JP2009035573A - Surface treatment method for metal oxide particle, dispersion liquid containing the surface treated metal oxide particle, coating liquid for forming transparent coating film, and substrate with transparent coating film - Google Patents

Surface treatment method for metal oxide particle, dispersion liquid containing the surface treated metal oxide particle, coating liquid for forming transparent coating film, and substrate with transparent coating film Download PDF

Info

Publication number
JP2009035573A
JP2009035573A JP2007198437A JP2007198437A JP2009035573A JP 2009035573 A JP2009035573 A JP 2009035573A JP 2007198437 A JP2007198437 A JP 2007198437A JP 2007198437 A JP2007198437 A JP 2007198437A JP 2009035573 A JP2009035573 A JP 2009035573A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal oxide
oxide particles
transparent film
treated metal
particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007198437A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5142617B2 (en
Inventor
Mitsuaki Kumazawa
光章 熊澤
Yuko Hakojima
夕子 箱嶋
Masayuki Matsuda
政幸 松田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JGC Catalysts and Chemicals Ltd
Original Assignee
JGC Catalysts and Chemicals Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JGC Catalysts and Chemicals Ltd filed Critical JGC Catalysts and Chemicals Ltd
Priority to JP2007198437A priority Critical patent/JP5142617B2/en
Publication of JP2009035573A publication Critical patent/JP2009035573A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5142617B2 publication Critical patent/JP5142617B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an efficient surface treatment method for metal oxide particles excellent in dispersibility and dispersion stability. <P>SOLUTION: An organic silicon compound expressed by general formula (1) is added to hydrolyze in a dispersion liquid of metal oxide particles in water and/or an organic solvent, to which, subsequently, an organic silicon compound expressed by formula (2) is added to hydrolyze. The formulae are: (1):(NH<SB>2</SB>-C<SB>n</SB>H<SB>2n</SB>-Z-C<SB>m</SB>H<SB>2m</SB>)<SB>L</SB>-Si-Y<SB>4-L</SB>, wherein Z represents -NH or -CH<SB>2</SB>, Y represents a 1-4C alkoxy group, a hydroxyl group, halogen or hydrogen, L represents an integer of 1 to 3, n represents an integer of 0 to 10 and m represents an integer of 0 to 10; and (2):R<SB>p</SB>-SiX<SB>4-p</SB>, wherein R represents a 1-10C substituted or unsubstituted hydrocarbon group and may be identical or different from each other, X represents a 1-4C alkoxy group, a hydroxyl group, halogen or hydrogen, and p represents an integer of 1 to 3, however, the formula excludes an amino group-substituted hydrocarbon group. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、金属酸化物粒子を、先ず、アミノ基を有する有機ケイ素化合物で表面処理し、ついで、アミノ基を含まない有機ケイ素化合物で表面処理することを特徴とする金属酸化物粒子の表面処理方法、表面処理金属酸化物粒子を含む塗布液および透明被膜付基材に関する。   According to the present invention, the metal oxide particles are first surface-treated with an organosilicon compound having an amino group, and then surface-treated with an organosilicon compound not containing an amino group. The present invention relates to a method, a coating solution containing surface-treated metal oxide particles, and a substrate with a transparent coating.

ガラス、プラスチックシート、プラスチックレンズ、樹脂フィルム、表示装置前面板等の基材表面の耐擦傷性を向上させるため、基材表面にハードコート膜を形成することが知られており、このようなハードコート膜として有機樹脂膜あるいは無機膜をガラスやプラスチック等の表面に形成することが行われている。さらに、有機樹脂膜あるいは無機膜中に樹脂粒子あるいはシリカ等の無機粒子を配合してさらに耐擦傷性を向上させることが行われている。   It is known that a hard coat film is formed on the surface of the base material in order to improve the scratch resistance of the surface of the base material such as glass, plastic sheet, plastic lens, resin film, and display device front plate. An organic resin film or an inorganic film is formed as a coat film on the surface of glass, plastic or the like. Furthermore, it is practiced to further improve the scratch resistance by blending resin particles or inorganic particles such as silica in an organic resin film or an inorganic film.

また、透明被膜中に導電性粒子を配合して帯電防止性能、電磁波遮蔽性能等を有する透明被膜付基材も知られている。さらに、透明被膜中に高屈折率粒子を配合した高屈折率透明被膜、透明被膜中に低屈折率粒子を配合した反射防止性能を有する低屈折率透明被膜、着色顔料粒子を配合した透明性被膜等が知られている。
透明被膜中に例えば金属酸化物微粒子を配合する場合、透明被膜を構成するマトリックス成分によっては分散性が悪く、透明被膜形成用塗布液の安定性が不充分となり、得られる被膜の透明性、基材との密着性、強度、耐擦傷性等が不充分となることがあった。このため、あらかじめ金属酸化物微粒子をシランカップリング剤で処理し、マトリックス成分への分散性を向上させることが行われている。
In addition, a substrate with a transparent coating having antistatic performance, electromagnetic shielding performance and the like by blending conductive particles in the transparent coating is also known. Furthermore, a high refractive index transparent film in which high refractive index particles are blended in a transparent film, a low refractive index transparent film having antireflection performance in which low refractive index particles are blended in a transparent film, and a transparent film in which colored pigment particles are blended Etc. are known.
When, for example, metal oxide fine particles are blended in the transparent film, the dispersibility may be poor depending on the matrix components constituting the transparent film, and the stability of the coating liquid for forming the transparent film becomes insufficient. Adhesion with the material, strength, scratch resistance, etc. may be insufficient. For this reason, the metal oxide fine particles are previously treated with a silane coupling agent to improve the dispersibility in the matrix component.

しかしながら、シランカップリング剤で処理しても、ある程度分散性、分散安定性等は向上するものの、得られる透明被膜中に未反応のシランカップリング剤が残存したり、このため膜の平滑性が低下したり、硬化が不充分あるいは不均一な硬化が起きることがあり、このためクラックが発生したり、クラックが原因で耐湿性が不充分となることがあった。このため所望の反射率が得られない場合ことがあり、さらに、充分な基材との密着性や擦傷性等が得られないことがあった。   However, even if treated with a silane coupling agent, the dispersibility, dispersion stability, etc. are improved to some extent, but unreacted silane coupling agent remains in the resulting transparent film, and thus the smoothness of the film is reduced. In some cases, the temperature may be lowered, or curing may be insufficient or non-uniform. For this reason, cracks may be generated, or moisture resistance may be insufficient due to cracks. For this reason, a desired reflectance may not be obtained, and in addition, sufficient adhesion to the substrate, scratching properties, and the like may not be obtained.

本願出願人は、金属酸化物粒子をシランカップリング剤で処理する前に、あらかじめ4官能のアルコキシシランで表面処理することにより、金属酸化物粒子表面にシランカップリング剤との反応性、結合性の高い水酸基(シラノール基)が形成され、このため、シランカップリング剤が金属酸化物粒子表面に高密度で強固に結合し、分散性、分散安定性等が向上し、得られる透明被膜の性能が向上することを見出している。
しかしながら、この方法を用いても、膜の平滑性、硬化性等はある程度改善されるものの透明被膜中の未反応のシランカップリング剤が残存することがあり、充分な基材との密着性や擦傷性等が得られないことがあった。
The applicant of the present application treats the metal oxide particles with the silane coupling agent on the surface of the metal oxide particles by treating the metal oxide particles with a tetrafunctional alkoxysilane in advance before treating the metal oxide particles with the silane coupling agent. A high-functional hydroxyl group (silanol group) is formed. For this reason, the silane coupling agent is firmly bonded to the surface of the metal oxide particles at high density, and the dispersibility and dispersion stability are improved. Has been found to improve.
However, even if this method is used, the smoothness and curability of the film are improved to some extent, but the unreacted silane coupling agent in the transparent film may remain, and sufficient adhesion to the substrate or In some cases, scratch resistance or the like could not be obtained.

このような状況の下、本発明者は、上記問題点を解消すべく鋭意検討した結果、金属酸化物粒子を、先ず、アミノ基を有する有機ケイ素化合物で表面処理し、ついで、アミノ基を含まない有機ケイ素化合物で表面処理した金属酸化物粒子を用いると、得られる透明被膜にクラックが発生することがなく、耐湿性、基材との密着性、擦傷性等が大幅に向上することを見いだして本発明を完成するに至った。   Under such circumstances, as a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors first treated the metal oxide particles with an organosilicon compound having an amino group, and then contained an amino group. It has been found that when metal oxide particles surface-treated with no organosilicon compound are used, cracks are not generated in the resulting transparent film, and the moisture resistance, adhesion to the substrate, scratch resistance, etc. are greatly improved. The present invention has been completed.

本発明は、分散性、分散安定性に優れた金属酸化物粒子の効率的な表面処理方法および得られた表面処理金属酸化物粒子を含む分散液、透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材を提供することを目的としている。   The present invention relates to an efficient surface treatment method for metal oxide particles having excellent dispersibility and dispersion stability, and a dispersion containing the obtained surface-treated metal oxide particles, a coating liquid for forming a transparent film, and a base with a transparent film The purpose is to provide materials.

本発明の金属酸化物粒子の表面処理方法は、金属酸化物粒子の水および/または有機溶媒分散液に、下記(1)で表される有機ケイ素化合物を加えて加水分解し、ついで、下記式(2)で表される有機ケイ素化合物を加えて加水分解することを特徴とする。
(NH2-Cn2n-Z-Cm2mL-Si-Y4-L (1)
(但し、式中、Z:−NH、−CH2、Y:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素。L:1〜3の整数,n:0〜10の整数、m:0〜10の整数。)
p-SiX4-p (2)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、p:1〜3の整数、但し、置換炭化水素基中アミノ基置換炭化水素基を除く。)
In the surface treatment method for metal oxide particles of the present invention, an organic silicon compound represented by the following (1) is added to water and / or an organic solvent dispersion of the metal oxide particles for hydrolysis, and then the following formula: Hydrolysis is performed by adding an organosilicon compound represented by (2).
(NH 2 -C n H 2n -Z -C m H 2m) L -Si-Y 4-L (1)
(Wherein, Z: —NH, —CH 2 , Y: C 1-4 alkoxy group, hydroxyl group, halogen, hydrogen. L: integer of 1 to 3, n: integer of 0 to 10, m: An integer from 0 to 10.)
R p -Si x 4-p (2)
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, Halogen, hydrogen, p: an integer of 1 to 3, with the exception of an amino group-substituted hydrocarbon group in the substituted hydrocarbon group.

前記表面処理された金属酸化物粒子中の式(1)で表される有機ケイ素化合物の含有量が、[(NH2-Cn2n-Z-Cm2mL-SiO4-L/2]として0.001〜20重量%の範囲にあり、式(2)で表される有機ケイ素化合物の含有量がRp-Si-O4-p/2として1〜60重量%の範囲にあることが好ましい。
前記金属酸化物粒子がシリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、五酸化アンチモン、酸化インジウム、低次酸化チタンおよびこれらの複合酸化物、あるいはSbドープ酸化スズ(ATO)、Fドープ酸化スズ、Pドープ酸化スズ、Snドープ酸化インジウム(ITO)、Fドープ酸化インジウムから選ばれる1種または2種以上であり、平均粒子径が3〜300nmの範囲にあることが好ましい。
前記表面処理された金属酸化物粒子の平均粒子径が3〜300nmの範囲にあることが好ましい。
The content of the organosilicon compound represented by the formula (1) in the surface-treated metal oxide particles is [(NH 2 —C n H 2n —Z—C m H 2m ) L —SiO 4 -L / 2 ] in the range of 0.001 to 20 wt%, and the content of the organosilicon compound represented by the formula (2) is in the range of 1 to 60 wt% as R p —Si—O 4−p / 2 It is preferable that it exists in.
The metal oxide particles are silica, alumina, zirconia, titanium oxide, tin oxide, zinc oxide, antimony pentoxide, indium oxide, low-order titanium oxide and complex oxides thereof, or Sb-doped tin oxide (ATO), F-doped One or more selected from tin oxide, P-doped tin oxide, Sn-doped indium oxide (ITO), and F-doped indium oxide, and preferably having an average particle diameter in the range of 3 to 300 nm.
The average particle diameter of the surface-treated metal oxide particles is preferably in the range of 3 to 300 nm.

本発明の表面処理金属酸化物粒子分散液は、前記表面処理方法で得られた表面処理金属酸化物粒子と分散媒とからなり、表面処理金属酸化物粒子の濃度が1〜50重量%の範囲にあることを特徴とする。   The surface-treated metal oxide particle dispersion of the present invention comprises the surface-treated metal oxide particles obtained by the surface treatment method and a dispersion medium, and the concentration of the surface-treated metal oxide particles is in the range of 1 to 50% by weight. It is characterized by that.

本発明の透明被膜形成用塗布液は、前記表面処理方法で得られた表面処理金属酸化物粒子とマトリックス形成成分と分散媒とを含んでなることを特徴とする。
前記表面処理金属酸化物粒子の濃度(CP)が固形分として0.1〜40重量%の範囲にあり、前記マトリックス形成成分の濃度(CM)が固形分として1.9〜49.9重量%の範囲にあり、合計濃度(CP)+(CM)が固形分として2〜50重量%の範囲にあることが好ましい。
The coating liquid for forming a transparent film of the present invention comprises the surface-treated metal oxide particles obtained by the surface treatment method, a matrix-forming component, and a dispersion medium.
The concentration (C P ) of the surface-treated metal oxide particles is in the range of 0.1 to 40% by weight as the solid content, and the concentration (C M ) of the matrix-forming component is 1.9 to 49.9 as the solid content. The total concentration (C P ) + (C M ) is preferably in the range of 2 to 50% by weight as the solid content.

本発明の透明被膜付基材は、基材と、基材上に設けられた透明被膜とからなり、該透明被膜がマトリックス成分と前記製造方法で得られた表面処理金属酸化物粒子とからなり、透明被膜中の表面処理金属酸化物粒子の含有量が固形分として0.2〜80重量%の範囲にあることを特徴とする。
前記透明被膜の膜厚が30nm〜50μmの範囲にあることが好ましい。
The substrate with a transparent coating of the present invention comprises a substrate and a transparent coating provided on the substrate, and the transparent coating comprises a matrix component and the surface-treated metal oxide particles obtained by the production method. The content of the surface-treated metal oxide particles in the transparent film is in the range of 0.2 to 80% by weight as the solid content.
It is preferable that the film thickness of the transparent coating is in the range of 30 nm to 50 μm.

本発明方法では、金属酸化物粒子があらかじめアミノ基を有する有機ケイ素化合物で表面処理されているので、ついで主たる表面処理剤であるアミノ基を含まない有機ケイ素化合物を金属酸化物粒子表面に均一にムラ無く表面処理することができる。
このため、金属酸化物粒子がマトリックス成分へ均一に安定的に高分散し、且つ、マトリックスとの結合性に優れ、緻密性、膜強度、耐薬品性等に優れるとともに耐湿性にも優れた透明被膜の形成に好適に用いることのできる金属酸化物粒子の表面処理方法、および表面処理金属酸化物粒子を含む分散液、透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材とを提供することができる。
In the method of the present invention, since the metal oxide particles are surface-treated with an organosilicon compound having an amino group in advance, the organosilicon compound not containing an amino group, which is the main surface treatment agent, is then uniformly distributed on the surface of the metal oxide particles. Surface treatment can be performed without unevenness.
For this reason, the metal oxide particles are uniformly and stably dispersed in the matrix component, and have excellent binding properties with the matrix, excellent denseness, film strength, chemical resistance and the like, and also have excellent moisture resistance. A surface treatment method of metal oxide particles that can be suitably used for forming a coating, and a dispersion containing the surface-treated metal oxide particles, a coating solution for forming a transparent coating, and a substrate with a transparent coating can be provided. .

以下、まず、本発明に係る金属酸化物粒子の表面処理方法について説明する。   Hereinafter, the surface treatment method for metal oxide particles according to the present invention will be described first.

[金属酸化物粒子の表面処理方法]
本発明に係る金属酸化物粒子の表面処理方法は、金属酸化物粒子の水および/または有機溶媒分散液に、下記式(1)で表される有機ケイ素化合物を加えて加水分解し、ついで、下記式(2)で表される有機ケイ素化合物を加えて加水分解することを特徴としている。
(NH2−Cn2n−Z− Cm2mL −Si−Y4-L (1)
(但し、式中、Z:−NH、−CH2、Y:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素。L:1〜3の整数,n:0〜10の整数、m:0〜10の整数。)
p-SiX4-p (2)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、p:1〜3の整数、但し、アミノ基置換炭化水素基を除く。)
[Surface Treatment Method for Metal Oxide Particles]
In the surface treatment method for metal oxide particles according to the present invention, an organic silicon compound represented by the following formula (1) is added to water and / or an organic solvent dispersion of the metal oxide particles, and then hydrolyzed. It is characterized by adding an organosilicon compound represented by the following formula (2) for hydrolysis.
(NH 2 -C n H 2n -Z- C m H 2m) L -Si-Y 4-L (1)
(Wherein, Z: —NH, —CH 2 , Y: C 1-4 alkoxy group, hydroxyl group, halogen, hydrogen. L: integer of 1 to 3, n: integer of 0 to 10, m: An integer from 0 to 10.)
R p -Si x 4-p (2)
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, Halogen, hydrogen, p: an integer of 1 to 3, except for an amino group-substituted hydrocarbon group.

金属酸化物粒子
本発明に用いる金属酸化物粒子としては、前記各種透明被膜に用いられる従来公知の金属酸化物粒子を用いることができる。
具体的には、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、五酸化アンチモン、酸化インジウム、低次酸化チタン、酸化マグネシウム、ボリア、酸化ニオブ等の他、これらの複合酸化物、あるいはSbドープ酸化スズ(ATO)、Fドープ酸化スズ、Pドープ酸化スズ、Snドープ酸化インジウム(ITO)、Fドープ酸化インジウム等が挙げられる。
As the metal oxide particles used in the metal oxide particles present invention may be a conventionally known metal oxide particles used in the various transparent film.
Specifically, in addition to silica, alumina, zirconia, titanium oxide, tin oxide, zinc oxide, antimony pentoxide, indium oxide, low-order titanium oxide, magnesium oxide, boria, niobium oxide, etc., these composite oxides, or Examples thereof include Sb-doped tin oxide (ATO), F-doped tin oxide, P-doped tin oxide, Sn-doped indium oxide (ITO), and F-doped indium oxide.

なかでも、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、五酸化アンチモン、酸化インジウム、低次酸化チタンおよびこれらの複合酸化物あるいはSbドープ酸化スズ(ATO)、Fドープ酸化スズ、Pドープ酸化スズ、Snドープ酸化インジウム(ITO)、Fドープ酸化インジウム等は好適に用いることができる。
複合酸化物としては、シリカ・アルミナ、シリカ・ジルコニア、シリカ・チタニア、アルミナ・チタニア、チタニア・ジルコニア、チタニア・酸化スズ・ジルコニア・シリカ、ジルコニア・酸化アンチモン・シリカ、ジルコニア・酸化アンチモン、チタニア・ジルコニア・シリカ、チタニア・ジルコニア・酸化アンチモン・シリカ・酸化スズ、チタニア・ジルコニア・酸化アンチモン・シリカ、ジルコニア・シリカ・酸化アンチモン、酸化アンチモン・シリカ等が挙げられる。
Among these, silica, alumina, zirconia, titanium oxide, tin oxide, zinc oxide, antimony pentoxide, indium oxide, low-order titanium oxide and complex oxides thereof or Sb-doped tin oxide (ATO), F-doped tin oxide, P Doped tin oxide, Sn-doped indium oxide (ITO), F-doped indium oxide, and the like can be suitably used.
Composite oxides include silica / alumina, silica / zirconia, silica / titania, alumina / titania, titania / zirconia, titania / tin oxide / zirconia / silica, zirconia / antimony oxide / silica, zirconia / antimony oxide, titania / zirconia Silica, titania / zirconia / antimony oxide / silica / tin oxide, titania / zirconia / antimony oxide / silica, zirconia / silica / antimony oxide, antimony oxide / silica, and the like.

さらに、この複合酸化物には金属酸化物粒子の表面を他の金属酸化物、複合酸化物で被覆したコアシェル構造を有する粒子が含まれる。また、本願出願人の出願による特開2001−167637号公報、特開2001−233611号公報等に開示した内部に空洞を有するシリカを主成分とするシリカ系粒子は屈折率が低く、反射防止膜用の透明被膜に好適に用いることができる。
さらに、特開2005−119909号公報に開示した、表面を酸化アンチモンで被覆した多孔質シリカ系微粒子または内部に空洞を有するシリカ系微粒子も、反射防止・帯電防止膜として好適に用いることができる。また、上記各粒子が鎖状に連結した粒子であってもよい。
Further, the composite oxide includes particles having a core-shell structure in which the surface of the metal oxide particles is coated with another metal oxide or composite oxide. Further, silica-based particles mainly composed of silica having voids therein disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-167737 and 2001-233611 filed by the applicant of the present application have a low refractive index and an antireflection film. It can be suitably used for a transparent film.
Furthermore, porous silica-based fine particles whose surface is coated with antimony oxide or silica-based fine particles having cavities inside as disclosed in JP-A-2005-119909 can be suitably used as an antireflection / antistatic film. Moreover, the particle | grains which each said particle | grain connected in the chain form may be sufficient.

金属酸化物粒子の平均粒子径は3〜300nm、さらには5〜200nmの範囲にあることが好ましい。
金属酸化物粒子の平均粒子径が3nm未満の場合は、得ることが困難であり、得られたとしても、分散液中で凝集する傾向があり、均一に表面処理することが困難で、得られる粒子を用いても本願の効果、すなわち、マトリックス成分への分散性の向上、マトリックスとの結合性向上、緻密性、膜強度、耐薬品性、膜平滑性等の効果が得られないことがある。
金属酸化物粒子の平均粒子径が300nmを越えると、得られる透明被膜の平滑性が悪くなり、緻密性、膜強度、耐薬品性が不充分となり、さらにヘーズが悪化する傾向にある。
The average particle diameter of the metal oxide particles is preferably in the range of 3 to 300 nm, more preferably 5 to 200 nm.
When the average particle diameter of the metal oxide particles is less than 3 nm, it is difficult to obtain, and even if obtained, there is a tendency to aggregate in the dispersion, and it is difficult to uniformly treat the surface. Even if particles are used, the effects of the present application, i.e., improvement in dispersibility in matrix components, improvement in binding properties with the matrix, denseness, film strength, chemical resistance, film smoothness, etc. may not be obtained. .
When the average particle diameter of the metal oxide particles exceeds 300 nm, the smoothness of the obtained transparent film is deteriorated, the denseness, the film strength and the chemical resistance are insufficient, and the haze tends to be further deteriorated.

分散媒
表面処理する際の金属酸化物粒子の分散媒としては水および/または有機溶媒が用いられる。
有機溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール(IPA)等などのアルコール類を含む親水性溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプルピルなどのエステル類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、トルエン等の疎水性溶媒が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また2種以上混合して使用してもよい。
Water and / or an organic solvent is used as a dispersion medium for the metal oxide particles when the dispersion medium is surface treated.
Examples of the organic solvent include hydrophilic solvents including alcohols such as methanol, ethanol, propanol and 2-propanol (IPA), esters such as methyl acetate, ethyl acetate and isopropyl acetate, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, and toluene. And other hydrophobic solvents. These may be used singly or in combination of two or more.

また、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコールなどのアルコール類;エチレングリコール、ヘキシレングリコールなどのグリコール類;ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類を含む親水性溶媒、酢酸プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、酢酸イソペンチル、酢酸ペンチル、酢酸3−メトキシブチル、酢酸2−エチルブチル、酢酸シクロヘキシル、エチレングリコールモノアセタートなどのエステル類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ブチルメチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジプロピルケトン、メチルペンチルケトン、ジイソブチルケトンなどのケトン類、等の疎水性溶媒が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また2種以上混合して使用してもよい。
なかでも、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のモノアルコールが一般的である。
In addition, alcohols such as butanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol; glycols such as ethylene glycol and hexylene glycol; diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether , Hydrophilic solvents including ethers such as ethylene glycol isopropyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propyl acetate, isobutyl acetate, butyl acetate, isopentyl acetate, pentyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 2-ethylbutyl acetate, succinate Esters such as hexyl and ethylene glycol monoacetate; and hydrophobic solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, butyl methyl ketone, cyclohexanone, methyl cyclohexanone, dipropyl ketone, methyl pentyl ketone, and diisobutyl ketone . These may be used singly or in combination of two or more.
Of these, monoalcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol are common.

金属酸化物粒子の水および/または有機溶媒分散液
分散液の濃度は固形分として1〜50重量%、さらには3〜40重量%の範囲にあることが好ましい。
分散液の濃度が1重量%未満の場合は、粒子が凝集することはないものの生産性が低く実用的でない。
分散液の濃度が50重量%を越えると、粒子間の相互作用が強く粘度が上がったり場合によっては凝集することがある。
The concentration of the metal oxide particles in water and / or the organic solvent dispersion is preferably in the range of 1 to 50% by weight, more preferably 3 to 40% by weight as the solid content.
When the concentration of the dispersion is less than 1% by weight, the particles do not aggregate, but the productivity is low and impractical.
When the concentration of the dispersion exceeds 50% by weight, the interaction between the particles is strong and the viscosity may increase or in some cases, the particles may aggregate.

式(1)で表される有機ケイ素化合物
本発明では下記式(1)で表されるアミノ基を有する有機ケイ素化合物を用いる。
(NH2−Cn2n−Z− Cm2mL −Si−Y4-L (1)
(但し、式中、Z:−NH、−CH2、Y:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素。L:1〜3の整数,n:0〜10の整数、m:0〜10の整数。)
Organosilicon compound represented by formula (1) In the present invention, an organosilicon compound having an amino group represented by the following formula (1) is used.
(NH 2 -C n H 2n -Z- C m H 2m) L -Si-Y 4-L (1)
(Wherein, Z: —NH, —CH 2 , Y: C 1-4 alkoxy group, hydroxyl group, halogen, hydrogen. L: integer of 1 to 3, n: integer of 0 to 10, m: An integer from 0 to 10.)

このような有機ケイ素化合物としては、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジイソプロポキシシラン、γ−アミノプロピルジメチルモノメトキシシラン、γ−アミノプロピルジメチルモノエトキシシラン、γ−アミノプロピルジメチルモノイソプロポキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジイソプロポキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルジメチルモノメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルジメチルモノエトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルジメチルモノイソプロポキシシランから選ばれる1種または2種以上の有機ケイ素化合物が好適に用いられる。   Examples of such organosilicon compounds include γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, and γ-aminopropylmethyldiethoxysilane. , Γ-aminopropylmethyldiisopropoxysilane, γ-aminopropyldimethylmonomethoxysilane, γ-aminopropyldimethylmonoethoxysilane, γ-aminopropyldimethylmonoisopropoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyl Trimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltriisopropoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysila N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldiisopropoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyldimethylmonomethoxysilane One or more organic silicon compounds selected from N-β (aminoethyl) γ-aminopropyldimethylmonoethoxysilane and N-β (aminoethyl) γ-aminopropyldimethylmonoisopropoxysilane are preferably used. It is done.

式(1)で表される有機ケイ素化合物の使用量は、得られる表面処理された金属酸化物粒子中の有機ケイ素化合物の含有量が[(NH2-Cn2n-Z-Cm2mL-SiO4-L/2]として0.001〜20重量%、さらには0.01〜15重量%の範囲となるように用いる。
式(1)で表される有機ケイ素化合物の使用量が[(NH2-Cn2n-Z-Cm2mL-SiO4-L/2]として0.001重量%未満の場合は、アミノ基を有する式(1)で表される有機ケイ素化合物の導入量が少ないために式(2)で表される有機ケイ素化合物、有機ケイ素化合物の加水分解物が式(1)で表される有機ケイ素化合物で表面処理された金属酸化物粒子表面に充分に結合せず、未結合の式(2)で表される有機ケイ素化合物、有機ケイ素化合物の加水分解物が残存する傾向がある。
式(1)で表される有機ケイ素化合物の使用量が[(NH2-Cn2n-Z-Cm2mL-SiO4-L/2]として20重量%を越えてもさらに未結合の式(2)で表される有機ケイ素化合物等が減少することもなく、表面に過剰に処理されているため金属酸化物微粒子の割合が低下し、粒子の特性、例えば、導電性、屈折率等が充分発現されない場合がある。
The amount of the organosilicon compound represented by the formula (1) is such that the content of the organosilicon compound in the obtained surface-treated metal oxide particles is [(NH 2 —C n H 2n —Z—C m H 2m) L -SiO 4-L / 2] as 0.001 to 20 wt%, more used to be in the range of 0.01 to 15 wt%.
When the amount of the organosilicon compound represented by the formula (1) is less than 0.001% by weight as [(NH 2 —C n H 2n —Z—C m H 2m ) L —SiO 4 -L / 2 ] Since the introduction amount of the organosilicon compound represented by formula (1) having an amino group is small, the organosilicon compound represented by formula (2) and the hydrolyzate of the organosilicon compound are represented by formula (1). There is a tendency that unbonded organosilicon compound represented by formula (2) and hydrolyzate of organosilicon compound remain on the surface of the metal oxide particles surface-treated with the organosilicon compound to be formed. .
Furthermore even exceed 20% by weight The amount of the organic silicon compound [(NH 2 -C n H 2n -Z-C m H 2m) L -SiO 4-L / 2] represented by the formula (1) The ratio of the metal oxide fine particles is reduced because the surface is excessively treated without reducing the unbonded organosilicon compound represented by the formula (2), and the characteristics of the particles, for example, conductivity, In some cases, the refractive index or the like is not sufficiently expressed.

式(2)で表される有機ケイ素化合物
本発明では、ついで、下記式(2)で表されるアミノ基を含まない有機ケイ素化合物を用いる。
p-SiX4-p (2)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、p:1〜3の整数、但し、置換炭化水素基中アミノ基置換炭化水素基を除く。)
Organosilicon compound represented by formula (2) In the present invention, an organosilicon compound containing no amino group represented by formula (2) below is then used.
R p -Si x 4-p (2)
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, Halogen, hydrogen, p: an integer of 1 to 3, with the exception of an amino group-substituted hydrocarbon group in the substituted hydrocarbon group.

このような有機ケイ素化合物としては、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(βメトキシエトキシ)シラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、β−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリエキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラオクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、トリメチルシラノール、メチルトリクロロシラン等、およびこれらの混合物が挙げられる。   Such organosilicon compounds include methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, isobutyltrimethoxy. Silane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (βmethoxyethoxy) silane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, β- ( 3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltriethoxysilane, γ-glycidoxyethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxyethyl Triethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ- (β-glycyl Sidoxyethoxy) propyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltriethoxysilane, γ- (meth) acrylooxyethyltrimethoxysilane, γ- (Meth) acryloxyethyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, γ- (meth) acrylooxypropyltriethoxysilane, butyltrimeth Xysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilaoctyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, butyltriethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, 3-ureidoisopropyl Propyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltrimethoxysilane, perfluorooctylethyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltriisopropoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, trimethylsilanol, methyltri A chlorosilane etc., and these mixtures are mentioned.

式(2)で表される有機ケイ素化合物の使用量は、得られる表面処理された金属酸化物粒子中の有機ケイ素化合物の含有量がRp-Si-O4-p/2として1〜60重量%、さらには2〜50重量%の範囲にあることが好ましい。
式(2)で表される有機ケイ素化合物の使用量がRp-Si-O4-p/2として1重量%未満の場合は、分散性、マトリックスとの結合性向上効果が不充分で、得られる透明被膜の緻密性、膜強度、耐薬品性、膜平滑性等が不充分となることがある。
式(2)で表される有機ケイ素化合物の使用量がRp-Si-O4-p/2として60重量%を越えると、表面処理された金属酸化物粒子中の金属酸化物微粒子の割合が低下し、粒子の特性、例えば、導電性、屈折率等が充分発現されない場合がある。
The amount of the organosilicon compound represented by the formula (2) is such that the content of the organosilicon compound in the obtained surface-treated metal oxide particles is 1 to 60 as R p —Si—O 4-p / 2. It is preferable to be in the range of wt%, more preferably 2 to 50 wt%.
When the amount of the organosilicon compound represented by the formula (2) is less than 1% by weight as R p —Si—O 4 -p / 2 , the effect of improving the dispersibility and the matrix bondability is insufficient. The resulting transparent film may be insufficient in denseness, film strength, chemical resistance, film smoothness, and the like.
When the amount of the organosilicon compound represented by the formula (2) exceeds 60% by weight as R p —Si—O 4−p / 2 , the ratio of the metal oxide fine particles in the surface-treated metal oxide particles In some cases, the particle characteristics such as conductivity and refractive index are not sufficiently exhibited.

表面処理方法
表面処理方法としては、従来公知のシランカップリング剤による表面処理と同様の方法を採用することができる。
例えば、金属酸化物粒子分散液に、先ず、前記式(1)で表される有機ケイ素化合物あるいは有機ケイ素化合物の有機溶媒溶液を添加して加水分解する。この時、必要に応じて酸またはアルカリを加水分解触媒として添加することもできる。
加水分解する際の温度は用いる分散媒の沸点によっても異なるが、概ね30〜80℃の範囲である。
The surface treatment method surface treatment method, it is possible to employ the same method as the surface treatment by a conventionally known silane coupling agents.
For example, first, an organosilicon compound represented by the above formula (1) or an organic solvent solution of an organosilicon compound is added to a metal oxide particle dispersion to cause hydrolysis. At this time, if necessary, an acid or an alkali can be added as a hydrolysis catalyst.
The temperature for hydrolysis varies depending on the boiling point of the dispersion medium to be used, but is generally in the range of 30 to 80 ° C.

ついで、前記式(2)で表される有機ケイ素化合物あるいは有機ケイ素化合物の有機溶媒溶液を添加して加水分解する。この時、必要に応じて酸またはアルカリを加水分解触媒として添加することもできる。
また、前記式(2)で表される有機ケイ素化合物のPの値によっても異なるが、水のモル数(MH2O)と有機ケイ素化合物の加水分解性官能基のモル数(MOS2)とのモル比(MH2O)/(MOS2)が1〜1000、さらには2〜500の範囲にとなる水を用いることが好ましい。
前記モル比(MH2O)/(MOS2)が1未満の場合は、加水分解に使用される水が少なすぎ、加水分解が不充分となるとともに未結合の有機ケイ素化合物、有機ケイ素化合物の加水分解物が残存する傾向がある。
前記モル比(MH2O)/(MOS2)が1000を越えると、前記式(2)で表される有機ケイ素化合物の種類によっても異なるが、加水分解速度が速く、金属酸化物微粒子表面に析出することなく分散媒中で有機ケイ素化合物の加水分解物であるゾル・ゲルあるいは粒子となることがあり、前記式(2)で表される有機ケイ素化合物による表面処理効果が充分得られないことがある。
Subsequently, the organic silicon compound represented by the above formula (2) or an organic solvent solution of the organic silicon compound is added for hydrolysis. At this time, if necessary, an acid or an alkali can be added as a hydrolysis catalyst.
Moreover, although it depends on the value of P of the organosilicon compound represented by the formula (2), the number of moles of water (M H2O ) and the number of moles of hydrolyzable functional groups of the organosilicon compound (M OS2 ) It is preferable to use water having a molar ratio (M H2O ) / (M OS2 ) of 1 to 1000, more preferably 2 to 500.
When the molar ratio (M H2O ) / (M OS2 ) is less than 1, the amount of water used for hydrolysis is too small, resulting in insufficient hydrolysis and the addition of unbonded organosilicon compound or organosilicon compound. Decomposition products tend to remain.
When the molar ratio (M H2O ) / (M OS2 ) exceeds 1000, although depending on the type of the organosilicon compound represented by the formula (2), the hydrolysis rate is fast and precipitates on the surface of the metal oxide fine particles. In some cases, a sol / gel or particle that is a hydrolyzate of an organosilicon compound in a dispersion medium may not be obtained, and the surface treatment effect by the organosilicon compound represented by the formula (2) may not be sufficiently obtained. is there.

加水分解する際の温度は用いる分散媒の沸点によっても異なるが、概ね30〜100℃の範囲である。
このようにして得られた表面処理金属酸化物粒子の分散液は、必要に応じて、加熱熟成することができ、さらに、イオン交換樹脂にて不純物イオンを除去したり、限外濾過膜等により洗浄、濃縮、溶媒置換等して用いることができる。
The temperature at the time of hydrolysis varies depending on the boiling point of the dispersion medium used, but is generally in the range of 30 to 100 ° C.
The dispersion of the surface-treated metal oxide particles obtained in this way can be heated and aged as necessary. Further, impurity ions can be removed with an ion exchange resin, or an ultrafiltration membrane or the like. It can be used after washing, concentration, solvent substitution and the like.

[表面処理金属酸化物粒子分散液]
得られる表面処理金属酸化物粒子の分散液は表面処理金属酸化物粒子の濃度が固形分として1〜50重量%、さらには1〜40重量%の範囲にあることが好ましい。
表面処理金属酸化物粒子分散液の表面処理金属酸化物粒子の濃度が固形分として1重量%未満の場合は濃度が低いために本発明の透明被膜形成用塗布液に用いるには不向きであり、得られる透明被膜の膜厚が薄すぎたり、このため繰り返し、塗布、乾燥等を必要とする場合がある。
[Surface-treated metal oxide particle dispersion]
The resulting dispersion of the surface-treated metal oxide particles preferably has a concentration of the surface-treated metal oxide particles in the range of 1 to 50% by weight, more preferably 1 to 40% by weight as the solid content.
When the concentration of the surface-treated metal oxide particle dispersion of the surface-treated metal oxide particle dispersion is less than 1% by weight as the solid content, the concentration is low, so it is unsuitable for use in the coating liquid for forming a transparent film of the present invention, The film thickness of the resulting transparent coating may be too thin, and thus may require repeated, coating, drying, and the like.

表面処理金属酸化物粒子分散液の表面処理金属酸化物粒子の濃度が固形分として50重量%を超えると、粘度が高くなり、安定性が不充分となることがあり、本発明の透明被膜形成用塗布液に用いるには不向きである。
なお、表面処理金属酸化物粒子分散液の分散媒は前記表面処理する際と同様の分散媒を用いることができるが、後述する透明被膜形成用塗布液に用いる分散媒と同じであることが好ましい。
When the concentration of the surface-treated metal oxide particles in the surface-treated metal oxide particle dispersion exceeds 50% by weight as the solid content, the viscosity may increase and the stability may be insufficient. It is unsuitable for use as a coating solution.
The dispersion medium for the surface-treated metal oxide particle dispersion can be the same as that used for the surface treatment, but is preferably the same as the dispersion medium used for the transparent film-forming coating liquid described later. .

[透明被膜形成用塗布液]
本発明の透明被膜形成用塗布液は、前記の方法で得られた表面処理金属酸化物粒子とマトリックス形成成分と分散媒とからなっている。
表面処理金属酸化物粒子
表面処理金属酸化物粒子としては、前記で得られた表面処理金属酸化物粒子、あるいは表面処理金属酸化物粒子の分散液を用いる。
[Transparent coating solution]
The coating liquid for forming a transparent film of the present invention comprises the surface-treated metal oxide particles obtained by the above method, a matrix-forming component, and a dispersion medium.
Surface-treated metal oxide particles As the surface-treated metal oxide particles, the surface-treated metal oxide particles obtained above or a dispersion of surface-treated metal oxide particles is used.

マトリックス形成成分
マトリックス形成成分としては、シリコーン系(ゾルゲル系)マトリックス形成成分、有機樹脂系マトリックス形成成分等が用いられる。
シリコーン系マトリックス形成成分としては下記式(3)で表される有機珪素化合物、これらの加水分解物、加水分解重縮合物が好適に用いられる。
q-SiX4-q (3)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、q:0〜3の整数。)
Matrix-forming component As the matrix-forming component, a silicone-based (sol-gel) matrix-forming component, an organic resin-based matrix-forming component, or the like is used.
As the silicone-based matrix forming component, an organosilicon compound represented by the following formula (3), a hydrolyzate thereof, and a hydrolyzed polycondensate are preferably used.
R q -SiX 4-q (3)
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, Halogen, hydrogen, q: an integer from 0 to 3.)

このような有機ケイ素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(βメトキシエトキシ)シラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、β−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリエキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラオクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、トリメチルシラノール、メチルトリクロロシラン等、およびこれらの混合物が挙げられる。   Examples of such organosilicon compounds include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyl Diethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (βmethoxyethoxy) silane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, Methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltrimethoxysilane, γ-glycyl Sidoxymethyltriexylsilane, γ-glycidoxyethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxyethyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycyl Sidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ- (β-glycidoxyethoxy) propyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltrimethoxysilane, γ- (meth) Acryloxymethyltriexylsilane, γ- (meth) acrylooxyethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxyethyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- ( (Meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxyp Propyltriethoxysilane, γ- (meth) acrylooxypropyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilaoctyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, butyltriethoxysilane, isobutyltri Ethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, 3-ureidoisopropylpropyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltrimethoxysilane, perfluorooctylethyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltriisopropoxy Silane, trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, trimethylsilanol, methyltrichlorosila Etc., and mixtures thereof.

また、有機樹脂系マトリックス形成成分としては、塗料用樹脂として公知の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、電子線硬化樹脂等が挙げられる。
このような樹脂として、たとえば、従来から用いられているポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、熱可塑性アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、酢酸ビニル樹脂、シリコーンゴムなどの熱可塑性樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、ブチラール樹脂、反応性シリコーン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、紫外線硬化型アクリル樹脂などの熱硬化性樹脂、紫外線硬化型アクリル樹脂などが挙げられる。
Examples of the organic resin matrix forming component include known thermosetting resins, thermoplastic resins, electron beam curable resins, and the like as coating resins.
Examples of such resins include conventionally used thermoplastic resins such as polyester resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyphenylene oxide resins, thermoplastic acrylic resins, vinyl chloride resins, fluororesins, vinyl acetate resins, and silicone rubbers. , Urethane resin, melamine resin, silicon resin, butyral resin, reactive silicone resin, phenol resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, thermosetting acrylic resin, UV curable acrylic resin, etc., UV curable type An acrylic resin etc. are mentioned.

具体的にはペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、n-ラウリルアクリレート、n−ステアリルアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、トリフロロエチルメタクリレート、ウレタンアクリレート等およびこれらの混合物が挙げられる。
さらにはこれら樹脂の2種以上の共重合体や変性体であってもよい。これらの樹脂は、エマルジョン樹脂、水溶性樹脂、親水性樹脂であってもよい。さらに、熱硬化性樹脂の場合、紫外線硬化型のものであっても、電子線硬化型のものであってもよく、熱硬化性樹脂の場合、硬化触媒が含まれていてもよい。
Specifically, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl Methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, isodecyl methacrylate, n-lauryl acrylate, n-stearyl acrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, perfluorooctylethyl methacrylate, trifluoroethyl methacrylate, urethane acrylate and the like A mixture is mentioned.
Further, it may be a copolymer or modified body of two or more of these resins. These resins may be emulsion resins, water-soluble resins, and hydrophilic resins. Further, in the case of a thermosetting resin, it may be an ultraviolet curable type or an electron beam curable type, and in the case of a thermosetting resin, a curing catalyst may be included.

分散媒
本発明に用いる分散媒としてはマトリックス形成成分、必要に応じて用いる重合開始剤を溶解あるいは分散できるとともに表面処理金属酸化物粒子を均一に分散することができれば特に制限はなく、従来公知の分散媒を用いることができる。
Dispersion medium The dispersion medium used in the present invention is not particularly limited as long as it can dissolve or disperse the matrix-forming component and, if necessary, the polymerization initiator and uniformly disperse the surface-treated metal oxide particles. A dispersion medium can be used.

具体的には、水、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール(IPA)、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、イソプロピルグリコールなどのアルコール類;酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルなどのエステル類;ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルなどのケトン類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、トルエン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。   Specifically, alcohols such as water, methanol, ethanol, propanol, 2-propanol (IPA), butanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol, ethylene glycol, hexylene glycol, isopropyl glycol; acetic acid Esters such as methyl ester, ethyl acetate, butyl acetate; ethers such as diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether Acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetylacetone, acetate Ketones such as acetate, methyl cellosolve, ethylcellosolve, butyl cellosolve, toluene, cyclohexanone, isophorone and the like.

透明被膜形成用塗布液中の表面処理金属酸化物粒子の固形分としての濃度(CP)とマトリックス形成成分の固形分としての濃度(CM)との合計濃度は2〜50重量%、さらには3〜40重量%の範囲にあることが好ましい。
透明被膜形成用塗布液中の合計の固形分濃度が2重量%未満の場合は、透明被膜の膜厚が薄くなる場合があり、透明被膜の性能、例えば、ハードコート性能や反射防止性能が充分でない場合がある。このため、塗布、乾燥等を繰り返して膜厚を厚くすることはできるが経済性が低下する。
透明被膜形成用塗布液中の合計の固形分濃度が50重量%を越えると、塗布液の粘度が高くなるために塗布性が低下したり、塗布液の安定性が不充分となることがあり、得られる透明被膜の密着性、強度等が低下することがある。
The total concentration of the concentration (C P ) as the solid content of the surface-treated metal oxide particles in the coating solution for forming a transparent film and the concentration (C M ) as the solid content of the matrix forming component is 2 to 50% by weight, Is preferably in the range of 3 to 40% by weight.
If the total solid concentration in the coating solution for forming a transparent film is less than 2% by weight, the film thickness of the transparent film may be thin, and the performance of the transparent film, for example, hard coat performance and antireflection performance is sufficient. It may not be. For this reason, although application | coating, drying, etc. can be repeated and a film thickness can be thickened, economical efficiency falls.
If the total solid content in the coating liquid for forming a transparent film exceeds 50% by weight, the viscosity of the coating liquid increases, so that the coating property may be deteriorated or the stability of the coating liquid may be insufficient. In some cases, the adhesiveness, strength, and the like of the resulting transparent film may be reduced.

透明被膜形成用塗布液中の表面処理金属酸化物粒子の固形分としての濃度(CP)は0.1〜40重量%、さらには0.2〜30重量%の範囲にあることが好ましい。
透明被膜形成用塗布液中の表面処理金属酸化物粒子の固形分としての濃度(CP)が0.1重量%未満の場合は、得られる透明被膜中の金属酸化物粒子の含有量が少なくなるために金属酸化物微粒子の特性、例えば、導電性、屈折率等が充分発現されない場合がある。
透明被膜形成用塗布液中の表面処理金属酸化物粒子の固形分としての濃度(CP)が40重量%を越えると、粒子間の相互作用が高く塗料の粘度が上昇し経時安定性が不充分となる場合がある。
The concentration (C P ) as the solid content of the surface-treated metal oxide particles in the coating solution for forming a transparent film is preferably in the range of 0.1 to 40% by weight, more preferably 0.2 to 30% by weight.
When the concentration (C P ) as the solid content of the surface-treated metal oxide particles in the coating liquid for forming a transparent film is less than 0.1% by weight, the content of the metal oxide particles in the obtained transparent film is small. Therefore, the characteristics of the metal oxide fine particles, such as conductivity and refractive index, may not be sufficiently expressed.
When the concentration (C P ) of the surface-treated metal oxide particles in the coating solution for forming a transparent coating exceeds 40% by weight, the interaction between the particles is high, the viscosity of the paint is increased, and the stability over time is not good. May be sufficient.

また、透明被膜形成用塗布液中のマトリックス形成成分の濃度(CM)は固形分として1.9〜49.9重量%、さらには2.8〜40重量%の範囲にあることが好ましい。
透明被膜形成用塗布液中のマトリックス形成成分の濃度(CM)が固形分として1.9重量%未満の場合は、得られる透明被膜の膜厚が薄過ぎたり、透明被膜の性能、例えば、ハードコート性能や反射防止性能が不充分となったり、粒子の割合が多すぎて密着性等が不充分となることがある。
透明被膜形成用塗布液中のマトリックス形成成分の濃度(CM)が固形分として49.9重量%を越えると、得られる透明被膜のマトリックスの含有量が多く、逆に金属酸化物粒子の含有量が少なくなるために金属酸化物微粒子の特性、例えば、導電性、屈折率等が充分発現されない場合がある。
Further, the concentration (C M ) of the matrix forming component in the coating solution for forming a transparent film is preferably in the range of 1.9 to 49.9% by weight, more preferably 2.8 to 40% by weight as the solid content.
When the concentration (C M ) of the matrix-forming component in the coating liquid for forming a transparent film is less than 1.9% by weight as a solid content, the film thickness of the obtained transparent film is too thin, the performance of the transparent film, for example, Hard coat performance and antireflection performance may be insufficient, or the ratio of particles may be too high, resulting in insufficient adhesion.
If the concentration (C M ) of the matrix-forming component in the coating solution for forming the transparent film exceeds 49.9% by weight as the solid content, the content of the matrix of the resulting transparent film is large, and conversely the content of the metal oxide particles Since the amount is small, the characteristics of the metal oxide fine particles, such as conductivity and refractive index, may not be sufficiently exhibited.

また、透明被膜形成用塗布液中の表面処理金属酸化物粒子の固形分としての濃度(CP)とマトリックス形成成分の固形分としての濃度(CM)は、得られる透明被膜中の表面処理金属酸化物粒子の含有量が0.2〜80重量%、さらには0.5〜78重量%の範囲となるように調整して用いる。
得られる透明被膜中の表面処理金属酸化物粒子の含有量が0.2重量%未満の場合は、金属酸化物粒子の含有量が少なくなるために金属酸化物微粒子の特性、例えば、導電性、屈折率等が充分発現されない場合がある。
得られる透明被膜中の表面処理金属酸化物粒子の含有量が80重量%を越えると、粒子の割合が多すぎて密着性、膜強度等が不充分となることがある。
Further, the concentration (C P ) as the solid content of the surface-treated metal oxide particles in the coating solution for forming the transparent coating and the concentration (C M ) as the solid content of the matrix-forming component are determined by the surface treatment in the obtained transparent coating. It is used by adjusting so that the content of the metal oxide particles is in the range of 0.2 to 80% by weight, and further 0.5 to 78% by weight.
When the content of the surface-treated metal oxide particles in the obtained transparent film is less than 0.2% by weight, the content of the metal oxide particles is reduced, so the characteristics of the metal oxide fine particles, for example, conductivity, In some cases, the refractive index or the like is not sufficiently expressed.
If the content of the surface-treated metal oxide particles in the resulting transparent coating exceeds 80% by weight, the proportion of the particles may be too high, resulting in insufficient adhesion and film strength.

本発明に係る透明被膜形成用塗布液を用いて透明被膜を形成する方法として従来公知の方法を採用することができる。
具体的には、透明被膜形成用塗料をディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、バーコート法、スリットコーター印刷法、グラビア印刷法、マイクログラビア印刷法等の周知の方法で基材に塗布し、乾燥し、紫外線照射、加熱処理等常法によって硬化させることによって透明被膜を形成することができる。
A conventionally well-known method can be employ | adopted as a method of forming a transparent film using the coating liquid for transparent film formation concerning this invention.
Specifically, the transparent film-forming paint is applied to the substrate by a known method such as dipping, spraying, spinner, roll coating, bar coating, slit coater printing, gravure printing, or micro gravure printing. A transparent film can be formed by applying, drying, and curing by an ordinary method such as ultraviolet irradiation or heat treatment.

[透明被膜付基材]
本発明に係る透明被膜付基材は、基材と、基材上に設けられた透明被膜とからなっている。
[Base material with transparent film]
The base material with a transparent film according to the present invention includes a base material and a transparent film provided on the base material.

基材
基材としては、従来公知の基材を用いることができ、ガラスの他、トリアセチルセルロースフィルム(TAC)、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム等のセルロース系基材、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系基材、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、環状ポリオレフィンフィルム等のポリオレフィン系基材、ナイロン−6、ナイロン−66等のポリアミド系基材、ポリアクリル系フィルム、ポリウレタン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、アクリロニトリルフィルム等の基材が挙げられる。また、このような基材上に他の被膜が形成された被膜付基材を用いこともできる。
As the base material , a conventionally known base material can be used. In addition to glass, cellulose base materials such as triacetyl cellulose film (TAC), diacetyl cellulose film, acetate butyrate cellulose film, polyethylene terephthalate (PET) ), Polyester base materials such as polyethylene naphthalate, polyolefin base materials such as polyethylene film, polypropylene film and cyclic polyolefin film, polyamide base materials such as nylon-6, nylon-66, polyacrylic film, polyurethane film , Substrates such as polycarbonate film, polyether film, polyethersulfone film, polystyrene film, polymethylpentene film, polyetherketone film, acrylonitrile film And the like. Moreover, the base material with a film in which the other base film was formed on such a base material can also be used.

透明被膜
透明被膜はマトリックス成分と表面処理金属酸化物粒子とからなっている。
表面処理金属酸化物粒子
表面処理金属酸化物粒子としては前記した表面処理金属酸化物粒子が用いられる。
Transparent coating The transparent coating comprises a matrix component and surface-treated metal oxide particles.
Surface-treated metal oxide particles As the surface-treated metal oxide particles, the aforementioned surface-treated metal oxide particles are used.

マトリックス成分
マトリックス成分としては、シリコーン系(ゾルゲル系)マトリックス成分、有機樹脂系マトリックス成分等が用いられる。
シリコーン系マトリックス成分としては前記式(3)と同様の有機珪素化合物の加水分解重縮合物が好適に用いられる。
また、有機樹脂系マトリックス成分としては、前記した塗料用樹脂として公知の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、電子線硬化樹脂等が用いられる。
As the matrix component , a silicone (sol-gel) matrix component, an organic resin matrix component, or the like is used.
As the silicone matrix component, a hydrolyzed polycondensate of an organosilicon compound similar to the formula (3) is preferably used.
In addition, as the organic resin matrix component, a known thermosetting resin, thermoplastic resin, electron beam curable resin, or the like is used as the coating resin.

透明被膜中の表面処理金属酸化物粒子の含有量は固形分として0.2〜80重量%、さらには0.5〜78重量%の範囲にあることが好ましい。
透明被膜中の表面処理金属酸化物粒子の含有量が0.2重量%未満の場合は、金属酸化物粒子の含有量が少なくなるために金属酸化物微粒子の特性、例えば、導電性、屈折率等が充分発現されない場合がある。
透明被膜中の表面処理金属酸化物粒子の含有量が80重量%を越えると、粒子の割合が多すぎて密着性、膜強度等が不充分となることがある。
The content of the surface-treated metal oxide particles in the transparent film is preferably in the range of 0.2 to 80% by weight, more preferably 0.5 to 78% by weight as the solid content.
When the content of the surface-treated metal oxide particles in the transparent film is less than 0.2% by weight, the content of the metal oxide particles decreases, so the characteristics of the metal oxide fine particles, such as conductivity, refractive index, etc. May not be sufficiently expressed.
If the content of the surface-treated metal oxide particles in the transparent coating exceeds 80% by weight, the proportion of the particles may be too high, resulting in insufficient adhesion and film strength.

また、透明被膜の膜厚は用途によっても異なるが、30nm〜50μm、さらには50nm〜30μmの範囲にあることが好ましい。
透明被膜の厚さが前記範囲の下限未満の場合は、膜厚が薄く反射防止性能が不充分となったり、ハードコート膜が薄いためにハードコート膜表面に加わる応力を充分吸収することがでないために、ハードコート機能が不充分となる。
Moreover, although the film thickness of a transparent film changes with uses, it is preferable that it exists in the range of 30 nm-50 micrometers, Furthermore, 50 nm-30 micrometers.
When the thickness of the transparent film is less than the lower limit of the above range, the film thickness is thin and the antireflection performance is insufficient, and the stress applied to the hard coat film surface is not sufficiently absorbed because the hard coat film is thin. Therefore, the hard coat function is insufficient.

透明被膜の厚さが前記範囲の上限を越えると、膜の厚さが均一になるように塗布したり、均一に乾燥することが困難となり、さらに収縮が大きくなるのでカーリング(ハードコート膜付基材が湾曲)が生じることがある。また、膜厚が厚すぎて透明性が不充分となることがある。
本発明に係る透明被膜付基材には、目的または効果を異にした他の被膜を設けることができる。
If the thickness of the transparent film exceeds the upper limit of the above range, it becomes difficult to apply the film to a uniform thickness or to dry uniformly, and further shrinkage increases. The material may be curved). Also, the film thickness may be too thick and the transparency may be insufficient.
The base material with a transparent film according to the present invention can be provided with other films having different purposes or effects.

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited by these Examples.

表面処理金属酸化物粒子(1)の調製
五酸化アンチモン微粒子の水分散液(触媒化成工業(株)製:Rsb-Ku-70、固形分濃度14重量%、平均粒子径20nm)100gを純水100gで希釈した。これにγ−アミノプロピルトリエトキシシラン(信越化学製:KBE-603、濃度81.2重量%)1.4gを添加し、60℃で1時間熟成した。その後、γ-メタアクリロオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学製:KBM-503、濃度81.2重量%)5g、メタノール100gおよび濃度29.8重量%のアンモニア水1gを添加し、さらに60℃で5時間熟成した。その後、セラミック製限外膜を用いて2-プロパノールに溶剤置換し、固形分濃度30重量%の表面処理金属酸化物粒子(1)の 2-プロパノール分散液を調製した。表面処理金属酸化物粒子(1)の平均粒子径を表に示した。
Preparation of surface-treated metal oxide particles (1 ) 100 g of an aqueous dispersion of antimony pentoxide fine particles (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: Rsb-Ku-70, solid content concentration 14 wt%, average particle size 20 nm) Dilute with 100 g. 1.4 g of γ-aminopropyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBE-603, concentration 81.2% by weight) was added thereto and aged at 60 ° C. for 1 hour. Thereafter, 5 g of γ-methacrylooxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical: KBM-503, concentration: 81.2 wt%), 100 g of methanol and 1 g of ammonia water having a concentration of 29.8 wt% were added, and further 60 ° C. For 5 hours. Thereafter, the solvent was replaced with 2-propanol using a ceramic limit membrane to prepare a 2-propanol dispersion of surface-treated metal oxide particles (1) having a solid content concentration of 30% by weight. The average particle diameter of the surface-treated metal oxide particles (1) is shown in the table.

透明被膜形成用塗布液(1)の調製
アクリル系樹脂(大日本インキ(株)製:17-824-9、樹脂濃度:79.8重量%、溶媒:イソプロピルアルコール)をイソプロピルアルコールで希釈して樹脂濃度30重量%の透明被膜形成用樹脂成分(1)を調製した。
この透明被膜形成用樹脂成分(1)10gに、表面処理金属酸化物粒子(1)分散液10gを混合して透明被膜形成用塗布液(1)を調製した。
Transparent film-forming coating liquid (1) Preparation of acrylic resin (Dainippon Ink Co., Ltd.: 17-824-9, resin concentration: 79.8 wt%, solvent: isopropyl alcohol) to the diluted with isopropyl alcohol A resin component (1) for forming a transparent film having a resin concentration of 30% by weight was prepared.
A coating solution (1) for forming a transparent film was prepared by mixing 10 g of the surface-treated metal oxide particle (1) dispersion with 10 g of this resin component (1) for forming a transparent film.

塗布液の分散安定性の評価
透明被膜形成用塗布液(1)の粘度をB型粘度計で測定し、その後50℃の恒温槽にて24時間静置し、その後再度粘度を測定し粘度の変化を確認した。この時の粘度の変化が小さなものほど安定性に優れ、大きなものほど安定性が劣る。結果を表に示した。
Evaluation of dispersion stability of coating liquid The viscosity of the coating liquid for forming a transparent film (1) was measured with a B-type viscometer, and then allowed to stand in a thermostatic bath at 50 ° C. for 24 hours. The change was confirmed. The smaller the change in viscosity at this time, the better the stability, and the larger the viscosity, the poorer the stability. The results are shown in the table.

透明被膜付基材(1)の製造
透明被膜形成用塗布液(1)を、PETフィルム(東洋紡製コスモシャイン A4100、厚さ:188μm、屈折率:1.67、基材ヘーズ0.8%)にバーコーター法(#20)で塗布し、80℃で120秒間乾燥した後、600mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(1)を製造した。このときの透明被膜の厚さは10μmであった。
得られた透明被膜の表面抵抗値をハイレスタ(三菱化学製)、全光線透過率およびヘーズをヘーズメーター(スガ試験機(株)製)により測定し、反射率を反射率計(大塚電子製MCPD-3000)で測定し、結果を表に示した。さらに、耐擦傷性および耐アルカリ性、耐湿性を次のように測定した。
Production of substrate with transparent coating (1) Coating solution (1) for forming transparent coating was applied to a PET film (Toyobo Cosmo Shine A4100, thickness: 188 μm, refractive index: 1.67, substrate haze 0.8%). After coating by the coater method (# 20) and drying at 80 ° C. for 120 seconds, the substrate with transparent coating (1) was produced by irradiating and curing with 600 mJ / cm 2 ultraviolet rays. The thickness of the transparent film at this time was 10 μm.
The surface resistance value of the obtained transparent coating was measured with Hiresta (Mitsubishi Chemical), the total light transmittance and haze were measured with a haze meter (Suga Test Instruments Co., Ltd.), and the reflectance was measured with a reflectometer (MCPD manufactured by Otsuka Electronics). -3000) and the results are shown in the table. Furthermore, scratch resistance, alkali resistance, and moisture resistance were measured as follows.

耐擦傷性の測定
#0000スチールウールを用い、荷重1000g/cm2で20回摺動し、膜の表面を目視観察し、以下の基準で評価し、結果を表に示した。
筋条の傷が認められない :◎
筋条に傷が僅かに認められる:○
筋条に傷が多数認められる :△
面が全体的に削られている :×
Measurement of scratch resistance Using # 0000 steel wool, sliding 20 times at a load of 1000 g / cm 2 , visually observing the surface of the film, and evaluating according to the following criteria, the results are shown in the table.
No streak injury is found: ◎
Slightly scratched streak: ○
Many scratches are found in the streak: △
The surface has been cut entirely: ×

耐アルカリ性の評価
透明被膜付基材(1)の透明被膜上に、0.01NのNaOH水溶液を滴下し、3分間放置した後拭き取り、膜の表面を目視観察し、以下の基準で評価し、結果を表に示した。
滴下跡が認められない :◎
息をかけると滴下後が認められる:○
滴下跡が認められる :△
膜面が全体的に剥れている :×
Evaluation of alkali resistance On the transparent film of the substrate with a transparent film (1), a 0.01N NaOH aqueous solution was dropped, left to stand for 3 minutes, wiped, the surface of the film was visually observed, and evaluated according to the following criteria: The results are shown in the table.
No trace of dripping: ◎
After breathing is observed when breathing: ○
Dripping marks are observed: △
The film surface is totally peeled: ×

耐湿テスト
透明被膜付基材(1)をタバイエスペック製の環境試験機にて60℃、RH95%の条件で1000時間放置し、暴露前後の反射率の測定及び目視にて膜のクラックの確認を行った。
また、目視にてクラックが発生しているものについては反射率の評価は実施しなかった。
Moisture resistance test substrate with transparent coating (1) is left in an environmental testing machine manufactured by Tabay Espec for 60 hours at 60 ° C. and RH 95% for 1000 hours, and measurement of reflectance before and after exposure and visual confirmation of film cracks went.
Moreover, the reflectance was not evaluated about what has cracked visually.

表面処理金属酸化物粒子(2)の調製
実施例1において、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン(信越化学製:KBE-603)を0.7g用いた以外は同様にして固形分濃度30重量%の表面処理金属酸化物粒子(2) 2-プロパノール分散液を調製した。表面処理金属酸化物粒子(2)の平均粒子径を表に示した。
Preparation of surface-treated metal oxide particles (2) In Example 1, a solid content concentration of 30% by weight was similarly obtained except that 0.7 g of γ-aminopropyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical: KBE-603) was used. Surface-treated metal oxide particles (2) A 2-propanol dispersion was prepared. The average particle diameter of the surface-treated metal oxide particles (2) is shown in the table.

透明被膜形成用塗布液(2)の調製
実施例1において、表面処理金属酸化物粒子(2) 2-プロパノール分散液10gを混合した以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(2)を調製した。
ついで実施例1と同様に塗布液の分散安定性の評価を行い、結果を表に示した。
Preparation of coating solution for forming transparent film (2) In Example 1, the coating solution for forming transparent film (2) was prepared in the same manner except that 10 g of the surface-treated metal oxide particles (2) 2-propanol dispersion was mixed. did.
Subsequently, the dispersion stability of the coating solution was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

透明被膜付基材(2)の製造
実施例1において、透明被膜形成用塗布液(2)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(2)を製造した。このときの透明被膜の厚さは10μmであった。
透明被膜付基材(2)について、実施例1と同様の評価を行い、結果を表に示した。
In the production example 1 of the substrate with a transparent film (2), except that the transparent film-forming coating liquid (2) was prepared substrate with a transparent film (2) in the same manner. The thickness of the transparent film at this time was 10 μm.
The base material with a transparent coating (2) was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

表面処理金属酸化物粒子(3)の調製
実施例1において、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン(信越化学製:KBE-603)を5.6g用いた以外は同様にして固形分濃度30重量%の表面処理金属酸化物粒子(3) 2-プロパノール分散液を調製した。表面処理金属酸化物粒子(3)の平均粒子径を表に示した。
Preparation of surface-treated metal oxide particles (3) In Example 1, a solid content concentration of 30% by weight was used except that 5.6 g of γ-aminopropyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical: KBE-603) was used. Surface-treated metal oxide particles (3) A 2-propanol dispersion was prepared. The average particle diameter of the surface-treated metal oxide particles (3) is shown in the table.

透明被膜形成用塗布液(3)の調製
実施例1において、表面処理金属酸化物粒子(3) 2-プロパノール分散液10gを混合した以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(3)を調製した。
ついで実施例1と同様に塗布液の分散安定性の評価を行い、結果を表に示した。
Preparation of transparent coating film forming coating solution (3) In Example 1, a transparent coating film forming coating solution (3) was prepared in the same manner except that 10 g of the surface-treated metal oxide particles (3) 2-propanol dispersion was mixed. did.
Subsequently, the dispersion stability of the coating solution was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

透明被膜付基材(3)の製造
実施例1において、透明被膜形成用塗布液(3)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(3)を製造した。このときの透明被膜の厚さは10μmであった。
透明被膜付基材(3)について、実施例1と同様の評価を行い、結果を表に示した。
In the production example 1 of the substrate with a transparent film (3), except that the transparent film-forming coating liquid (3) was prepared substrate with a transparent film (3) in the same manner. The thickness of the transparent film at this time was 10 μm.
The substrate with transparent film (3) was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

表面処理金属酸化物粒子(4)の調製
実施例1において、γ-メタアクリロオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学製:KBM-503)1.0gを用いた以外は同様にして固形分濃度30重量%の表面処理金属酸化物粒子(4) 2-プロパノール分散液を調製した。表面処理金属酸化物粒子(4)の平均粒子径を表に示した。
Preparation of surface-treated metal oxide particles (4) In Example 1, the solid content concentration was 30 except that 1.0 g of γ-methacrylooxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical: KBM-503) was used. Weight% surface-treated metal oxide particles (4) A 2-propanol dispersion was prepared. The average particle diameter of the surface-treated metal oxide particles (4) is shown in the table.

透明被膜形成用塗布液(4)の調製
実施例1において、表面処理金属酸化物粒子(4) 2-プロパノール分散液10gを混合した以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(4)を調製した。
ついで実施例1と同様に塗布液の分散安定性の評価を行い、結果を表に示した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (4) In Example 1, a coating liquid for forming transparent film (4) was prepared in the same manner except that 10 g of the surface-treated metal oxide particles (4) 2-propanol dispersion was mixed. did.
Subsequently, the dispersion stability of the coating solution was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

透明被膜付基材(4)の製造
実施例1において、透明被膜形成用塗布液(4)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(4)を製造した。このときの透明被膜の厚さは10μmであった。
透明被膜付基材(4)について、実施例1と同様の評価を行い、結果を表に示した。
Production of substrate with transparent film (4) A substrate with transparent film (4) was produced in the same manner as in Example 1, except that the coating liquid for forming a transparent film (4) was used. The thickness of the transparent film at this time was 10 μm.
The base material with transparent film (4) was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

表面処理金属酸化物粒子(5)の調製
実施例1において、γ-メタアクリロオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学製:KBM-503)15gを用いた以外は同様にして固形分濃度30重量%の表面処理金属酸化物粒子(5) 2-プロパノール分散液を調製した。表面処理金属酸化物粒子(5)の平均粒子径を表に示した。
Preparation of surface-treated metal oxide particles (5) A solid content concentration of 30% by weight was obtained in the same manner as in Example 1, except that 15 g of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical: KBM-503) was used. Surface treated metal oxide particles (5) A 2-propanol dispersion was prepared. The average particle diameter of the surface-treated metal oxide particles (5) is shown in the table.

透明被膜形成用塗布液(5)の調製
実施例1において、表面処理金属酸化物粒子(5) 2-プロパノール分散液10gを混合した以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(5)を調製した。
ついで実施例1と同様に塗布液の分散安定性の評価を行い、結果を表に示した。
Preparation of coating solution for forming transparent film (5) In Example 1, a coating solution for forming transparent film (5) was prepared in the same manner except that 10 g of the surface-treated metal oxide particles (5) 2-propanol dispersion was mixed. did.
Subsequently, the dispersion stability of the coating solution was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

透明被膜付基材(5)の製造
実施例1において、透明被膜形成用塗布液(5)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(5)を製造した。このときの透明被膜の厚さは10μmであった。
透明被膜付基材(5)について、実施例1と同様の評価を行い、結果を表に示した。
Production of substrate with transparent film (5) A substrate with transparent film (5) was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming a transparent film (5) was used. The thickness of the transparent film at this time was 10 μm.
The substrate with transparent film (5) was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

表面処理金属酸化物粒子(6)の調製
酸化チタン・ジルコニア・シリカ系微粒子のメタノール分散液(触媒化成工業(株)製:オプトレイク1130ZS7A8、固形分濃度20重量%、平均粒子径20nm)100gを純水100gで希釈した。ついでγ−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学製:KBM-603、濃度81.2重量%)2gを添加し、60℃で1時間熟成した。その後γ-アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学製:KBM-5103、濃度81.2重量%)10g、メタノール100gおよび濃度29.8重量%のアンモニア水1gを添加し、さらに60℃で5時間熟成した。その後、セラミック製限外膜を用いて2-プロパノールに溶剤置換し、固形分濃度30重量%の表面処理金属酸化物粒子(6) 2-プロパノール分散液を調製した。表面処理金属酸化物粒子(6)の平均粒子径を表に示した。
Preparation of surface-treated metal oxide particles (6 ) 100 g of methanol dispersion of titanium oxide, zirconia, and silica-based fine particles (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: Optlake 1130ZS7A8, solid content concentration 20 wt%, average particle diameter 20 nm) Diluted with 100 g of pure water. Subsequently, 2 g of γ-aminopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical: KBM-603, concentration 81.2 wt%) was added and aged at 60 ° C. for 1 hour. Thereafter, 10 g of γ-acryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-5103, concentration 81.2 wt%), 100 g of methanol and 1 g of ammonia water having a concentration of 29.8 wt% were added. Aged for hours. Thereafter, the solvent was replaced with 2-propanol using a ceramic outer membrane to prepare a surface-treated metal oxide particle (6) 2-propanol dispersion having a solid concentration of 30% by weight. The average particle diameter of the surface-treated metal oxide particles (6) is shown in the table.

透明被膜形成用塗布液(6)の調製
実施例1において、表面処理金属酸化物粒子(6) 2-プロパノール分散液10gを混合した以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(6)を調製した。
ついで実施例1と同様に塗布液の分散安定性の評価を行い、結果を表に示した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (6) In Example 1, the coating liquid for forming transparent film (6) was prepared in the same manner as in Example 1, except that 10 g of the surface-treated metal oxide particles (6) 2-propanol dispersion was mixed. did.
Subsequently, the dispersion stability of the coating solution was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

透明被膜付基材(6)の製造
実施例1において、透明被膜形成用塗布液(6)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(6)を製造した。このときの透明被膜の厚さは10μmであった。
透明被膜付基材(6)について、実施例1と同様の評価を行い、結果を表に示した。
Production of substrate with transparent film (6) A substrate with transparent film (6) was produced in the same manner as in Example 1, except that the coating liquid for forming a transparent film (6) was used. The thickness of the transparent film at this time was 10 μm.
The substrate with transparent film (6) was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

表面処理金属酸化物粒子(7)の調製
ジルコニア・シリカ系微粒子の水分散液(触媒化成工業(株)製:固形分濃度5重量%、平均粒子径20nm)100gにN−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学製:KBM-903、濃度81.2重量%)1gを添加し、60℃で1時間熟成した。その後、γ-アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学製:KBM-5103、濃度81.2重量%)0.5g、メタノール100gおよび濃度29.8重量%のアンモニア水0.1gを添加し、さらに60℃で5時間熟成した。その後、セラミック製限外膜を用いて2-プロパノールに溶剤置換し、固形分濃度30重量%の表面処理金属酸化物粒子(7) 2-プロパノール分散液を調製した。表面処理金属酸化物粒子(7)の平均粒子径を表に示した。
Surface-treated metal oxide particles (7) Water dispersion of Preparation zirconia silica-based fine particles (Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. having a solid part concentration of 5% by weight, average particle diameter 20 nm) in 100 g N-beta (aminoethyl) 1 g of γ-aminopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-903, concentration 81.2 wt%) was added and aged at 60 ° C. for 1 hour. Thereafter, 0.5 g of γ-acryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical: KBM-5103, concentration 81.2 wt%), 100 g of methanol and 0.1 g of aqueous ammonia having a concentration of 29.8 wt% were added, Further, it was aged at 60 ° C. for 5 hours. Thereafter, the solvent was replaced with 2-propanol using a ceramic outer membrane to prepare a surface-treated metal oxide particle (7) 2-propanol dispersion having a solid content concentration of 30% by weight. The average particle diameter of the surface-treated metal oxide particles (7) is shown in the table.

透明被膜形成用塗布液(7)の調製
実施例1において、表面処理金属酸化物粒子(7) 2-プロパノール分散液10gを混合した以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(7)を調製した。
ついで実施例1と同様に塗布液の分散安定性の評価を行い、結果を表に示した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (7) A coating liquid for forming transparent film (7) was prepared in the same manner as in Example 1 except that 10 g of the surface-treated metal oxide particles (7) 2-propanol dispersion was mixed. did.
Subsequently, the dispersion stability of the coating solution was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

透明被膜付基材(7)の製造
実施例1において、透明被膜形成用塗布液(7)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(7)を製造した。このときの透明被膜の厚さは10μmであった。
透明被膜付基材(7)について、実施例1と同様の評価を行い、結果を表に示した。
Production of substrate with transparent film (7) A substrate with transparent film (7) was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming a transparent film (7) was used. The thickness of the transparent film at this time was 10 μm.
The substrate with transparent film (7) was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

表面処理金属酸化物粒子(8)の調製
アンチモンドープ酸化スズ(ATO)微粒子の水分散液(触媒化成工業(株)製:TL-98-FDAR:固形分濃度20重量%、平均粒子径8nm)100gを純水100gで希釈し、ついでN−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学製:KBM-903、濃度81.2重量%)10gを添加し、60℃で1時間熟成した。その後、γ-アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学製:KBM-5103、濃度81.2重量%)20g、メタノール100gおよび濃度29.8重量%のアンモニア水0.1gを添加し、さらに60℃で5時間熟成した。その後、セラミック製限外膜を用いて2-プロパノールに溶剤置換し、固形分濃度30重量%の表面処理金属酸化物粒子(8) 2-プロパノール分散液を調製した。表面処理金属酸化物粒子(8)の平均粒子径を表に示した。
Surface-treated metal oxide particles (8) Preparation of antimony-doped tin oxide (ATO) aqueous dispersion of fine particles (Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd.: TL-98-FDAR: solid content concentration of 20 wt%, average particle size 8 nm) 100 g was diluted with 100 g of pure water, then 10 g of N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical: KBM-903, concentration 81.2 wt%) was added, and the mixture was heated at 60 ° C. for 1 hour. Aged. Thereafter, 20 g of γ-acryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-5103, concentration 81.2 wt%), 100 g of methanol, and 0.1 g of ammonia water having a concentration of 29.8 wt% were added, and further 60 Aging was carried out at 5 ° C. for 5 hours. Thereafter, the solvent was replaced with 2-propanol using a ceramic outer membrane to prepare a surface-treated metal oxide particle (8) 2-propanol dispersion having a solid content concentration of 30% by weight. The average particle diameter of the surface-treated metal oxide particles (8) is shown in the table.

透明被膜形成用塗布液(8)の調製
実施例1において、表面処理金属酸化物粒子(8) 2-プロパノール分散液10gを混合した以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(8)を調製した。
ついで実施例1と同様に塗布液の分散安定性の評価を行い、結果を表に示した。
Prepared in Preparation Example 1 of the transparent film-forming coating liquid (8), a surface treated metal oxide particles (8) 2-propanol dispersion except that a mixture of 10g in the same manner transparent film-forming coating liquid (8) did.
Subsequently, the dispersion stability of the coating solution was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

透明被膜付基材(8)の製造
実施例1において、透明被膜形成用塗布液(8)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(8)を製造した。このときの透明被膜の厚さは10μmであった。
透明被膜付基材(8)について、実施例1と同様の評価を行い、結果を表に示した。
Production of substrate with transparent film (8) A substrate with transparent film (8) was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming a transparent film (8) was used. The thickness of the transparent film at this time was 10 μm.
The substrate with transparent coating (8) was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

透明被膜形成用塗布液(9)の調製
アクリル-ウレタン系樹脂(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートUA-306H、樹脂濃度100重量%、溶媒:イソプロピルアルコール)とイルガキュア184(チバスペシャリティ(株)製)を97:3の重量比率で混合し、メチルイソブチルケトン(MIBK)で希釈して樹脂濃度30重量%の透明被膜形成用樹脂成分(2)を調製した。
この透明被膜形成用樹脂成分(2)10gに、実施例1と同様に調製した表面処理金属酸化物粒子(1)分散液10gを混合して透明被膜形成用塗布液(9)を調製した。ついで実施例1と同様に塗布液の分散安定性の評価を行った。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (9) Acrylic-urethane resin (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate UA-306H, resin concentration 100% by weight, solvent: isopropyl alcohol) and Irgacure 184 (Ciba Specialty Co., Ltd.) Manufactured at a weight ratio of 97: 3 and diluted with methyl isobutyl ketone (MIBK) to prepare a resin component (2) for forming a transparent film having a resin concentration of 30% by weight.
10 g of the surface-treated metal oxide particle (1) dispersion prepared in the same manner as in Example 1 was mixed with 10 g of this transparent film-forming resin component (2) to prepare a coating liquid (9) for forming a transparent film. Subsequently, the dispersion stability of the coating solution was evaluated in the same manner as in Example 1.

透明被膜付基材(9)の製造
実施例1において、透明被膜形成用塗布液(9)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(9)を製造した。このときの透明被膜の厚さは10μmであった。
透明被膜付基材(9)について、実施例1と同様の評価を行い、結果を表に示した。
In the production example 1 of the substrate with a transparent film (9), except that the transparent film-forming coating liquid (9) was prepared substrate with a transparent film (9) in a similar manner. The thickness of the transparent film at this time was 10 μm.
The base material with a transparent film (9) was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

透明被膜形成用塗布液(10)の調製
メチルシリケート(多摩化学(株)製:MS-51、濃度SiO2換算:51重量%)10gとイソプロピルアルコール40g、水1gおよび濃度63重量%の硝酸0.1gを混合し、50℃にて1時間攪拌した。その後、イソプロピルアルコール/ブチルセロソルブ=9/1混合液で濃度3重量%に希釈して透明被膜形成用樹脂成分(3)を調製した。
この透明被膜形成用樹脂成分(3)7gに、実施例1と同様にして調製した表面処理金属酸化物粒子(1)分散液10gをイソプロピルアルコールにて濃度3重量%に希釈したものを3g混合して透明被膜形成用塗布液(10)を調製した。ついで実施例1と同様に塗布液の分散安定性の評価を行った。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (10) 10 g of methyl silicate (manufactured by Tama Chemical Co., Ltd .: MS-51, concentration SiO 2 conversion: 51% by weight), 40 g of isopropyl alcohol, 1 g of water and 0% nitric acid with a concentration of 63% by weight 0.1 g was mixed and stirred at 50 ° C. for 1 hour. Then, the resin component for transparent film formation (3) was prepared by diluting with a isopropyl alcohol / butyl cellosolve = 9/1 mixture to a concentration of 3% by weight.
7 g of this transparent film-forming resin component (3) was mixed with 3 g of 10 g of the surface-treated metal oxide particle (1) dispersion prepared in the same manner as in Example 1 and diluted to 3% by weight with isopropyl alcohol. Thus, a coating liquid (10) for forming a transparent film was prepared. Subsequently, the dispersion stability of the coating solution was evaluated in the same manner as in Example 1.

透明被膜付基材(10)の製造
実施例1において、透明被膜形成用塗布液(10)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(10)を製造した。このときの透明被膜の厚さは10μmであった。
透明被膜付基材(10)について、実施例1と同様の評価を行い、結果を表に示した。
Production of substrate with transparent film (10) A substrate with transparent film (10) was produced in the same manner as in Example 1, except that the coating liquid for forming a transparent film (10) was used. The thickness of the transparent film at this time was 10 μm.
About the base material (10) with a transparent film, evaluation similar to Example 1 was performed and the result was shown to the table | surface.

透明被膜付基材(11)の製造
実施例1と同様にして調製した透明被膜形成用塗布液(1)をバーコーター法(#3)で塗布した以外は同様にして透明被膜付基材(11)を製造した。このときの透明被膜の厚さは500nmであった。
透明被膜付基材(11)について、実施例1と同様の評価を行い、結果を表に示した。
Production of transparent coated substrate (11) Transparent coated substrate (11) prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating solution (1) for forming a transparent coating was applied by the bar coater method (# 3). 11) was produced. The thickness of the transparent film at this time was 500 nm.
The substrate with transparent coating (11) was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

透明被膜付基材(12)の製造
実施例1と同様にして調製した透明被膜形成用塗布液(1)をバーコーター法(#50)で塗布した以外は同様にして透明被膜付基材(12)を製造した。このときの透明被膜の厚さは30μmであった。
透明被膜付基材(12)について、実施例1と同様の評価を行い、結果を表に示した。
Preparation of substrate with transparent coating (12) Transparent coating-coated substrate (12) prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating solution (1) for transparent coating formation was applied by the bar coater method (# 50). 12) was manufactured. The thickness of the transparent film at this time was 30 μm.
About the base material (12) with a transparent film, evaluation similar to Example 1 was performed and the result was shown in the table | surface.

比較例1Comparative Example 1

表面処理金属酸化物粒子(R1)の調製
五酸化アンチモン微粒子の水分散液(触媒化成工業(株)製:Rsb-Ku-70、固形分濃度14重量%、平均粒子径20nm)100gを純水100gで希釈した。その後、γ-メタアクリロオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学製:KBM-503、濃度81.2重量%)5g、メタノール100gおよび濃度29.8重量%のアンモニア水1gを添加し、さらに60℃で5時間熟成した。その後、セラミック製限外膜を用いて2-プロパノールに溶剤置換した。分散液は途中で粘度が上昇しゲル化してしまい、分散液を得ることができなかった。
Preparation of surface-treated metal oxide particles (R1 ) 100 g of an aqueous dispersion of antimony pentoxide fine particles (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: Rsb-Ku-70, solid content concentration 14 wt%, average particle size 20 nm) Dilute with 100 g. Thereafter, 5 g of γ-methacrylooxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-503, concentration 81.2 wt%), 100 g of methanol and 1 g of ammonia water having a concentration of 29.8 wt% were added, and further 60 ° C. For 5 hours. Thereafter, the solvent was replaced with 2-propanol using a ceramic limit membrane. The dispersion increased in viscosity and gelled, and a dispersion could not be obtained.

比較例2Comparative Example 2

表面処理金属酸化物粒子(R2)の調製
五酸化アンチモン微粒子の水分散液(触媒化成工業(株)製:Rsb-Ku-70、固形分濃度14重量%、平均粒子径20nm)100gを純水100gで希釈した。ついでγ−アミノプロピルトリエトキシシラン(信越化学製:KBE-603、濃度81.2重量%)1.4gを添加し、60℃で1時間熟成した。その後、セラミック製限外膜を用いて2-プロパノールに溶剤置換し、固形分濃度30重量%の表面処理金属酸化物粒子(R2) 2-プロパノール分散液を調製した。表面処理金属酸化物粒子(R2)の平均粒子径を表に示した。
Preparation of surface-treated metal oxide particles (R2 ) 100 g of an aqueous dispersion of antimony pentoxide fine particles (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: Rsb-Ku-70, solid content concentration 14 wt%, average particle size 20 nm) Dilute with 100 g. Subsequently, 1.4 g of γ-aminopropyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBE-603, concentration 81.2% by weight) was added and aged at 60 ° C. for 1 hour. Thereafter, the solvent was replaced with 2-propanol using a ceramic outer membrane, and a surface-treated metal oxide particle (R2) 2-propanol dispersion having a solid content concentration of 30% by weight was prepared. The average particle diameter of the surface-treated metal oxide particles (R2) is shown in the table.

透明被膜形成用塗布液(R2)の調製
実施例1において、表面処理金属酸化物粒子(R2) 2-プロパノール分散液10gを混合した以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(R2)を調製した。
ついで実施例1と同様に塗布液の分散安定性の評価を行い、結果を表に示した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (R2) In Example 1, the coating liquid for forming transparent film (R2) was prepared in the same manner except that 10 g of the surface-treated metal oxide particles (R2) 2-propanol dispersion was mixed. did.
Subsequently, the dispersion stability of the coating solution was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

透明被膜付基材(R2)の製造
実施例1において、透明被膜形成用塗布液(R2)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R2)を製造した。このときの透明被膜の厚さは10μmであった。
透明被膜付基材(R2)について、実施例1と同様の評価を行い、結果を表に示した。
In the production example 1 of the substrate with a transparent film (R2), except that the transparent film-forming coating liquid (R2) was prepared substrate with a transparent film (R2) in a similar manner. The thickness of the transparent film at this time was 10 μm.
The substrate with a transparent coating (R2) was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

比較例3Comparative Example 3

表面処理金属酸化物粒子(R3)の調製
五酸化アンチモン微粒子の水分散液(触媒化成工業(株)製:Rsb-Ku-70、固形分濃度14重量%、平均粒子径20nm)100gを純水100gで希釈した。ついで正珪酸エチル(多摩化学製:ES-28、濃度28.8重量%)3.6gを添加し、60℃で1時間熟成した。その後、γ-メタアクリロオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学製:KBM-503、濃度81.2重量%)5g、メタノール100gおよび濃度29.8重量%のアンモニア水1gを添加し、さらに60℃で5時間熟成した。その後、セラミック製限外膜を用いて2-プロパノールに溶剤置換し、固形分濃度30重量%の表面処理金属酸化物粒子(R3) 2-プロパノール分散液を調製した。表面処理金属酸化物粒子(R3)の平均粒子径を表に示した。
Preparation of surface-treated metal oxide particles (R3 ) 100 g of an aqueous dispersion of antimony pentoxide fine particles (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: Rsb-Ku-70, solid content concentration 14 wt%, average particle size 20 nm) Dilute with 100 g. Subsequently, 3.6 g of normal ethyl silicate (manufactured by Tama Chemicals: ES-28, concentration 28.8 wt%) was added, and the mixture was aged at 60 ° C. for 1 hour. Thereafter, 5 g of γ-methacrylooxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-503, concentration 81.2 wt%), 100 g of methanol and 1 g of ammonia water having a concentration of 29.8 wt% were added, and further 60 ° C. For 5 hours. Thereafter, the solvent was replaced with 2-propanol using a ceramic outer membrane to prepare a surface-treated metal oxide particle (R3) 2-propanol dispersion having a solid content concentration of 30% by weight. The average particle diameter of the surface-treated metal oxide particles (R3) is shown in the table.

透明被膜形成用塗布液(R3)の調製
実施例1において、表面処理金属酸化物粒子(R3) 2-プロパノール分散液10gを混合した以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(R3)を調製した。
ついで実施例1と同様に塗布液の分散安定性の評価を行い、結果を表に示した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (R3) In Example 1, the coating liquid for forming transparent film (R3) was prepared in the same manner except that 10 g of the surface-treated metal oxide particles (R3) 2-propanol dispersion was mixed. did.
Subsequently, the dispersion stability of the coating solution was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

透明被膜付基材(R3)の製造
実施例1において、透明被膜形成用塗布液(R3)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R3)を製造した。このときの透明被膜の厚さは10μmであった。
透明被膜付基材(R3)について、実施例1と同様の評価を行い、結果を表に示した。
Production of substrate with transparent coating (R3) A substrate with transparent coating (R3) was produced in the same manner as in Example 1, except that the coating solution for forming a transparent coating (R3) was used. The thickness of the transparent film at this time was 10 μm.
About the base material with a transparent film (R3), evaluation similar to Example 1 was performed and the result was shown in the table | surface.

比較例4Comparative Example 4

透明被膜形成用塗布液(R4)の調製
実施例9と同様にして調製した透明被膜形成用樹脂成分(2)10gに、比較例3と同様にして調製した表面処理金属酸化物粒子(R3)2-プロパノール分散液10gを混合して透明被膜形成用塗布液(R4)を調製した。ついで実施例1と同様に塗布液の分散安定性の評価を行い、結果を表に示した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (R4) Surface-treated metal oxide particles (R3) prepared in the same manner as in Comparative Example 3 were added to 10 g of the transparent film forming resin component (2) prepared in the same manner as in Example 9. A coating solution (R4) for forming a transparent film was prepared by mixing 10 g of 2-propanol dispersion. Subsequently, the dispersion stability of the coating solution was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

透明被膜付基材(R4)の製造
実施例1において、透明被膜形成用塗布液(R4)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R4)を製造した。このときの透明被膜の厚さは10μmであった。
透明被膜付基材(R4)について、実施例1と同様の評価を行い、結果を表に示した。
In the production example 1 of the substrate with a transparent film (R4), except that the transparent film-forming coating liquid (R4) was prepared substrate with a transparent film (R4) in the same manner. The thickness of the transparent film at this time was 10 μm.
About the base material with a transparent film (R4), evaluation similar to Example 1 was performed and the result was shown in the table | surface.

比較例5Comparative Example 5

表面処理金属酸化物粒子(R5)の調製
アンチモンドープ酸化スズ(ATO)微粒子の水分散液(触媒化成工業(株)製:TL-98-FDAR:固形分濃度20重量%、平均粒子径8nm)100gを純水100gで希釈し、ついで正珪酸エチル(多摩化学製:ES-28、濃度28.8重量%)5.6g添加し、60℃で1時間熟成した。その後、γ-メタアクリロオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学製:KBM-5103、濃度81.2重量%)20g、メタノール100gおよび濃度29.8重量%のアンモニア水0.1gを添加し、さらに60℃で5時間熟成した。その後、セラミック製限外膜を用いて2-プロパノールに溶剤置換し、固形分濃度30重量%の表面処理金属酸化物粒子(R5) 2-プロパノール分散液を調製した。表面処理金属酸化物粒子(R5)の平均粒子径を表に示した。
Preparation of surface-treated metal oxide particles (R5) Water dispersion of antimony-doped tin oxide (ATO) fine particles (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: TL-98-FDAR: solid content concentration 20% by weight, average particle size 8 nm) 100 g was diluted with 100 g of pure water, and then 5.6 g of normal ethyl silicate (manufactured by Tama Chemicals: ES-28, concentration 28.8 wt%) was added, followed by aging at 60 ° C. for 1 hour. Thereafter, 20 g of γ-methacrylooxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical: KBM-5103, concentration: 81.2 wt%), 100 g of methanol, and 0.1 g of ammonia water having a concentration of 29.8 wt% were added. Aging was performed at 60 ° C. for 5 hours. Thereafter, the solvent was replaced with 2-propanol using a ceramic outer membrane to prepare a surface-treated metal oxide particle (R5) 2-propanol dispersion having a solid content concentration of 30% by weight. The average particle diameter of the surface-treated metal oxide particles (R5) is shown in the table.

透明被膜形成用塗布液(R5)の調製
実施例1において、表面処理金属酸化物粒子(R5) 2-プロパノール分散液10gを混合した以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(R5)を調製した。
ついで実施例1と同様に塗布液の分散安定性の評価を行い、結果を表に示した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (R5) In Example 1, the coating liquid for forming transparent film (R5) was prepared in the same manner except that 10 g of the surface-treated metal oxide particles (R5) 2-propanol dispersion was mixed. did.
Subsequently, the dispersion stability of the coating solution was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

透明被膜付基材(R5)の製造
実施例1において、透明被膜形成用塗布液(R5)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R5)を製造した。このときの透明被膜の厚さは10μmであった。
透明被膜付基材(R5)について、実施例1と同様の評価を行い、結果を表に示した。
In the production example 1 of the substrate with a transparent film (R5), except that the transparent film-forming coating liquid (R5) was prepared substrate with a transparent film (R5) in the same manner. The thickness of the transparent film at this time was 10 μm.
About the base material with a transparent film (R5), evaluation similar to Example 1 was performed and the result was shown to the table | surface.

比較例6Comparative Example 6

透明被膜形成用塗布液(R6)の調製
実施例10と同様にして調製した透明被膜形成用樹脂成分(3)7gに、比較例3と同様にして調製した表面処理金属酸化物粒子(R3) ) 2-プロパノール分散液10gをイソプロピルアルコールにて濃度3重量%に希釈したもの3gを混合し、さらにイソプロピルアルコールにて濃度0.5重量%に希釈して透明被膜形成用塗布液(R6)を調製した。ついで実施例1と同様に塗布液の分散安定性の評価を行い、結果を表に示した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (R6) Surface-treated metal oxide particles (R3) prepared in the same manner as in Comparative Example 3 were added to 7 g of the resin component (3) for transparent film formation prepared in the same manner as in Example 10. ) Mix 3 g of 2-propanol dispersion 10 g diluted with isopropyl alcohol to a concentration of 3 wt%, and further dilute with isopropyl alcohol to a concentration of 0.5 wt% to obtain a coating solution (R6) for forming a transparent film. Prepared. Subsequently, the dispersion stability of the coating solution was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

透明被膜付基材(R6)の製造
実施例1において、透明被膜形成用塗布液(R6)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R6)を製造した。このときの透明被膜の厚さは10μmであった。
透明被膜付基材(R6)について、実施例1と同様の評価を行い、結果を表に示した。
Production of substrate with transparent film (R6) A substrate with transparent film (R6) was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming a transparent film (R6) was used. The thickness of the transparent film at this time was 10 μm.
The transparent film-coated substrate (R6) was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

Figure 2009035573
Figure 2009035573

Figure 2009035573
Figure 2009035573

Claims (12)

金属酸化物粒子の水および/または有機溶媒分散液に、下記式(1)で表される有機ケイ素化合物を加えて加水分解し、ついで、下記式(2)で表される有機ケイ素化合物を加えて加水分解することを特徴とする金属酸化物粒子の表面処理方法。
(NH2-Cn2n-Z-Cm2mL-Si-Y4-L (1)
(但し、式中、Z:−NH、−CH2、Y:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素。L:1〜3の整数,n:0〜10の整数、m:0〜10の整数。)
p-SiX4-p (2)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、p:1〜3の整数、但し、置換炭化水素基中アミノ基置換炭化水素基を除く。)
An organic silicon compound represented by the following formula (1) is added to water and / or an organic solvent dispersion of the metal oxide particles for hydrolysis, and then an organosilicon compound represented by the following formula (2) is added. And a surface treatment method for metal oxide particles, wherein the metal oxide particles are hydrolyzed.
(NH 2 -C n H 2n -Z -C m H 2m) L -Si-Y 4-L (1)
(Wherein, Z: —NH, —CH 2 , Y: C 1-4 alkoxy group, hydroxyl group, halogen, hydrogen. L: integer of 1 to 3, n: integer of 0 to 10, m: An integer from 0 to 10.)
R p -Si x 4-p (2)
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, Halogen, hydrogen, p: an integer of 1 to 3, with the exception of an amino group-substituted hydrocarbon group in the substituted hydrocarbon group.
前記表面処理された金属酸化物粒子中の式(1)で表される有機ケイ素化合物の含有量が、[(NH2-Cn2n-Z-Cm2mL-SiO4-L/2]として0.001〜20重量%の範囲にあり、式(2)で表される有機ケイ素化合物の含有量がRp-Si-O4-p/2として1〜60重量%の範囲にあることを特徴とする請求項1に記載の金属酸化物粒子の表面処理方法。 The content of the organic silicon compound represented by the formula (1) of the metal oxide particles that are the surface treatment, [(NH 2 -C n H 2n -Z-C m H 2m) L -SiO 4-L / 2 ] in the range of 0.001 to 20 wt%, and the content of the organosilicon compound represented by the formula (2) is in the range of 1 to 60 wt% as R p —Si—O 4−p / 2 The method for surface treatment of metal oxide particles according to claim 1, wherein: 前記金属酸化物粒子がシリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、五酸化アンチモン、酸化インジウム、低次酸化チタンおよびこれらの複合酸化物、あるいはSbドープ酸化スズ(ATO)、Fドープ酸化スズ、Pドープ酸化スズ、Snドープ酸化インジウム(ITO)、Fドープ酸化インジウムから選ばれる1種または2種以上であり、平均粒子径が3〜300nmの範囲にあることを特徴とする請求項1または2に記載の金属酸化物粒子の表面処理方法。   The metal oxide particles are silica, alumina, zirconia, titanium oxide, tin oxide, zinc oxide, antimony pentoxide, indium oxide, low-order titanium oxide and complex oxides thereof, or Sb-doped tin oxide (ATO), F-doped It is 1 type (s) or 2 or more types chosen from a tin oxide, P dope tin oxide, Sn dope indium oxide (ITO), and F dope indium oxide, The average particle diameter exists in the range of 3-300 nm, It is characterized by the above-mentioned. 3. A method for surface treatment of metal oxide particles according to 1 or 2. 前記表面処理された金属酸化物粒子の平均粒子径が3〜300nmの範囲にあることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の金属酸化物粒子の表面処理方法。   The surface treatment method for metal oxide particles according to any one of claims 1 to 3, wherein the average particle diameter of the surface-treated metal oxide particles is in the range of 3 to 300 nm. 請求項1〜4に記載の表面処理方法で得られた表面処理金属酸化物粒子と分散媒とからなり、表面処理金属酸化物粒子の濃度が1〜50重量%の範囲にある表面処理金属酸化物粒子分散液。   A surface-treated metal oxide comprising the surface-treated metal oxide particles obtained by the surface treatment method according to claim 1 and a dispersion medium, wherein the concentration of the surface-treated metal oxide particles is in the range of 1 to 50% by weight. Product particle dispersion. 請求項1〜4に記載の表面処理方法で得られた表面処理金属酸化物粒子とマトリックス形成成分と分散媒とを含んでなる透明被膜形成用塗布液。   A coating liquid for forming a transparent film, comprising the surface-treated metal oxide particles obtained by the surface treatment method according to claim 1, a matrix-forming component, and a dispersion medium. 前記表面処理金属酸化物粒子の濃度(CP)が固形分として0.1〜40重量%の範囲にあり、前記マトリックス形成成分の濃度(CM)が固形分として1.9〜49.9重量%の範囲にあり、合計濃度(CP)+(CM)が固形分として2〜50重量%の範囲にあることを特徴とする請求項6に記載の透明被膜形成用塗布液。 The concentration (C P ) of the surface-treated metal oxide particles is in the range of 0.1 to 40% by weight as the solid content, and the concentration (C M ) of the matrix-forming component is 1.9 to 49.9 as the solid content. The coating solution for forming a transparent film according to claim 6, wherein the coating concentration is in the range of 2% by weight, and the total concentration (C P ) + (C M ) is in the range of 2 to 50% by weight as the solid content. 基材と、基材上に設けられた透明被膜とからなり、該透明被膜がマトリックス成分と請求項1〜4に記載の製造方法で得られた表面処理金属酸化物粒子とからなり、透明被膜中の表面処理金属酸化物粒子の含有量が固形分として0.2〜80重量%の範囲にあることを特徴とする透明被膜付基材。   It consists of a base material and the transparent film provided on the base material, and this transparent film consists of a matrix component and the surface treatment metal oxide particle obtained by the manufacturing method of Claims 1-4, and a transparent film A substrate with a transparent coating, wherein the content of the surface-treated metal oxide particles is in the range of 0.2 to 80% by weight as a solid content. 前記透明被膜の膜厚が30nm〜50μmの範囲にあることを特徴とする請求項8に記載の透明被膜付基材。
The substrate with a transparent coating according to claim 8, wherein the thickness of the transparent coating is in the range of 30 nm to 50 µm.
金属酸化物粒子の水および/または有機溶媒分散液に、アミノ基を有する有機ケイ素化合物を加えて加水分解し、ついで、アミノ基を含まない有機ケイ素化合物を加えて加水分解することを特徴とする金属酸化物粒子の表面処理方法。   It is characterized by adding an organosilicon compound having an amino group to water and / or an organic solvent dispersion of metal oxide particles, followed by hydrolysis, and then adding an organosilicon compound not containing an amino group for hydrolysis. A method for surface treatment of metal oxide particles. 五酸化アンチモン粒子の水および/または有機溶媒分散液に、γ−アミノプロピルトリエトキシシランを加えて加水分解し、ついで、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシランを加えて加水分解することを特徴とする五酸化アンチモン粒子の表面処理方法。   Γ-aminopropyltriethoxysilane is added to the water and / or organic solvent dispersion of the antimony pentoxide particles for hydrolysis, and then γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane is added for hydrolysis. A method for surface treatment of antimony pentoxide particles characterized by the following. シリカ・ジルコニア系粒子の水および/または有機溶媒分散液に、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシランを加えて加水分解し、ついで、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシランを加えて加水分解することを特徴とするシリカ・ジルコニア系粒子の表面処理方法。   N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane is added to water and / or an organic solvent dispersion of silica / zirconia-based particles for hydrolysis, and then γ- (meth) acrylooxypropyltrimethoxy is added. A method for treating a surface of silica / zirconia particles, wherein silane is added and hydrolyzed.
JP2007198437A 2007-07-31 2007-07-31 Surface treatment method for metal oxide particles, dispersion containing the surface treated metal oxide particles, coating liquid for forming a transparent film, and substrate with transparent film Active JP5142617B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007198437A JP5142617B2 (en) 2007-07-31 2007-07-31 Surface treatment method for metal oxide particles, dispersion containing the surface treated metal oxide particles, coating liquid for forming a transparent film, and substrate with transparent film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007198437A JP5142617B2 (en) 2007-07-31 2007-07-31 Surface treatment method for metal oxide particles, dispersion containing the surface treated metal oxide particles, coating liquid for forming a transparent film, and substrate with transparent film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009035573A true JP2009035573A (en) 2009-02-19
JP5142617B2 JP5142617B2 (en) 2013-02-13

Family

ID=40437781

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007198437A Active JP5142617B2 (en) 2007-07-31 2007-07-31 Surface treatment method for metal oxide particles, dispersion containing the surface treated metal oxide particles, coating liquid for forming a transparent film, and substrate with transparent film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5142617B2 (en)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009173757A (en) * 2008-01-23 2009-08-06 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Zirconia-containing silicone resin composition
JP2010209186A (en) * 2009-03-09 2010-09-24 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Optical material, dispersion of inorganic fine particle, process for producing optical material, and light-emitting element
WO2011052762A1 (en) * 2009-10-29 2011-05-05 堺化学工業株式会社 Method for producing organic solvent dispersion of inorganic oxide microparticles
JP2011148641A (en) * 2010-01-19 2011-08-04 Nippon Aerosil Co Ltd Inorganic oxide powder which is surface-modified
JP2012036308A (en) * 2010-08-09 2012-02-23 Nitto Denko Corp Method for producing metal oxide particle
JP2012140621A (en) * 2010-12-31 2012-07-26 Eternal Chemical Co Ltd Coating composition and uses thereof
JP2014001347A (en) * 2012-06-20 2014-01-09 Fuji Electric Co Ltd Nanocomposite resin composition and nanocomposite resin cured product
JP2014237576A (en) * 2013-05-08 2014-12-18 株式会社Kri Modified metal oxide nanoparticle
CN104962111A (en) * 2015-06-11 2015-10-07 南京大学 Preparation method of nano-silica surface grafted hydroxyl terminated polybutadiene rubber
JP2016014132A (en) * 2014-04-16 2016-01-28 信越化学工業株式会社 Organic solvent dispersion of titanium oxide solid solution, method for producing the same, and coating agent
KR20170124561A (en) 2015-02-27 2017-11-10 사까이가가꾸고오교가부시끼가이샤 Production method of organic solvent dispersion of titanium oxide particles
KR20170124560A (en) 2015-02-27 2017-11-10 사까이가가꾸고오교가부시끼가이샤 Organic solvent dispersion of titanium oxide particles and production method thereof
KR101877810B1 (en) * 2010-07-20 2018-07-12 니끼 쇼꾸바이 카세이 가부시키가이샤 Coating solution for forming transparent film and substrate coated by transparent film
KR20190080638A (en) * 2017-12-28 2019-07-08 주식회사 케이씨텍 Dispersion for display device comprising surface treatmented metal oxide

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58185405A (en) * 1982-04-26 1983-10-29 Nippon Aerojiru Kk Fine powder of surface-modified metal oxide
JPS63196621A (en) * 1987-02-10 1988-08-15 Matsushita Electric Works Ltd Production of epoxy resin composition
JPH07267640A (en) * 1994-03-29 1995-10-17 Idemitsu Kosan Co Ltd Surface-modified titanium dioxide fine particle and method for producing the same
JPH09202864A (en) * 1996-01-26 1997-08-05 Catalysts & Chem Ind Co Ltd Coating solution for forming transparent coating film and substrate having coating film
JP2001356586A (en) * 2000-06-12 2001-12-26 Oki Data Corp Device for development
JP2005148448A (en) * 2003-11-17 2005-06-09 Denki Kagaku Kogyo Kk Silica fine powder, method for manufacturing the same, and use
JP2006070144A (en) * 2004-09-01 2006-03-16 Catalysts & Chem Ind Co Ltd Coating liquid for forming transparent film and substrate having transparent coating film
WO2006065556A2 (en) * 2004-12-16 2006-06-22 Dow Corning Corporation Method of preventing or reducing off-flavor in a beverage using silane-treated silica filter media
JP2007262126A (en) * 2006-03-27 2007-10-11 Toray Ind Inc Adhesive composition for flexible printed circuit, cover-lay film using the same, copper-clad laminate, adhesive sheet and lead frame fixing tape

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58185405A (en) * 1982-04-26 1983-10-29 Nippon Aerojiru Kk Fine powder of surface-modified metal oxide
JPS63196621A (en) * 1987-02-10 1988-08-15 Matsushita Electric Works Ltd Production of epoxy resin composition
JPH07267640A (en) * 1994-03-29 1995-10-17 Idemitsu Kosan Co Ltd Surface-modified titanium dioxide fine particle and method for producing the same
JPH09202864A (en) * 1996-01-26 1997-08-05 Catalysts & Chem Ind Co Ltd Coating solution for forming transparent coating film and substrate having coating film
JP2001356586A (en) * 2000-06-12 2001-12-26 Oki Data Corp Device for development
JP2005148448A (en) * 2003-11-17 2005-06-09 Denki Kagaku Kogyo Kk Silica fine powder, method for manufacturing the same, and use
JP2006070144A (en) * 2004-09-01 2006-03-16 Catalysts & Chem Ind Co Ltd Coating liquid for forming transparent film and substrate having transparent coating film
WO2006065556A2 (en) * 2004-12-16 2006-06-22 Dow Corning Corporation Method of preventing or reducing off-flavor in a beverage using silane-treated silica filter media
JP2008523806A (en) * 2004-12-16 2008-07-10 ダウ・コーニング・コーポレイション Method for inhibiting or reducing off-flavors in beverages using silane-treated silica filter media
JP2007262126A (en) * 2006-03-27 2007-10-11 Toray Ind Inc Adhesive composition for flexible printed circuit, cover-lay film using the same, copper-clad laminate, adhesive sheet and lead frame fixing tape

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009173757A (en) * 2008-01-23 2009-08-06 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Zirconia-containing silicone resin composition
JP2010209186A (en) * 2009-03-09 2010-09-24 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Optical material, dispersion of inorganic fine particle, process for producing optical material, and light-emitting element
WO2011052762A1 (en) * 2009-10-29 2011-05-05 堺化学工業株式会社 Method for producing organic solvent dispersion of inorganic oxide microparticles
CN102575124A (en) * 2009-10-29 2012-07-11 堺化学工业株式会社 Method for producing organic solvent dispersion of inorganic oxide microparticles
JP5776552B2 (en) * 2009-10-29 2015-09-09 堺化学工業株式会社 Method for producing organic solvent dispersion of inorganic oxide fine particles
JP2011148641A (en) * 2010-01-19 2011-08-04 Nippon Aerosil Co Ltd Inorganic oxide powder which is surface-modified
KR101877810B1 (en) * 2010-07-20 2018-07-12 니끼 쇼꾸바이 카세이 가부시키가이샤 Coating solution for forming transparent film and substrate coated by transparent film
JP2012036308A (en) * 2010-08-09 2012-02-23 Nitto Denko Corp Method for producing metal oxide particle
JP2012140621A (en) * 2010-12-31 2012-07-26 Eternal Chemical Co Ltd Coating composition and uses thereof
JP2014001347A (en) * 2012-06-20 2014-01-09 Fuji Electric Co Ltd Nanocomposite resin composition and nanocomposite resin cured product
JP2014237576A (en) * 2013-05-08 2014-12-18 株式会社Kri Modified metal oxide nanoparticle
JP2016014132A (en) * 2014-04-16 2016-01-28 信越化学工業株式会社 Organic solvent dispersion of titanium oxide solid solution, method for producing the same, and coating agent
KR20170124561A (en) 2015-02-27 2017-11-10 사까이가가꾸고오교가부시끼가이샤 Production method of organic solvent dispersion of titanium oxide particles
KR20170124560A (en) 2015-02-27 2017-11-10 사까이가가꾸고오교가부시끼가이샤 Organic solvent dispersion of titanium oxide particles and production method thereof
US10047239B2 (en) 2015-02-27 2018-08-14 Sakai Chemical Industry Co., Ltd. Organic solvent dispersion of titanium oxide particles and method for producing same
CN104962111A (en) * 2015-06-11 2015-10-07 南京大学 Preparation method of nano-silica surface grafted hydroxyl terminated polybutadiene rubber
KR20190080638A (en) * 2017-12-28 2019-07-08 주식회사 케이씨텍 Dispersion for display device comprising surface treatmented metal oxide
KR102091310B1 (en) * 2017-12-28 2020-03-19 주식회사 케이씨텍 Dispersion for display device comprising surface treatmented metal oxide

Also Published As

Publication number Publication date
JP5142617B2 (en) 2013-02-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5142617B2 (en) Surface treatment method for metal oxide particles, dispersion containing the surface treated metal oxide particles, coating liquid for forming a transparent film, and substrate with transparent film
JP5078620B2 (en) Hollow silica fine particles, composition for forming transparent film containing the same, and substrate with transparent film
JP5221084B2 (en) Base material with hard coat film and coating liquid for forming hard coat film
JP5209855B2 (en) Paint for forming transparent film and substrate with transparent film
JP5378771B2 (en) Base material with antireflection film and coating liquid for forming antireflection film
JP5757673B2 (en) Substrate with transparent film and paint for forming transparent film
JP5546239B2 (en) Base material with hard coat film and coating liquid for forming hard coat film
JP2008163205A (en) Coating for forming transparent coating film and substrate with transparent coating film
JP6016548B2 (en) Coating liquid for forming transparent film and substrate with transparent film
JP5700903B2 (en) Base material with hard coat film and coating liquid for forming hard coat film
KR20080083249A (en) Substrate for hard coating film and coating solution for hard coating film
JP5555082B2 (en) Coating liquid for forming transparent film and substrate with transparent film
JP2008291174A (en) Coating material for forming transparent coating film and substrate with transparent film
JP5148846B2 (en) Paint for forming transparent film and substrate with transparent film
JP6112753B2 (en) Coating liquid for forming transparent film, substrate with transparent film, and method for producing hydrophobic metal oxide particles
JP2018123043A (en) Method for producing silica-based particle dispersion, silica-based particle dispersion, coating liquid for forming transparent coating film, and substrate with transparent coating film
JP4409169B2 (en) Paint containing colored pigment particles, substrate with visible light shielding film
JP5480743B2 (en) Substrate with transparent film and paint for forming transparent film
JP5754884B2 (en) Phosphoric acid (excluding phosphoric acid salt) -treated metal oxide fine particles and production method thereof, coating solution for forming a transparent film containing the phosphoric acid (excluding phosphoric acid salt) -treated metal oxide fine particles, and transparent Substrate with coating
JP5877708B2 (en) Base material with hard coat film and coating liquid for forming hard coat film
JP5642535B2 (en) Novel silica-based hollow fine particles, base material with transparent film, and paint for forming transparent film
JP5159265B2 (en) Substrate with transparent film and coating liquid for forming transparent film
JP5554904B2 (en) Paint for forming transparent film and substrate with transparent film
JP2009108123A (en) Method of manufacturing surface-treated metal oxide particles, coating liquid for forming transparent film including the same, and substrate with transparent coating film
JP5931009B2 (en) Method for producing surface-treated metal oxide particles, coating liquid for forming transparent film containing the particles, and substrate with transparent film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100609

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120531

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120605

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120727

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121120

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121120

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151130

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5142617

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250