし、ＲＣＡ洗浄法によると、過酸化水素水、高濃度の酸、アルカリなどを多量に使用するために薬液コストが高く、また、リンス用の超純水のコスト、廃液処理コスト、薬品蒸気を処理する空調コストなど、多大なコストを要すると共に、環境への負荷も高い。

また、水にオゾンや水素等のガスを溶存させたガス溶解水中に被処理物を浸漬し、該被処理物を洗浄する方法も知られている。例えば、特開平１１−０７７０２３号には、超純水を脱気して溶存気体の飽和度を低下させたのち、水素ガスを供給して超純水に水素ガスを溶解させた水素含有超純水を洗浄水として用いることが記載されている。このようなガス溶解水に被処理物を浸漬して洗浄すると、コストの削減及び環境負荷の削減を図ることができる。

一方、特開平８−２５７５５４号には、被処理水に紫外線を照射して水中の有機物を分解除去する紫外線照射装置において、エアカーテン設備を設けることが記載されている。このエアカーテン設備は、容器の被処理水貯留部よりも上方にキセノンガス供給配管を配管し、該配管の下部に、キセノンガスをエアカーテン状に下方に吹き下ろすためのノズル列を配設したものである。
特開平１１−０７７０２３号 特開平８−２５７５５４号

上記特開平１１−０７７０２３号のガス溶解水を用い、このガス溶解水に被処理物を浸漬して洗浄する場合、ガス溶解水中のガスが気散するという問題がある。ガス溶解水中のガスが気散すると、ガス溶解水の溶存ガス濃度が低下し、洗浄能力が低下する。特に、ガス溶解水としてオゾン溶解水を用いる場合、オゾンが気散すると、現場にオゾン特有の臭気が生じる。また、ガス溶解水として水素溶解水を用いる場合、水素ガスが気散すると、引火のおそれが生じる。

このようにガス溶解水からガスが大気中に気散することを防止するために、このガス溶解水を貯留した槽体の上部に、上記特開平８−２５７５５４号のようなエアカーテン設備を設けることが考えられる。この場合、この槽体に貯留されたガス溶解水から該槽体の外側にガスが気散することは抑制される。しかしながら、この場合、被処理物の処理を行った後に、水槽内のガス溶解水に浸漬した該被処理物を該水槽の外側に抜き出すときに、この被処理物に残留したガス溶解水が該被処理物と共に水槽の外側に引き出されることになる。その結果、この残留したガス溶解水から水槽の外側の雰囲気にガスが気散してしまうという問題がある。

一方、溶解ガスの気散を防止するために、ガス溶解水を密閉容器に入れ、該密閉容器内で被処理物の処理を行うことも考えられる。しかしながら、この場合、該密閉容器への被処理物の出し入れが困難になるという問題がある。また、依然として、被処理物を容器の外側に引き出すときに、被処理物に残留した液体からガスが気散するという問題がある。

なお、同様に、洗浄液や薬液として揮発性の高い成分を含むものを用い、これらに被処理物を浸漬する場合にも、これら洗浄液や薬液から揮発成分が気散し、洗浄液や薬液の濃度が低下したり、臭気が生じたりするなどの問題がある。

本発明は、被処理物を液から抜き出すときに、処理装置の外側の雰囲気に気体が気散することを抑制することが可能な被処理物の処理方法を提供することを目的とする。

本発明（請求項１）の被処理物の処理方法は、被処理物が浸漬される液の貯留部を有した槽体を備え、該貯留部の上方に被処理物の出し入れ用の開放部を備えた浸漬型処理装置において、該開放部にガスカーテン設備を、前記被処理物出し入れ方向に配置位置を異ならせて多段に設けてなり、一部の該ガスカーテン設備のガスの吹出方向が他のガスカーテン設備のガスの吹出方向と反対方向となっている浸漬型処理装置を用いた被処理物の処理方法であって、前記開放部から前記貯留部内に前記被処理物を導入する導入工程と、該貯留部内の前記液に該被処理物を浸漬した状態を維持する浸漬工程と、該貯留部内の該被処理物を該開放部から該槽体外に抜き出す抜出工程とを有し、上記の全工程において、前記ガスカーテン設備の少なくとも一部を作動させ、該抜出工程において、吹出方向が互いに反対方向となっているガスカーテン設備を共に作動させることを特徴とするものである。

請求項２の被処理物の処理方法は、請求項１において、前記導入工程及び前記浸漬工程では、前記ガスカーテン設備のうち、吹出方向が同一方向となっているガスカーテン設備のみを作動させることを特徴とする。

請求項３の被処理物の処理方法は、請求項１又は２において、前記液は、オゾン、水素、酸素、窒素、アルゴン、二酸化炭素、アンモニア及び希ガスよりなる群から選択される少なくとも一種を水中に溶存させたガス溶解水であることを特徴とする。

請求項４の被処理物の処理方法は、請求項１又は２において、前記液は、アルコール類、ケトン類、酸、アルカリ、レジスト現像液及び過酸化水素水よりなる群から選択される少なくとも一種であることを特徴とする。

請求項５の被処理物の処理方法は、請求項１ないし４のいずれか１項において、前記ガスカーテン設備のガス吹出方向が斜め下向きであることを特徴とする。

請求項６の被処理物の処理方法は、請求項１ないし５のいずれか１項において、各ガスカーテン設備は、前記開放部にガスを吹き出すガス吹出手段と、該開放部からガスを吸い込むガス吸込手段とを有することを特徴とする。

請求項７の被処理物の処理方法は、請求項６において、前記ガス吹出手段からのガス吹出量が、前記ガス吸込手段からのガス吸込量よりも小さいことを特徴とする。

請求項１〜４の被処理物の処理方法によると、被処理物を液から抜き出すときに、処理装置の外側の雰囲気に気体が気散することを抑制することができる。

即ち、液を貯留した貯留部から被処理物を抜き出すときに、他のガスカーテン設備のガスの吹出方向と反対方向となっているガスカーテン設備を、該他のガスカーテン設備と共に作動させる。これにより、被処理物に一方向からガスを吹き付ける場合と比べて、該被処理物の表面のより広範囲にガスを吹き付けることができる。その結果、該被処理物の表面に残留する液を十分に吹き飛ばすことができる。従って、被処理物を液から抜き出すときに、処理装置の外側の雰囲気に気体が気散することを抑制することができる。

請求項５の通り、ガスカーテン設備のガス吹出方向を斜め下向きにすると、被処理物の表面に残留する液を下方の貯留部に向けて吹き飛ばすことができる。これにより、被処理物を液から抜き出すときに、処理装置の外側の雰囲気に気体が気散することをより抑制することができる。

請求項６の通り、各ガスカーテン設備は、前記開放部にガスを吹き出すガス吹出手段と、該開放部からガスを吸い込むガス吸込手段とを有することが好ましい。この場合、液から気散したガスは、該ガス吹出手段から吹き出されたガスと共に、該ガス吸込み手段によって吸い出される。このため、これらガス及びガス吹出手段からのガスが、開口部から処理装置の外側に流出することが確実に抑制される。

請求項７の通り、ガス吹出手段からのガス吹出量が、ガス吸込手段からのガス吸込量よりも小さい場合、その分だけ処理装置の外側の空気が開口部を介して槽体内に流入することになるため、この流入する空気に逆流して気散ガスが槽体の外側に流出することがなくなり、気散ガスの槽体外への漏出がより確実に抑制される。

請求項２の通り、導入工程及び浸漬工程では、吹出方向が同一方向となっているガスカーテン設備のみを作動させることが好ましい。この場合、導入工程及び浸漬工程において、貯留部の上方におけるガスの流れが安定し、液から気散したガスの開放部からの流出がより確実に抑制される。

請求項３の通り、液は、オゾン、水素、酸素、窒素、アルゴン、二酸化炭素、アンモニア及び希ガスよりなる群から選択される少なくとも一種を水中に溶存させたガス溶解水であってもよい。これらガス溶解水中のガスの気散が、ガスカーテン設備によって十分に抑制される。

請求項４の通り、液は、アルコール類、ケトン類、酸、アルカリ、レジスト現像液及び過酸化水素水よりなる群から選択される少なくとも一種であってもよい。これらの液体からのガスの気散も、ガスカーテン設備によって十分に抑制される。

以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。

図１は本発明の処理方法の一態様を説明する図面である。

まず、処理装置の構成について説明する。

図１の通り、槽体１の上端は開放した開放部１ａとなっている。この槽体１の底面に、該槽体１内へ液３１を供給するための液供給配管２が接続されている。この液供給配管２に弁２ａが設けられている。この槽体１の側面に、液排出配管３が接続されている。この槽体１のうち液排出配管３の接続口よりも下位が、貯留部１ｂとなっている。

この槽体１の側面（図１における右側面）の上部に、開放部１ａに臨んで第１のガス吹出ノズル４ａが設けられている。また、この槽体１の側面のうち該第１のガス吹出ノズル４ａの指向方向の延長線上の位置（図１における左側面）に、開放部１ａに臨んで第１のガス吸込ノズル４ｂが設けられている。

この槽体１の側面のうち該第１のガス吸込ノズル４ｂよりも下位（図１における左側面）に、第２のガス吹出ノズル５ａが設けられている。また、この槽体１の側面のうち該第２のガス吹出ノズル５ａの指向方向の延長線上の位置（図１における右側面）に、第２のガス吸込ノズル５ｂが設けられている。

これら第１，第２のガス吹出ノズル４ａ，５ａは、斜め下向きを指向していることが好ましく、特に水平よりも１０°〜４５°程度下向きを指向していることが好ましい。また、第１，第２のガス吸込ノズル４ｂ，５ｂは、斜め上向きを指向していることが好ましく、特に水平よりも１０°〜４５°程度上向きを指向していることが好ましい。

送風機５の吹出口に、送風配管１０が接続されており、該送風配管１０は途中で、弁１１ａを備えた第１の送風配管１１と、第２の送風配管１２とに分岐している。この第１の送風配管１１は第１のガス吹出ノズル４ａに接続され、この第２の送風配管１２は第２のガス吹出ノズル５ａに接続されている。この送風配管１０には、エアフィルタ７が設けられている。

上記の第１、第２のガス吸込ノズル４ｂ，５ｂは、第１，第２の吸気配管１３，１４を介してガス流量計６に接続されている。このガス流量計６により、これらノズル４ｂ，５ｂから吸い込んだガスの総流量が測定可能になっている。このガス流量計６は、吸気配管１５を介して送風機５の吸込口に接続されている。このガス流量計６の流量信号が、後述するガス流量制御弁２０ａの制御回路（図示略）に送信可能になっている。

この送風配管１０のうちエアフィルタ７よりも下流側の位置に、排気配管２０が接続されている。この排気配管２０には、ガス流量計制御弁２０ａ、ガス流量計２１及びガス無害化装置２２が、上流側からこの順に設けられている。このガス流量計２１の流量信号が、ガス流量制御弁２０ａの制御回路（図示略）に送信可能になっている。

このガス無害化装置２２としては、排気ガス中の有害ガスを無害化するものであれば特に限定は無く、例えば、容器内に活性炭、ニッケル、マンガン等の触媒を充填したもの、紫外線照射装置等が用いられる。

液３１としては、ガス溶解水のほか、揮発性が高く臭気を発するもの、例えば、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）などのアルコール類、アセトンなどのケトン類、ジメチルエーテルなどのエーテル類、塩酸やフッ酸などの酸、アンモニア、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）、コリンなどのアルカリ、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）などのレジスト現像液及び過酸化水素水よりなる群から選択される少なくとも一種などが用いられる。溶解させるガスとしては、オゾン、水素、酸素、窒素、二酸化炭素、アンモニア及びアルゴン等の希ガスの１種又は２種以上の混合ガスが挙げられる。

この処理装置によって処理される被処理物３２は、吊支部材３２ａによって吊支され、槽体１の上方から開放部１ａを通して槽体１内に出し入れ可能とされ、かつ吊り下げられた状態で液体３１内に浸漬され、保持され得るようになっている。

吊支部材３２ａとしては、金属、合成樹脂などの線状体が好適である。吊支部材３２ａは、フック、網篭、真空チャックなどの保持手段を介して被処理物３２を吊り下げるよう構成されている。

被処理物３２としては、ガラスなどのセラミックス、金属、合成樹脂、ゴム、単結晶シリコン、多結晶シリコン、アモルファスシリコン、半導体基板等が挙げられる。

次に、このように構成された浸漬型処理装置を用いた被処理物の処理方法について説明する。

［被処理物導入工程］
導入工程を開始する場合、まず、弁２ａを開とする。また、弁１１ａを閉とし、送風機５を作動させる。

このように弁２ａを開とすることにより、配管２から貯留部１ｂ内に液３１が供給され、液排出配管３から排出される。

また、送風機５を作動させることにより、送風機５の吹出口から吹き出されたエアは、送風配管１０及びエアフィルタ７を通り、このエアフィルタ７によってエア中の塵等が除去され、エアが清浄化される。この清浄化されたエアは、その一部が排気配管２０を通り、その残部が第２の送風配管１２を通って第２のガス吹出ノズル５ａに供給される。

この第２のガス吹出ノズル５ａに供給されたエアは、該ノズル５ａから開放部１ａに送風される。開放部１ａに送風されたエアは、第１のガス吸込ノズル５ｂで吸入され、第２の吸気配管１４を通ってガス流量計６によって流量が測定された後、吸気配管１５を通って送風機５の吸込口に送られる。

また、排気配管２０を通ったエアは、ガス流量計２１で流量が測定されてからガス無害化装置２２に導入され、液３１からの気散ガスが無害化されてから系外に排出される。

なお、このガス流量計２１及び上記ガス流量計６の流量の測定値に基づいて、ガス流量制御弁２０ａの開度が制御される。

この際、このガス流量計２１の流量がガス流量計６の流量の０〜０．８倍、特に０．３〜０．７倍となるように制御されるのが好ましい。

この状態において、吊支部材３２ａを用い、被処理物３２を開放部１ａから槽体１内に導入し、貯留部１ｂ内の液３１に浸漬する。

このように、第２のガス吹出ノズル５ａからエアが送風されると共に、第２のガス吸込ノズル５ｂからこのエアが吸引されることにより、開放部１ａにエアカーテンが形成されている。このため、液３１から気散したガスは、第２のガス吸込ノズル５ｂで吸引されることになり、この気散ガスが開放部１ａから槽体１の外部に漏出することが防止される。

また、第２のガス吸込ノズル５ｂで吸引したエアの一部が排気配管２０から排気されるため、第２のガス吸込ノズル５ｂのエア吸込量が第２のガス吹出ノズル５ａからのエア吹出量よりも大きくなる。このため、槽体１の外部の空気が開放部１ａから槽体１内に流入することになり、その結果、この外部から流入する空気に逆流して液３１からの気散ガスが槽体１の外部に漏出することがなくなり、気散ガスの槽体１外への流出がより確実に防止される。また、このようにエアの一部が排気配管２０から排気されることにより、循環するエア中の気散ガス濃度が高濃度になることが防止されるため、万一槽体１内のエアが外部に少量漏出したとしても、気散ガスの漏出量は極微量となる。

なお、排気配管２０を通って排気されるエアは、ガス無害化装置２２によって無害化されてから系外に排気されるため、系外に気散ガスが漏出することが防止される。

［浸漬工程］
上記のようにして貯留部１ｂ内の液３１内に被処理物３２を浸漬した状態を所定時間維持し、被処理物３２の液体３１による処理を行う。この浸漬時間は、被処理物、汚染物質及び液体の種類、汚れの程度等によって適宜決められるが、例えば１〜２０分間、特に３〜１０分間程度である。このようにして所定時間浸漬することにより、被処理物３２が液体３１によって洗浄される。

［抜出工程］
その後、弁１１ａを開とする。

これにより、送風機５から送風されたエアは、上記の導入工程及び浸漬工程と同様に、第２の送風配管１２及び排気配管２０に供給されると共に、さらに第１の送風配管１１にも送風される。この第１の送風配管１１に送風されたエアは、第１のガス吹出ノズル４ａから槽体１内の貯留部１ｂよりも上方に送風され、第１のガス吸込ノズル４ｂで吸入される。

このように、開放部１ａには、第１のガス吹出ノズル４ａ及び第１のガス吸込ノズル４ｂによって形成されるエアカーテンと、第２のガス吹出ノズル５ａ及び第２のガス吸込ノズル５ｂによって形成されるエアカーテンの、計２組のエアカーテンが形成される。

これら第１，第２のガス吸込ノズル４ｂ，５ｂで吸引したエアは、第１，第２の吸気配管１３，１４を通ってガス流量計６に導入され、これら配管１３，１４から送風されたエアの総流量が測定されてから、送風機５の吸込口に送られる。

なお、上記の導入工程及び浸漬工程と同様、このガス流量計２１及び上記ガス流量計６の流量の測定値に基づいて、ガス流量制御弁２０ａの開度が制御される。

この際にも、このガス流量計２１の流量がガス流量計６の流量の０．１〜０．８倍、特に０．３〜０．７倍となるように制御されるのが好ましい。

この状態において、吊支部材３２ａを用い、被処理物３２を開放部１ａから槽体１外に抜き出す。

ここで、被処理物３２の抜出速度は０．２〜３０ｃｍ／ｓ、特に０．５〜１０ｃｍ／ｓであるのが好ましいが、第１，第２のガス吹出ノズル４ａ，５ａからのエアの送風量との関係で最適な抜出速度が決定される。

このように被処理物３２を抜き出すときに、先ず、第２のガス吹出ノズル５ａから吹き下ろされるエアによって、被処理物３２の図１における左側の面に残留する液３１が吹き飛ばされる。次いで、第１のガス吹出ノズル４ａから吹き下ろされるエアによって、被処理物３２の図１における右側の面に残留する液３１が吹き飛ばされる。これにより、被処理物３２の表面の全面に残留する液３１が十分に吹き飛ばされ、開放部１ａから抜き出した被処理物３２の表面には液３１が残留しない。従って、被処理物３２に残留した液３１からガスが気散することが確実に防止される。

上記実施の形態は本発明の一例であり、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。

例えば、上記実施の形態では、導入工程、浸漬工程及び抜出工程の全てにおいて、弁２ａを開としていたが、導入工程において弁２ａを開とし、貯留部１ｂ内に液３１を貯留した後、弁２ａを閉としてもよい。また、排出配管３から排出された液３１を液供給配管２に供給し、該液３１を循環させてもよい。この場合、排出配管３から排出された液３１を液供給配管２に供給する前に濾過して異物を除去したり、液にガスを溶解したりしてもよい。また、循環させる液３１の一部を系外に排出し、その分だけ未使用の液３１を供給してもよい。

排気配管２０及びこれに設けられたガス流量制御弁２０ａ、ガス流量計２１及びガス無害化装置２２を省略してもよい。

上記実施の形態では、ガス吹出ノズル及びガス吸込ノズルの組を２組設けたが、３組以上設けてもよい。例えば、図１において、さらに槽体１の側面のうち紙面の表面側に第３のガス吹出ノズルを設け、槽体１の側面のうち紙面の裏面側に第３のガス吸込ノズルを設けてもよい。それに加え、槽体１の側面のうち紙面の裏面側に第４のガス吹出ノズルを設け、槽体１の側面のうち紙面の表面側に第４のガス吸込ノズルを設けてもよい。

上記の実施の形態では、導入工程及び浸漬工程において弁１１ａを閉としていたが、導入工程及び浸漬工程の一方又は両方においても、抜出工程と同様、弁１１ａを開とし、貯留部１ｂの上方に２組のエアカーテンを形成させてもよい。

上記実施の形態では、第１，第２のガス吹出ノズル４ａ，５ａにエアを送風するための送風機と、第１，第２のガス吸込ノズル４ｂ，５ｂで槽体１内のエアを吸引するための送風機とを、１個の送風機５で兼用したが、図２の通り、送風用の送風機５と吸引用の送風機５Ａとを別個に設けてもよい。この場合、第１，第２のガス吸込ノズル４ｂ，５ｂから第１，第２のガス吸気配管１３，１４を通って吸引されたエアは、排気配管１５Ａで合流して吸引用の送風機５Ａの吸込口に導入され、さらにこの送風機５Ａの吹出口から、排気配管２０Ａ、ガス流量制御弁２０ａ、ガス流量計２１、ガス無害化装置２２を通って無害化されてから排出される。また、送風配管１０に設けられたガス流量計６Ａ及びガス流量計２１の測定値に基づき、ガス流量制御弁２０ａの開度が制御される。このとき、ガス流量計２１の流量がガス流量計６Ａの流量の１倍〜５倍、特に１．２〜４倍となるように制御するのが好ましい。

図２の場合にあっても、抜出工程において、上記実施の形態と同様、弁１１ａを開とすることにより、被処理物３２の表面に残留する液３１が、第１，第２のガス吹出ノズル４ａ，５ａによって十分に吹き飛ばされることになる。

但し、図２の処理装置では送風機が２個必要であるのに対し、図１の処理装置では送風機が１個でよく、設備コストが安くつき、設置スペースを小さくすることもできる。また、図２の処理装置では、ガス吸込ノズル４ｂ，５ｂから吸引したエアの総てを、循環使用することなく、無害化装置２２に導入して無害化してから排出している。これに対し、図１の処理装置では、ガス吸込ノズル４ｂ，５ｂから吸引したエアの一部を循環使用し、残部を無害化装置２２に導入して無害化してから排出しているため、無害化装置２２で処理するエア量が少なくなり、無害化装置２２の長寿命化が図られる。このため、図２の処理装置よりも、図１の処理装置を使用する方がより好ましい。

本発明では、液としてガス溶解水を用い、被処理物の洗浄を行うことができる。このような洗浄の具体例としては、基板表面の有機物を除去したり、基板表面を改質したりするためにオゾン洗浄する方法などが例示される。また、液として、アルコール類、ケトン類、酸、アルカリ、レジスト現像液及び過酸化水素水よりなる群から選択される少なくとも一種を用いてもよい。この場合の具体例としては、基板表面の脱脂処理などが例示される。

以下、実施例及び比較例を参照して、本発明をより詳細に説明する。

［実施例１］
図１の処理装置を用い、上記実施の形態の手順に従って導入工程、浸漬工程及び抜出工程を行い、被処理物の処理を行った。

ここで、液としては、放電式オゾナイザでオゾンガスを発生させ、該オゾンガスをオゾン溶解装置に導入して純水中に溶存させたオゾン水（オゾン濃度４０ｍｇ／Ｌ）を用いた。

また、装置及び被処理物の仕様ないし処理条件は以下の通りとした。

貯留部１ｂの容積：４０Ｌ
浸漬時間：５分間
貯留部１ｂ内への液体の供給流量：２０Ｌ／ｍｉｎ
ガス流量計６の流量：３００Ｌ／ｍｉｎ
ガス流量計２１の流量：ガス流量計６の流量の０．４倍
被処理物：有機汚染（有機物：クリーンルーム内での自然堆積物）したチタン板
無害化装置：容器内にニッケル触媒を充填したもの
導入工程、浸漬工程及び抜出工程を実施した後、被処理物を、純水を貯留したリンス槽まで移送し、該リンス槽内に浸漬した。

導入工程から被処理物をリンス槽に浸漬させる工程までにわたり、アプリクス社製環境オゾンモニター「ＯＺＧ−ＥＭ−０１」を用い、処理装置の外部の雰囲気中における環境オゾン濃度を測定した。その結果、全工程において、オゾン濃度は０．０ｐｐｍ（ｖ／ｖ）であった。

リンス槽内に被処理物を浸漬した後、リンス槽中の溶存オゾン濃度をアプリクス社製溶存オゾンモニター「ＯＭ−１０１Ｐ−１２０」を用いて測定した。その結果、溶存オゾン濃度は０ｍｇ／Ｌであった。

［比較例１］
抜出工程においても弁１１ａを閉のままにしたことの他は実施例１と同様にして、被処理物の処理を行った。

導入工程及び浸漬工程においては、処理装置の外部の雰囲気中における環境オゾン濃度は０．０ｐｐｍ（ｖ／ｖ）であった。しかしながら、被処理物を槽体１からリンス槽へ移送しているときにおいて、雰囲気中のオゾン濃度は２．２ｐｐｍ（ｖ／ｖ）であった。

また、リンス槽内に被処理物を浸漬した後におけるリンス槽中の溶存オゾン濃度は、１ｍｇ／Ｌであった。

［実施例２］
実施例１において、図１の処理装置に代え、図２の処理装置を用いた。また、ガス流量計６Ａ及びガス流量計２１の流量を以下の通りとした。

ガス流量計６の流量：３０００Ｌ／ｍｉｎ
ガス流量計２１の流量：ガス流量計６の流量の３倍
その他については実施例１と同様にして、実験を行った。

その結果、実施例１の場合と同様、導入工程から被処理物をリンス槽に浸漬させる工程にわたり、処理装置の外部の雰囲気中における環境オゾン濃度は０．０ｐｐｍ（ｖ／ｖ）であった。また、リンス槽内に被処理物を浸漬した後におけるリンス槽中の溶存オゾン濃度は０ｍｇ／Ｌであった。

しかしながら、実施例１の場合と比べ、無害化装置内の触媒の寿命が１／２以下であった。

実施例１，２と比較例１の比較から明らかな通り、実施例１，２によると、オゾン水中のオゾンが槽体１の外部に漏出することが十分に抑制された。また、抜出工程で被処理物を槽体１から抜き出したときに、被処理物に残留する液が十分に除去された。

実施の形態に係る処理方法を説明する図面である。 別の実施の形態に係る処理方法を説明する図面である。

１ 槽体
１ａ 開放部
１ｂ 貯留部
２ 液供給配管
３ 液排出配管
４ａ 第１のガス吹出ノズル
４ｂ 第１のガス吸込ノズル
５ 送風機
５ａ 第２のガス吹出ノズル
５ｂ 第２のガス吸込ノズル
１０ 送風配管
１１ 第１の送風配管
１２ 第２の送風配管
１３ 第１の吸気配管
１４ 第２の吸気配管
１５ 吸気配管
２０ 排気配管
２２ ガス無害化装置

Claims (7)

1. 被処理物が浸漬される液の貯留部を有した槽体を備え、該貯留部の上方に被処理物の出し入れ用の開放部を備えた浸漬型処理装置において、
   該開放部にガスカーテン設備を、前記被処理物出し入れ方向に配置位置を異ならせて多段に設けてなり、
   一部の該ガスカーテン設備のガスの吹出方向が他のガスカーテン設備のガスの吹出方向と反対方向となっている浸漬型処理装置を用いた被処理物の処理方法であって、
   前記開放部から前記貯留部内に前記被処理物を導入する導入工程と、
   該貯留部内の前記液に該被処理物を浸漬した状態を維持する浸漬工程と、
   該貯留部内の該被処理物を該開放部から該槽体外に抜き出す抜出工程と
   を有し、
   上記の全工程において、前記ガスカーテン設備の少なくとも一部を作動させ、
   該抜出工程において、吹出方向が互いに反対方向となっているガスカーテン設備を共に作動させることを特徴とする被処理物の処理方法。
2. 請求項１において、前記導入工程及び前記浸漬工程では、前記ガスカーテン設備のうち、吹出方向が同一方向となっているガスカーテン設備のみを作動させることを特徴とする被処理物の処理方法。
3. 請求項１又は２において、前記液は、オゾン、水素、酸素、窒素、アルゴン、二酸化炭素、アンモニア及び希ガスよりなる群から選択される少なくとも一種を水中に溶存させたガス溶解水であることを特徴とする被処理物の処理方法。
4. 請求項１又は２において、前記液は、アルコール類、ケトン類、酸、アルカリ、レジスト現像液及び過酸化水素水よりなる群から選択される少なくとも一種であることを特徴とする被処理物の処理方法。
5. 請求項１ないし４のいずれか１項において、前記ガスカーテン設備のガス吹出方向が斜め下向きであることを特徴とする被処理物の処理方法。
6. 請求項１ないし５のいずれか１項において、各ガスカーテン設備は、前記開放部にガスを吹き出すガス吹出手段と、該開放部からガスを吸い込むガス吸込手段とを有することを特徴とする被処理物の処理方法。
7. 請求項６において、前記ガス吹出手段からのガス吹出量が、前記ガス吸込手段からのガス吸込量よりも小さいことを特徴とする被処理物の処理方法。

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