JP2009040725A - N,n−ジメチルシクロヘキシルアミンの製造法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ホルムアルデヒドを含有する粗製N,N−ジメチルアニリン(例えば、ホルムアルデヒド誘導体とアニリンを還元触媒及び水素存在下で反応させて得られる反応液)を、2級アミン、還元触媒、及び水素の存在下で核水添反応する。
【選択図】 なし
Description
(1)N、N−ジメチルアミン、N、N−ジエチルアミン、N、N−ジエタノールアミン、N、N−ジプロピルルアミン、N、N−ジブチルアミン、N、N−ジペンチルアミン、N、N−ジオクチルアミン、N、N−ジドデシルアミン、N−エチル−N−メチルアミン、N−メチル−N−プロピルアミン、N−ブチル−N−メチルアミン、N−メチル−N−ペンチルアミン、N−ヘキシル−N−メチルアミン、N−メチル−N−オクタデシルアミン、N−エチル−N−ブチルアミン、N−エチル−N−ヘキシルアミン、(N−ブチルアミノ)アセトニトリル等の直鎖状ジアルキルアミン類、
(2)N、N−ジイソプロピルアミン、N、N−ジイソブチルアミン、N、N−ジ−Sec−ブチルアミン、N−tert−ブチル−N−メチルアミン、2−(tert−ブチルアミノ)エタノール等の分岐状ジアルキルアミン類、
(3)N,N−ジシクロヘキシルアミン、N−メチル−N−シクロヘキシルアミン、N−エチル−N−シクロヘキシルアミン、N−tert−ブチル−N−シクロヘキシルアミン、N−プロピルシクロプロパンメチルアミン、ピロリジン、3−ピロリジノール、2−ピロリジンメタノール、(2−ピロリジニルメチル)ピロリジン、プロリンアミド、ピペリジン、2−メチルピペリジン、3−メチルピペリジン、4−メチルピペリジン、2,6−ジメチルピペリジン、2−エチルピペリジン、2,3−ジメチルピペリジン、3,5−ジメチルピペリジン、4−(1−ピロリジニル)ピペリジン、4−(アミノメチル)ピペリジン、モルホリン、テトラヒドロキノリン、ピペラジン、1−メチルピペラジン、2−メチルピペラジン、1−エチルピペラジン、2−メチルピペラジン、ヘキサメチレンイミン、ホモピペラジン、N−メチルホモピペラジン等の脂環式アミン類、
(4)N−プロピル−エチレンジアミン、N−プロピル−1,3−プロパンジアミン等のN−アルキルアミノ直鎖状ジアミン類、
(5)ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタメチレンヘキサミン、ヘキサミチレンヘプタミン、ヘプタメチレンオクタミン等のポリエチレンポリアミン類、2−(アミノメチル)ピロリジン、N−アミノエチルピペラジン等のN−アルキルアミノ脂環式ジアミン類、
(6)N−メチルフェニルエチルアミン、N−メチル−N−ホモベラトリアルアミン等の芳香族アルキルアミン類等が挙げられる。
非特許文献1に記載の方法を参考に、アニリンから還元メチル化反応により粗製N,N−ジメチルアニリンを合成した。
得られた反応液についてガスクロマトグラフィー分析を行った結果、N,N−ジメチルアニリンを収率66%、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミンを収率5%でそれぞれ得たことを確認した。また、反応液中のホルムアルデヒド濃度は、GCMS−SIM分析の結果、350ppmであることが判明した。
1000mLの攪拌機付きオートクレーブにアニリン130.0g(1.40mol)、メタノール226.2g、及び活性炭にパラジウムが5wt%担持されたパラジウム触媒13.0g(デグサ社製、57%含水品)を仕込んだ。参考例1と同様の条件下、オートクレーブ内に37wt%ホルムアルデヒド水溶液226.2g(2.79mol)を10時間かけてポンプで供給し、更に3時間加熱撹拌したところ、水素吸収がなくなったので反応を終了し、冷却、脱圧後、反応液を濾過してパラジウム触媒を除去した。
200mLの攪拌器付きオートクレーブに、調製例1に記載の方法に準じて得られた反応液157.2g(N,N−ジメチルアニリン4.3g、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン0.3g、及びホルムアルデヒド55mgをそれぞれ含有する。)、活性炭にパラジウムが5wt%担持されたパラジウム触媒0.5g(デグサ社製、57%含水品)、及びピペラジン0.7g(ピペラジン添加量=N,N−ジメチルアニリンとN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンとの合計量に対して20mol%、ホルムアルデヒドに対して9倍当量。)を仕込んだ。オートクレーブを密閉し、窒素置換及び水素置換後、水素圧を0.4MPaまで昇圧して、撹拌条件下で150℃まで昇温した。密閉状態で水素加圧条件下、3時間加熱撹拌して反応を終了したところ、水素吸収がなくなったので反応を終了し、冷却、脱圧後、反応液を濾過してパラジウム触媒を除去した。
200mLの攪拌器付きオートクレーブに、調製例2に記載の方法に準じて得られた反応液80.0g(N,N−ジメチルアニリン11.0g、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン0.6g、及びホルムアルデヒド28mgをそれぞれ含有する。)、活性炭にパラジウムが5wt%担持されたパラジウム触媒1.0g(デグサ社製、57%含水品)、及びピペラジン1.6g(ピペラジン添加量=N,N−ジメチルアニリンとN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンとの合計量に対して20mol%、ホルムアルデヒドに対して40倍当量。)を仕込んだ。オートクレーブを密閉し、窒素置換及び水素置換後、水素圧を0.4MPaまで昇圧して、撹拌条件下で150℃まで昇温した。密閉状態で水素加圧条件下、3時間加熱撹拌したところ、水素吸収がなくなったので反応を終了し、冷却、脱圧後、反応液を濾過してパラジウム触媒を除去した。
200mLの攪拌器付きオートクレーブに、実施例2と同様に、調製例2に記載の方法に準じて得られた反応液80.0g(N,N−ジメチルアニリン11.0g、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン0.6g、及びホルムアルデヒド28mgをそれぞれ含有する。)、活性炭にパラジウムが5wt%担持されたパラジウム触媒1.0g(デグサ社製、57%含水品)、及びピペラジン0.08g(ピペラジン添加量=N,N−ジメチルアニリンとN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンとの合計量に対して1mol%、ホルムアルデヒドに対して2倍当量。)を仕込んだ。オートクレーブを密閉し、窒素置換及び水素置換後、水素圧を0.4MPaまで昇圧して、撹拌条件下で150℃まで昇温した。密閉状態で水素加圧条件下、3時間加熱撹拌したところ、水素吸収がなくなったので反応を終了し、冷却、脱圧後、反応液を濾過してパラジウム触媒を除去した。
200mLの攪拌器付きオートクレーブに、実施例2と同様に、調製例2に記載の方法に準じて得られた反応液80.0g(N,N−ジメチルアニリン11.0g、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン0.6g、及びホルムアルデヒド28mgをそれぞれ含有する。)、活性炭にパラジウムが5wt%担持されたパラジウム触媒1.0g(デグサ社製、57%含水品)、及びピペラジン0.04g(ピペラジン添加量=N,N−ジメチルアニリンとN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンとの合計量に対して0.5mol%、ホルムアルデヒドに対して当量。)を仕込んだ。オートクレーブを密閉し、窒素置換及び水素置換後、水素圧を0.4MPaまで昇圧して、撹拌条件下で150℃まで昇温した。密閉状態で水素加圧条件下8時間加熱撹拌して反応を終了し、冷却、脱圧後、反応液を濾過してパラジウム触媒を除去した。
200mLの攪拌器付きオートクレーブに、調製例2に記載の方法に準じて得られた反応液80.0g(N,N−ジメチルアニリン11.0g、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン0.6g、及びホルムアルデヒド28mgをそれぞれ含有する。)、活性炭にパラジウムが5wt%担持されたパラジウム触媒1.0g(デグサ社製、57%含水品)、及びピペラジン1.6g(ピペラジン添加量=N,N−ジメチルアニリンとN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンとの合計量に対して20mol%、ホルムアルデヒドに対して40倍当量。)を仕込んだ。オートクレーブを密閉し、窒素置換及び水素置換後、水素圧を0.4MPaまで昇圧して、撹拌条件下で60℃まで昇温した。密閉状態で水素加圧条件下、8時間加熱撹拌して反応を終了し、冷却、脱圧後、反応液を濾過してパラジウム触媒を除去した。
200mLの攪拌器付きオートクレーブに、調製例2に記載の方法に準じて得られた反応液80.0g(N,N−ジメチルアニリン11.0g、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン0.6gをそれぞれ含有する。)、活性炭にパラジウムが5wt%担持されたパラジウム触媒0.14g(デグサ社製、57%含水品)、及びピペラジン1.6g(ピペラジン添加量=N,N−ジメチルアニリンとN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンとの合計量に対して20mol%)を仕込んだ。オートクレーブを密閉し、窒素置換及び水素置換後、水素圧を0.4MPaまで昇圧して、撹拌条件下で150℃まで昇温した。密閉状態で水素加圧条件下、8時間加熱撹拌して反応を終了し、冷却、脱圧後、反応液を濾過してパラジウム触媒を除去した。
200mLの攪拌器付きオートクレーブに、実施例2と同様に、調製例2に記載の方法に準じて得られた反応液80.0g(N,N−ジメチルアニリン11.0g、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン0.6g、及びホルムアルデヒド28mgをそれぞれ含有する。)、活性炭にパラジウムが5wt%担持されたパラジウム触媒1.0g(デグサ社製、57%含水品)、及びN−エチルアミノピペラジン2.5g(N−エチルアミノピペラジン添加量=N,N−ジメチルアニリンとN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンとの合計量に対して20mol%、ホルムアルデヒドに対して40倍当量。)を仕込んだ。オートクレーブを密閉し、窒素置換及び水素置換後、水素圧を0.4MPaまで昇圧して、撹拌条件下で150℃まで昇温した。密閉状態で水素加圧条件下5時間加熱撹拌したところ、水素吸収がなくなったので反応を終了し、冷却、脱圧後、反応液を濾過してパラジウム触媒を除去した。
200mLの攪拌器付きオートクレーブに、実施例2と同様に、調製例2に記載の方法に準じて得られた反応液80.0g(N,N−ジメチルアニリン11.0g、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン0.6g、及びホルムアルデヒド28mgをそれぞれ含有する。)、活性炭にパラジウムが5wt%担持されたパラジウム触媒1.0g(デグサ社製、57%含水品)、及びトリエチレンテトラミン(東ソー製)2.7g(トリエチレンテトラミン添加量=N,N−ジメチルアニリンとN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンとの合計量に対して20mol%、ホルムアルデヒドに対して40倍当量。)を仕込んだ。オートクレーブを密閉し、窒素置換及び水素置換後、水素圧を0.4MPaまで昇圧して、撹拌条件下で150℃まで昇温した。密閉状態で水素加圧条件下8時間加熱撹拌して反応を終了し、冷却、脱圧後、反応液を濾過してパラジウム触媒を除去した。
200mLの攪拌器付きオートクレーブに、実施例2と同様に、調製例2に記載の方法に準じて得られた反応液80.0g(N,N−ジメチルアニリン11.0g、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン0.6g、及びホルムアルデヒド28mgをそれぞれ含有する。)、活性炭にパラジウムが5wt%担持されたパラジウム触媒1.0g(デグサ社製、57%含水品)、及びN,N−ジエチルアミン1.4g(N−エチルアミノピペラジン添加量=N,N−ジメチルアニリンとN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンとの合計量に対して20mol%、ホルムアルデヒドに対して40倍当量。)を仕込んだ。オートクレーブを密閉し、窒素置換及び水素置換後、水素圧を0.4MPaまで昇圧して、撹拌条件下で150℃まで昇温した。密閉状態で水素加圧条件下8時間加熱撹拌して反応を終了し、冷却、脱圧後、反応液を濾過してパラジウム触媒を除去した。
200mLの攪拌器付きオートクレーブに、実施例1と同様に、調製例1に記載の方法に準じて得られた反応液157.2g(N,N−ジメチルアニリン4.3g、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン0.3g、及びホルムアルデヒド55mgをそれぞれ含有する。)、及び活性炭にパラジウムが5wt%担持されたパラジウム触媒0.5g(デグサ社製、57%含水品)を仕込んだ。オートクレーブを密閉し、窒素置換及び水素置換後、水素圧を0.4MPaまで昇圧して、撹拌条件下で150℃まで昇温した。密閉状態で水素加圧条件下2時間加熱撹拌して反応したが、水素吸収は全く見られなかったため反応を終了し、冷却、脱圧後、反応液を濾過してパラジウム触媒を除去した。
200mLの攪拌器付きオートクレーブに、実施例2と同様に、調製例2に記載の方法に準じて得られた反応液80.0g(N,N−ジメチルアニリン11.0g、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン0.6g、及びホルムアルデヒド28mgをそれぞれ含有する。)、活性炭にパラジウムが5wt%担持されたパラジウム触媒2.0g(デグサ社製、57%含水品)、及びエチレンジアミン1.14g(エチレンジアミン添加量=N,N−ジメチルアニリンとN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンとの合計量に対して20mol%、ホルムアルデヒドに対して40倍当量。)を仕込んだ。オートクレーブを密閉し、窒素置換及び水素置換後、水素圧を0.4MPaまで昇圧して、撹拌条件下で150℃まで昇温した。密閉状態で水素加圧条件下8時間加熱撹拌して反応を終了し、冷却、脱圧後、反応液を濾過してパラジウム触媒を除去した。
得られた反応液についてガスクロマトグラフィー分析を行った結果、N,N−ジメチルアニリンは77%に減少したが、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミンを収率7%しか得られなかった。反応条件及び結果をまとめて表1に示す。
Claims (4)
- ホルムアルデヒドを含有する粗製N,N−ジメチルアニリンを、2級アミン、還元触媒、及び水素の存在下で核水添反応することを特徴とするN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンの製造法。
- ホルムアルデヒドを含有する粗製N,N−ジメチルアニリンが、ホルムアルデヒド誘導体とアニリンを還元触媒及び水素存在下で反応させて得られる反応液であることを特徴とする請求項1に記載のN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンの製造法。
- 2級アミンが、ピペラジン、N−エチルアミノピペラジン、ジエチルアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、及びペンタエチレンヘキサミンからなる群より選ばれる1種又は2種以上の2級アミンであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンの製造法。
- 2級アミンの添加量が、粗製N,N−ジメチルアニリン中に含まれるホルムアルデヒドに対して、当量倍以上40倍当量以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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