JP2011094078A - 循環流動層式ガス化装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガス化炉2内部における他側に、上端が流動層1上面より高く位置し且つ下端と前記散気板11との間に出口側連通路14を有する出口側仕切板15を配設して出口空間16を画成し、前記出口側仕切板15に、該出口側仕切板15の反出口空間16側近傍で生じる流動媒体の下降流をガス化炉流動用ガスを噴射することにより抑制する噴射ノズル17を配設する。
【選択図】図1
Description
前記ガス化炉の一側に接続され且つ前記原料をガス化炉に投入する原料投入管と、
前記ガス化炉の一側に接続され且つ前記媒体分離装置で分離された流動媒体をガス化炉に戻す媒体流下管と、
前記ガス化炉の他側に接続され且つ前記ガス化炉内部の流動媒体及び可燃性固形分を抜き出して前記燃焼炉へ導入する抜出ループシール管と、
前記ガス化炉内底部に設置され且つガス化炉流動用ガスをガス化炉内部へ吹き込んで流動層を形成する散気板と、
上端が流動層上面より高く位置し且つ下端と前記散気板との間に出口側連通路を有するようガス化炉内部における他側に配設されて出口空間を画成する出口側仕切板と、
該出口側仕切板の反出口空間側近傍で生じる流動媒体の下降流をガス化炉流動用ガスを噴射することにより抑制するよう前記出口側仕切板に配設される噴射ノズルと
を備えたことを特徴とする循環流動層式ガス化装置にかかるものである。
2 ガス化炉
3 抜出ループシール管
4 流動層
5 燃焼炉
7 媒体流下管
8 媒体分離装置
9 原料投入管
14 出口側連通路
15 出口側仕切板
16 出口空間
17 噴射ノズル
18 入口側連通路
19 入口側仕切板
20 入口空間
Claims (2)
- ガス化炉流動用ガスにより流動媒体の流動層を形成して投入される原料のガス化を行いガス化ガスと可燃性固形分とを生成するガス化炉と、該ガス化炉で生成された可燃性固形分が流動媒体と共に導入され且つ燃焼炉流動用ガスにより流動層を形成して前記可燃性固形分の燃焼を行う燃焼炉と、該燃焼炉の燃焼排ガスから流動媒体を分離し該分離した流動媒体を前記ガス化炉に戻す媒体分離装置とを備えた循環流動層式ガス化装置において、
前記ガス化炉の一側に接続され且つ前記原料をガス化炉に投入する原料投入管と、
前記ガス化炉の一側に接続され且つ前記媒体分離装置で分離された流動媒体をガス化炉に戻す媒体流下管と、
前記ガス化炉の他側に接続され且つ前記ガス化炉内部の流動媒体及び可燃性固形分を抜き出して前記燃焼炉へ導入する抜出ループシール管と、
前記ガス化炉内底部に設置され且つガス化炉流動用ガスをガス化炉内部へ吹き込んで流動層を形成する散気板と、
上端が流動層上面より高く位置し且つ下端と前記散気板との間に出口側連通路を有するようガス化炉内部における他側に配設されて出口空間を画成する出口側仕切板と、
該出口側仕切板の反出口空間側近傍で生じる流動媒体の下降流をガス化炉流動用ガスを噴射することにより抑制するよう前記出口側仕切板に配設される噴射ノズルと
を備えたことを特徴とする循環流動層式ガス化装置。 - 前記ガス化炉内部における一側に、上端が流動層上面より高く位置し且つ下端と前記散気板との間に入口側連通路を有する入口側仕切板を配設して入口空間を画成し、該入口空間上部に、前記原料投入管からの原料と前記媒体流下管からの流動媒体とを投入するよう構成した請求項1記載の循環流動層式ガス化装置。
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2009
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