JP2011084589A - 循環流動層式円筒胴ガス化方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】竪型円筒胴としたガス化炉2の内部に上下複数段のガス化反応流動層部14,15を形成し、ガス化反応流動層部14の中心部に原料と流動媒体とを導入し、原料と流動媒体がガス化反応流動層部14,15を順次通過しつつ流下していくようにし、ガス化反応流動層部15の中心部から流動媒体と可燃性固形分を抜き出して燃焼炉5へ導入する。
【選択図】図1
Description
前記竪型の円筒胴としたガス化炉の内部に上下複数段のガス化反応流動層部を形成し、最上段に位置するガス化反応流動層部の中心部に対し、原料と前記媒体分離装置で分離された流動媒体とを導入し、該原料及び流動媒体が各ガス化反応流動層部を順次通過しつつ流下していくようにし、最下段に位置するガス化反応流動層部の中心部から前記流動媒体及び可燃性固形分を抜き出して燃焼炉へ導入することを特徴とする循環流動層式円筒胴ガス化方法にかかるものである。
前記竪型の円筒胴としたガス化炉の内部に形成され且つ前記原料及び流動媒体が順次通過しつつ流下していくようにした上下複数段のガス化反応流動層部と、
該上下複数段のガス化反応流動層部のうち最上段に位置するガス化反応流動層部の中心部に対し前記媒体分離装置で分離された流動媒体を戻す媒体流下管と、
前記最上段に位置するガス化反応流動層部の媒体流下管の外周部に対し前記原料を投入する原料投入管と、
最下段に位置するガス化反応流動層部の中心部から流動媒体及び可燃性固形分を抜き出して前記燃焼炉へ導入する抜出管と
を備えたことを特徴とする循環流動層式円筒胴ガス化装置にかかるものである。
上端が開放されて前記原料投入管から原料が投入され且つ下端が閉塞された分配円筒体と、
該分配円筒体の中心部に配置される中央分配部材と、
該中央分配部材が配置された分配円筒体の内部にその円周方向へ仕切板によって複数分割され且つ前記分配円筒体の円周方向へ互いに180°位相が異なるよう形成される導入室及び排出室と、
前記中央分配部材に穿設され且つ前記導入室の原料を180°位相の異なる側の排出室へ導く連通孔と、
前記分配円筒体の排出室下端に基端が接続され且つ先端が前記最上段に位置するガス化反応流動層部の媒体流下管の外周部上方周方向均等箇所に延びる複数本の分配投入管と
を備え、
前記原料投入管から分配円筒体の円周方向所要範囲に隣接する導入室と排出室に投入される原料を、該排出室に接続された分配投入管からそのまま前記最上段に位置するガス化反応流動層部の媒体流下管の外周部上方に投入すると共に、前記導入室に連通孔を介して連通される180°位相の異なる側の排出室に接続された分配投入管から前記最上段に位置するガス化反応流動層部の媒体流下管の外周部上方に投入するよう構成することができる。
2 ガス化炉
4 流動層
5 燃焼炉
7 媒体流下管
8 媒体分離装置
9 原料投入管
14 ガス化反応流動層部
14a 外筒堰
14b 外側内筒仕切
14c 内側内筒仕切
15 ガス化反応流動層部
15c 内筒仕切
16 原料投入筒体
17 抜出管
18 円筒シール部材
19 原料分配器
20 分配円筒体
21 中央分配部材
21a 連通孔
21b 連通孔
21c 連通孔
21d 連通孔
22 仕切板
23a 導入室
23b 導入室
23c 導入室
23d 導入室
24a 排出室
24b 排出室
24c 排出室
24d 排出室
25a 分配投入管
25b 分配投入管
25c 分配投入管
25d 分配投入管
Claims (5)
- 竪型の円筒胴としたガス化炉でガス化炉流動用ガスにより流動媒体の流動層を形成して投入される原料のガス化を行いガス化ガスと可燃性固形分とを生成し、該ガス化炉で生成されたガス化ガスを取り出す一方、前記ガス化炉で生成された可燃性固形分を流動媒体と共に燃焼炉へ導入し且つ該燃焼炉で燃焼炉流動用ガスにより流動層を形成して前記可燃性固形分の燃焼を行いつつ該燃焼炉の燃焼排ガスから媒体分離装置で流動媒体を分離し該分離した流動媒体を前記ガス化炉に戻す循環流動層式円筒胴ガス化方法であって、
前記竪型の円筒胴としたガス化炉の内部に上下複数段のガス化反応流動層部を形成し、最上段に位置するガス化反応流動層部の中心部に対し、原料と前記媒体分離装置で分離された流動媒体とを導入し、該原料及び流動媒体が各ガス化反応流動層部を順次通過しつつ流下していくようにし、最下段に位置するガス化反応流動層部の中心部から前記流動媒体及び可燃性固形分を抜き出して燃焼炉へ導入することを特徴とする循環流動層式円筒胴ガス化方法。 - ガス化炉流動用ガスにより流動媒体の流動層を形成して投入される原料のガス化を行いガス化ガスと可燃性固形分とを生成する竪型の円筒胴としたガス化炉と、該ガス化炉で生成された可燃性固形分が流動媒体と共に導入され且つ燃焼炉流動用ガスにより流動層を形成して前記可燃性固形分の燃焼を行う燃焼炉と、該燃焼炉の燃焼排ガスから流動媒体を分離し該分離した流動媒体を前記ガス化炉に戻す媒体分離装置とを備えた循環流動層式円筒胴ガス化装置であって、
前記竪型の円筒胴としたガス化炉の内部に形成され且つ前記原料及び流動媒体が順次通過しつつ流下していくようにした上下複数段のガス化反応流動層部と、
該上下複数段のガス化反応流動層部のうち最上段に位置するガス化反応流動層部の中心部に対し前記媒体分離装置で分離された流動媒体を戻す媒体流下管と、
前記最上段に位置するガス化反応流動層部の媒体流下管の外周部に対し前記原料を投入する原料投入管と、
最下段に位置するガス化反応流動層部の中心部から流動媒体及び可燃性固形分を抜き出して前記燃焼炉へ導入する抜出管と
を備えたことを特徴とする循環流動層式円筒胴ガス化装置。 - 前記原料投入管に、前記最上段に位置するガス化反応流動層部の媒体流下管の外周部における円周方向へ原料を均一に分配投入する原料分配器を設けた請求項2記載の循環流動層式円筒胴ガス化装置。
- 前記原料分配器は、
上端が開放されて前記原料投入管から原料が投入され且つ下端が閉塞された分配円筒体と、
該分配円筒体の中心部に配置される中央分配部材と、
該中央分配部材が配置された分配円筒体の内部にその円周方向へ仕切板によって複数分割され且つ前記分配円筒体の円周方向へ互いに180°位相が異なるよう形成される導入室及び排出室と、
前記中央分配部材に穿設され且つ前記導入室の原料を180°位相の異なる側の排出室へ導く連通孔と、
前記分配円筒体の排出室下端に基端が接続され且つ先端が前記最上段に位置するガス化反応流動層部の媒体流下管の外周部上方周方向均等箇所に延びる複数本の分配投入管と
を備え、
前記原料投入管から分配円筒体の円周方向所要範囲に隣接する導入室と排出室に投入される原料を、該排出室に接続された分配投入管からそのまま前記最上段に位置するガス化反応流動層部の媒体流下管の外周部上方に投入すると共に、前記導入室に連通孔を介して連通される180°位相の異なる側の排出室に接続された分配投入管から前記最上段に位置するガス化反応流動層部の媒体流下管の外周部上方に投入するよう構成した請求項3記載の循環流動層式円筒胴ガス化装置。 - 前記最下段に位置するガス化反応流動層部の中心部に、上端を閉塞した円筒シール部材を、前記抜出管の上方及び外周を覆うように配設した請求項2〜4のいずれか一つに記載の循環流動層式円筒胴ガス化装置。
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JP2013006964A (ja) * | 2011-06-24 | 2013-01-10 | Ihi Corp | ガス化ガス生成装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0754666A (ja) * | 1993-08-09 | 1995-02-28 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 石炭ガス化発電装置 |
JP2006213817A (ja) * | 2005-02-03 | 2006-08-17 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 流動層ガス化ガス精製方法及び精製装置 |
JP2009040887A (ja) * | 2007-08-09 | 2009-02-26 | Ihi Corp | 流動層ガス化方法及び設備 |
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2009
- 2009-10-13 JP JP2009235892A patent/JP5581646B2/ja not_active Expired - Fee Related
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