JP2009040887A - 流動層ガス化方法及び設備 - Google Patents

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Abstract

【課題】高いガス化効率で原料をガス化することができ、且つガス化処理すべき温度が異なる原料を1つの流動層ガス化設備でガス化できるようにする。
【解決手段】チャーを燃焼させて流動媒体9を加熱する流動層燃焼炉1と、流動層燃焼炉1から導出される燃焼ガス6から流動媒体9を分離する分離器21と、分離器21で分離した流動媒体9を降下管23を介して導入すると共に原料31とガス化剤27を供給して流動層29により原料31をガス化する流動層ガス化炉2と、流動層ガス化炉2で原料31をガス化する際に生成したチャーと流動媒体とを流動層燃焼炉1に循環する供給流路と、を有する流動層ガス化方法であって、流動層ガス化炉2を複数のガス化装置22a,22bにより構成し、各ガス化装置22a,22bにおいて生成したガス化ガス32a,32bを別個に取り出すようにする。
【選択図】図1

Description

本発明は、原料を流動層によりガス化する流動層ガス化方法及び設備に関するものである。
石炭、バイオマス、汚泥等の原料をガス化するための流動層ガス化設備としては、流動層ガス化炉に高温の流動媒体と原料を導入すると共にガス化剤を供給して流動層を形成することにより原料のガス化を行い、生成したガス化ガスは外部に取り出し、一方、流動層ガス化炉でのガス化時に生成したチャーと流動媒体は流動層燃焼炉に供給してチャーを流動燃焼させることにより流動媒体を加熱し、加熱した流動媒体は排気ガスと分離して再び前記流動層ガス化炉に導入するようにした2塔式と呼ばれる流動層ガス化設備が既に提案されている(特許文献1等参照)。
図4、図5は2塔式の流動層ガス化設備の概略を示している。1は流動層燃焼炉であり、該流動層燃焼炉1は、流動層ガス化炉2において原料12のガス化により生成したチャーと流動媒体とを下部から導入すると共に、空気管3から風箱4等を介して空気を吹き出すことによりチャーを流動燃焼させて上昇流動する間に流動媒体を加熱するようにしている。
流動層燃焼炉1の上部にはサイクロンからなる分離器7が移送管5により接続されており、流動層燃焼炉1の上部から排出される燃焼ガス6は移送管5により分離器7に導入されて流動媒体と排気ガスとに遠心分離される。粒径が細かい灰分を含む排気ガス8は分離器7の上部に排出され、粒径の粗い未燃チャーを含む流動媒体9は、分離器7の下端に接続され降下管10に分離されて流動層ガス化炉2に導入される。ここで、図5では、流動層燃焼炉1に対して2個の分離器7,7'が接続してあり、各分離器7,7'で分離した流動媒体9を別個の降下管10により、流動層ガス化炉2内の流動層燃焼炉1に近く且つ左右の隅部(図5では上下の隅部)に導入するようにしている。この時、流動層燃焼炉1の燃焼ガス6を移送管5,5'により分離器7,7'に導く際には、燃焼ガス6中の流動媒体等の粒子が移送管5,5'に分離堆積して閉塞を起こす問題があるために、移送管5,5'の長さはできるだけ短くしており、このために分離器7,7'は流動層燃焼炉1に近い位置に配置され、従って降下管10により流動層ガス化炉2内の流動層燃焼炉1に近い位置に流動媒体9を導入するようにしている。
流動層ガス化炉2には、前記分離器7,7'からの加熱された流動媒体9が導入されると共に、原料供給装置11により石炭等の原料12が供給され、更に、流動層ガス化炉2の下部から水蒸気等のガス化剤13が風箱14等により供給されており、ガス化剤13によって形成される流動層15により原料12のガス化が行われる。石炭或いはバイオマス等の原料12を供給してガス化を行うと、水素(H)、一酸化炭素(CO)、メタン(CH)等のガス成分が混在したガス化ガス16が生成される。
流動層ガス化炉2内でガス化によって生成したガス化ガス16は取出口17から外部に取り出され、加圧して例えばガスタービン等に燃料として供給したり、精製装置に供給することによりガス化ガス16から所要目的の製品ガスを製造する。
流動層ガス化炉2でガス化されなかったチャーと流動媒体は、オーバーフロー管等からなる供給流路18により再び前記流動層燃焼炉1へ供給されて循環し、流動媒体はチャーの燃焼によって再度加熱される。
特開2005−41959号公報
しかし、従来の流動層ガス化設備においては、図4、図5に示したように、分離器7,7'で分離して流動層ガス化炉2に導入された流動媒体9を、流動層ガス化炉2の平面の隅々まで満遍なく巡るように移動させることが困難であるという問題があった。
即ち、図5に示すように、分離器7,7'から降下管10によって流動層ガス化炉2に導入された流動媒体9は、その導入位置から供給流路18に向かって最短経路19を通って移動するようになる。このため、流動層ガス化炉2内における降下管10から遠い側(図5では右側のハッチングを施した部分)には、流動媒体の移動が停滞するデッドスペース部分20が生じる。このデッドスペース部分20には高温の新たな流動媒体が供給されないばかりか原料12も移動され難いために、デッドスペース部分20の温度は低下してしまう。
従って、デッドスペース部分20では有効なガス化が行われず、流動層ガス化炉2のガス化容積が有効に活用されないために、流動層ガス化炉2のガス化能力が低く抑えられて、原料12の処理量、ガス化ガス16の発生量が減少してしまうという問題がある。
一方、原料には、石炭、石油残渣等のように高温で好適にガス化されて多くのガス化ガスを生成する原料と、ガス化時に低融点の灰が生成しこの低融点灰がガス化ガスと共に取り出されて配管及び機器等に付着する問題があるために低温でガス化することが好ましい原料とがあるが、従来、このようなガス化処理すべき温度が異なる原料を1つの流動層ガス化設備で同時にガス化するようなことはできなかった。
本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなしたもので、高いガス化効率で原料をガス化することができ、且つガス化処理すべき温度が異なる原料を1つの流動層ガス化設備でガス化できるようにした流動層ガス化方法及び設備を提供することを目的とする。
本発明は、チャーを燃焼させて流動媒体を加熱する流動層燃焼炉と、
流動層燃焼炉から導出される燃焼ガスから流動媒体を分離する分離器と、
分離器で分離した流動媒体を降下管を介して導入すると共に原料とガス化剤を供給して流動層により原料をガス化する流動層ガス化炉と、
流動層ガス化炉で原料をガス化する際に生成したチャーと流動媒体とを流動層燃焼炉に循環する供給流路と、を有する流動層ガス化方法であって、
流動層ガス化炉を複数のガス化装置により構成し、各ガス化装置において生成したガス化ガスを別個に取り出すようにしたことを特徴とする流動層ガス化方法、に係るものである。
上記流動層ガス化方法において、各ガス化装置の温度を原料のガス化に適したガス化温度に保持するようにした温度変化手段を備え、高温で好適にガス化できる原料と、ガス化時に低融点の灰が生成する原料とを、対応するガス化温度に保持したガス化装置に供給して同時にガス化することは好ましい。
本発明は、チャーを燃焼させて流動媒体を加熱する流動層燃焼炉と、
流動層燃焼炉から導出される燃焼ガスから流動媒体を分離する分離器と、
分離器で分離した流動媒体を降下管を介して導入すると共に原料とガス化剤を供給して流動層により原料をガス化する流動層ガス化炉と、
流動層ガス化炉で原料をガス化する際に生成したチャーと流動媒体とを流動層燃焼炉に循環する供給流路と、を有する流動層ガス化設備であって、
分離器からの流動媒体を流動化して原料のガス化を行うようにした複数のガス化装置を備え、各ガス化装置において生成するガス化ガスを取り出すための取出口を各ガス化装置に備えたことを特徴とする流動層ガス化設備、に係るものである。
上記流動層ガス化設備において、平面的に見て複数のガス化装置がラップするように上下に配置されることは好ましい。
又、上記流動層ガス化設備において、複数のガス化装置に原料供給装置を備えることは好ましい。
又、上記流動層ガス化設備において、各ガス化装置の温度を原料のガス化に適したガス化温度に保持する温度変化手段を有することは好ましい。
又、上記流動層ガス化設備において、温度変化手段は、分離器で分離した流動媒体を分岐して各ガス化装置に導く分岐装置であってもよい。
又、上記流動層ガス化設備において、温度変化手段は、燃焼ガスの取り入れ量を調整した燃焼ガスから流動媒体を分離し、分離した流動媒体を各ガス化装置に導く複数の分離器であってもよい。
又、上記流動層ガス化設備において、温度変化手段は、各ガス化装置が上下方向に多段に接続され、上段のガス化装置の流動媒体がオーバーフロー管により下段のガス化装置に流下するようにしてあり、上段のガス化装置の温度に対して下段のガス化装置の温度が低いことからなっていてもよい。
本発明の流動層ガス化方法及び設備によれば、流動層ガス化炉を複数のガス化装置で構成し、各ガス化装置からガス化ガスを取り出すようにしたので、各ガス化装置が小容積化されることにより流動媒体が各ガス化装置の隅々まで移動するようになって流動媒体が停滞するデッドスペース部分の発生を防止することができ、よって、ガス化装置の容積が有効に活用されて流動層ガス化炉のガス化能力が高められ、原料の処理量、ガス化ガスの生成量を大幅に増加できるという優れた効果を奏し得る。
更に、温度変化手段にて各ガス化装置の温度を原料のガス化に適したガス化温度に保持することにより、高温で好適にガス化できる原料と、ガス化時に低融点の灰が生成する原料とを1つの流動層ガス化設備で同時にガス化できる効果がある。
各ガス化装置を上下に配置することによって、流動層ガス化炉の設置スペースを大幅に小さくできる効果がある。
以下、本発明の実施の形態を添付図面を参照して説明する。
図1は本発明の形態の一例を示すものであり、流動層燃焼炉1と、該流動層燃焼炉1から排出される燃焼ガス6を移送管35を介して導入し排気ガス8と流動媒体9とに分離する1つの分離器21とを備えた流動層ガス化設備において、流動層ガス化炉2を複数のガス化装置22a,22bにより構成している。ここで、各ガス化装置22a,22bは、流動層燃焼炉1と流動層ガス化炉2とが熱バランスした状態において、1つの流動層ガス化炉2で原料を良好にガス化するのに必要なガス化容積を複数に分割した容積としている。図1では2つのガス化装置22a,22bによって流動層ガス化炉2を構成した場合について示したが、3つ以上のガス化装置によって構成するようにしてもよい。
前記分離器21の降下管23には、流動媒体9を分岐する分岐装置24からなる温度変化手段25が設けてあり、前記分岐装置24で分岐量を調節した流動媒体9を分岐管26a,26bにて各ガス化装置22a,22bに供給することにより、各ガス化装置22a,22bを必要温度に保持できるようにしている。ここで、分岐装置24により例えばガス化装置22aに供給する流動媒体9の供給量を増加するとガス化装置22aの温度は高められ、ガス化装置22bに供給する流動媒体9の供給量を減少するとガス化装置22bの温度は低下される。
各ガス化装置22a,22bには、水蒸気等のガス化剤27を風箱28等により供給して流動層29を形成するようにしてあり、又、原料供給装置30a,30bにより原料31a,31bを供給することにより、各ガス化装置22a,22bにおいて原料31a,31bのガス化を行うようにしている。この時、原料供給装置30a,30bによって各ガス化装置22a,22bに供給する原料31a,31bは同一の原料であってもよく、又は各ガス化装置22a,22bに対して異なる原料を供給するようにしてもよい。又、各ガス化装置22a,22bに供給するガス化剤27も同一のものを用いても或いは異なったガス化剤を用いてもよい。
各ガス化装置22a,22b内でのガス化によって生成したガス化ガス32a,32bは、各ガス化装置22a,22bに設けられた取出口33から別個に取り出すようにしている。又、各ガス化装置22a,22bでガス化されなかったチャーと流動媒体は、オーバーフロー管等からなる供給流路34a,34bにより再び前記流動層燃焼炉1へ供給されて循環されるようになっている。
図2は、温度変化手段25の他の例を示したもので、この例では複数備えた分離器21a,21bを移送管35a,35bにより流動層燃焼炉1に接続すると共に、各分離器21a,21bで分離した流動媒体9を降下管36a,36bにより各ガス化装置22a,22bに導入するようにしている。そして、前記移送管35a,35bの少なくとも一方にダンパ等の流量調節器37を設置する、或いは、移送管35a,35bの断面積を設定することにより構成した温度変化手段25によって、各ガス化装置22a,22bに供給する流動媒体9の流量を調整することにより、各ガス化装置22a,22bの温度を所定の温度に保持できるようにしている。
次に、上記図1、図2に示した形態の作動を説明する。
流動層ガス化炉2を複数のガス化装置22a,22bで構成し、各ガス化装置22a,22bに降下管36a,36bを介して流動媒体9を導入すると共に、水蒸気等のガス化剤27と、原料31a,31bとを供給すると、原料31a,31bが流動層29によってガス化され、各ガス化装置22a,22bで生成したガス化ガス32a,32bは夫々の取出口33から取り出される。
上記したように、流動層ガス化炉2による原料のガス化に必要なガス化容積を複数に分割した小容積のガス化装置22a,22bを備えたことにより、各ガス化装置22a,22bに導入された流動媒体9は各ガス化装置22a,22bの隅々まで移動されるようになり、流動媒体が停滞したデッドスペース部分の発生を防止することができる。このため、各ガス化装置22a,22bの容積が有効に活用されることにより流動層ガス化炉2のガス化能力が高められ、よって原料31a,31bの処理量、ガス化ガス32a,32bの生成量を増加することができる。
又、前記したように小容積に形成された各ガス化装置22a,22bは、図1、図2に示すように平面的に見て相互にラップするように上下に積み重ねるように配置することにより、流動層ガス化炉2の設置スペースを小さくすることができる。
更に、図1、図2に示した温度変化手段25によって各ガス化装置22a,22bに供給する流動媒体9の供給量を調整して、各ガス化装置22a,22bの温度を調整することにより、原料供給装置30a,30bによって異なる原料31a,31bを各ガス化装置22a,22bに供給して同時にガス化することができる。例えば800℃〜900℃の温度に保持されたガス化装置22aには、その温度で良好なガス化が行われて多くのガス化ガス32aを生成する石炭、石油残渣等の高炭素含有の原料31aを供給し、他方、600℃〜700℃の温度に保持されたガス化装置22bには、前記800℃〜900℃の温度ではガス化時に低融点の灰が生成されてしまうバイオマス、籾がら、稲わら、下水汚泥等の低炭素含有の原料31bを供給するようにして、高温で好適にガス化できる原料31aとガス化時に低融点の灰が生成する原料31bとを1つの流動層ガス化設備で同時にガス化することができる。
例えば600℃〜700℃に保持したガス化装置22bにおいて低炭素含有の原料31bをガス化すると、ガス化装置22bで低融点の灰が生成する問題が防止され、よって低融点灰がガス化ガス32bと共に取り出されて配管及び機器等に付着する問題は回避される。一方、上記低融点灰は、流動媒体及びチャーに付着して流動層燃焼炉1に供給されるが、流動層燃焼炉1では例えば1000℃〜1100℃の高温で燃焼されるため、低融点の灰はベイパーとなって排気ガス8と共に排出される。
図3は本発明の形態の他の例を示すものであり、この例では流動層ガス化炉2を、複数のガス化装置22a,22b,22c,22dにより構成し、各ガス化装置22a,22b,22c,22dをオーバーフロー管38により上下方向に直列に多段に接続している。各ガス化装置22a,22b,22c,22dには、水蒸気等のガス化剤27が風箱28等により供給されて流動層29を形成している。最上段のガス化装置22aには分離器21からの流動媒体9を供給すると共に、原料供給装置30により原料31が供給されており、供給された前記流動媒体9は、堰板39を乗り越えてオーバーフロー管38により下段のガス化装置22bに流下し、この時、オーバーフロー管38の下部が下段のガス化装置22bの流動層29内に没入した挿入板40を備えていることにより、流動媒体9はオーバーフロー管38の内部を満たした状態を保持して下段のガス化装置22bに供給されるようになっている。ガス化装置22bよりも更に下段のガス化装置22c,22dについても同様に構成されている。
図3では、最上段のガス化装置22aに供給された原料31aは、分離器21から降下管23により導入される流動媒体9とガス化剤27の作用によってガス化され、生成したガス化ガス32aはガス化装置22aの取出口33から取り出され、又、流動媒体とチャーは堰板39を乗り越えてオーバーフロー管38により下段のガス化装置22bに供給され、下段のガス化装置22bでチャーがガス化されることにより生成したガス化ガス32bはガス化装置22bの取出口33から取り出され、このようにして順次下段に送られてガス化され、最下段のガス化装置22dでガス化されなかったチャーと流動媒体は供給流路34により流動層燃焼炉1に供給される。
上記において、最上段のガス化装置22aに導入される流動媒体9は、原料供給装置30から供給される原料31による冷却を受け、更にオーバーフロー管38を流下する間に外部からの冷却を受けるために、流動媒体9は下段に流下するに従って温度が低下する。このように、上段のガス化装置の温度に対して下段のガス化装置の温度が低くなることによって温度変化手段25を形成している。
図3の形態によれば、流動層ガス化炉2による原料のガス化に必要なガス化容積を複数に分割した小容積のガス化装置22a,22b,22c,22dを備えたことにより、各ガス化装置22a,22b,22c,22dに導入された流動媒体9は各ガス化装置22a,22b,22c,22dの隅々まで移動されるようになり、流動媒体が停滞したデッドスペース部分の発生を防止することができる。このため、各ガス化装置22a,22b,22c,22dの容積が有効に活用されることにより流動層ガス化炉2のガス化能力が高められ、よって原料31の処理量、ガス化ガス32a,32b,32c,32dの生成量を増加することができる。
又、複数のガス化装置22a,22b,22c,22dを上下方向に直列に多段に接続した構成としたので、流動層ガス化炉2の設置スペースを著しく小さなものとすることができる。
更に、上段のガス化装置の温度に対して下段のガス化装置の温度が低いことによって温度変化手段25を形成しているので、分離器21からの流動媒体9によって例えば800℃〜900℃の温度に保持された最上段のガス化装置22aに対しては、上記温度で良好なガス化が行われて多くのガス化ガス32aを生成することができる石炭、石油残渣等の高炭素含有の原料31aを供給し、また、600℃〜700℃の温度に低下した下段のガス化装置22bには、前記800℃〜900℃の温度ではガス化時に低融点の灰が生成されてしまうバイオマス、籾がら、稲わら、下水汚泥等の低炭素含有の原料31bを供給することにより、高温で好適にガス化できる原料31aとガス化時に低融点の灰が生成する原料31bとを同時にガス化することができる。
ここで、図3では、2段目のガス化装置22bに低炭素含有の原料31bを供給しているが、低炭素含有の原料31bは、該低炭素含有の原料31bをガス化するのに適した温度である600℃〜700℃の温度に低下している下段のいずれかのガス化装置を選定して供給することができる。又、図3中破線で示すように、前記分離器21の降下管23に流動媒体9を分岐して供給する分岐装置24を設けて、該分岐装置24で分岐した流動媒体9を分岐管26,26bにより最上段のガス化装置22aと下段の任意のガス化装置に供給するようにして、下段のガス化装置の温度が、前記低炭素含有の原料31bを供給してガス化するのに適した温度になるように調整してもよい。
なお、本発明の流動層ガス化方法及び設備は、上記形態にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
本発明の形態の一例を示す概略側面図である。 図1の形態の変更例を示す概略側面図である。 本発明の形態の他の例を示す概略側面図である。 2塔式の流動層ガス化設備の概略側面図である。 図4の切断平面図である。
符号の説明
1 流動層燃焼炉
2 流動層ガス化炉
8 燃焼ガス
9 流動媒体
21,21a,21b 分離器
22a,22b,22c,22d ガス化装置
23 降下管
24 分岐装置
25 温度変化手段
27 ガス化剤
29 流動層
30,30a,30b 原料供給装置
31,31a,31b 原料
32a,32b,32c,32d ガス化ガス
33 取出口
34,34a,34b 供給流路
36a,36b 降下管
38 オーバーフロー管

Claims (9)

  1. チャーを燃焼させて流動媒体を加熱する流動層燃焼炉と、
    流動層燃焼炉から導出される燃焼ガスから流動媒体を分離する分離器と、
    分離器で分離した流動媒体を降下管を介して導入すると共に原料とガス化剤を供給して流動層により原料をガス化する流動層ガス化炉と、
    流動層ガス化炉で原料をガス化する際に生成したチャーと流動媒体とを流動層燃焼炉に循環する供給流路と、を有する流動層ガス化方法であって、
    流動層ガス化炉を複数のガス化装置により構成し、各ガス化装置において生成したガス化ガスを別個に取り出すようにしたことを特徴とする流動層ガス化方法。
  2. 各ガス化装置の温度を原料のガス化に適したガス化温度に保持するようにした温度変化手段を備え、高温で好適にガス化できる原料と、ガス化時に低融点の灰が生成する原料とを、対応するガス化温度に保持したガス化装置に供給して同時にガス化する請求項1に記載の流動層ガス化方法。
  3. チャーを燃焼させて流動媒体を加熱する流動層燃焼炉と、
    流動層燃焼炉から導出される燃焼ガスから流動媒体を分離する分離器と、
    分離器で分離した流動媒体を降下管を介して導入すると共に原料とガス化剤を供給して流動層により原料をガス化する流動層ガス化炉と、
    流動層ガス化炉で原料をガス化する際に生成したチャーと流動媒体とを流動層燃焼炉に循環する供給流路と、を有する流動層ガス化設備であって、
    分離器からの流動媒体を流動化して原料のガス化を行うようにした複数のガス化装置を備え、各ガス化装置において生成するガス化ガスを取り出すための取出口を各ガス化装置に備えたことを特徴とする流動層ガス化設備。
  4. 平面的に見て複数のガス化装置がラップするように上下に配置された請求項3に記載の流動層ガス化設備。
  5. 複数のガス化装置に原料供給装置を備えた請求項3又は4に記載の流動層ガス化設備。
  6. 各ガス化装置の温度を原料のガス化に適したガス化温度に保持する温度変化手段を有する請求項3〜5のいずれか1つに記載の流動層ガス化設備。
  7. 温度変化手段は、分離器で分離した流動媒体を分岐して各ガス化装置に導く分岐装置である請求項6に記載の流動層ガス化設備。
  8. 温度変化手段は、燃焼ガスの取り入れ量を調整した燃焼ガスから流動媒体を分離し、分離した流動媒体を各ガス化装置に導く複数の分離器である請求項6に記載の流動層ガス化設備。
  9. 温度変化手段は、各ガス化装置が上下方向に多段に接続され、上段のガス化装置の流動媒体がオーバーフロー管により下段のガス化装置に流下するようにしてあり、上段のガス化装置の温度に対して下段のガス化装置の温度が低いことからなる請求項6に記載の流動層ガス化設備。
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