JP5931009B2 - Method for producing surface-treated metal oxide particles, coating liquid for forming transparent film containing the particles, and substrate with transparent film - Google Patents

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本発明は、マトリックス成分に高分散可能であり、また得られる膜は強度が高く、さらに、スクラッチ強度、耐水性、撥水性、指紋不付着性、耐薬品性、耐熱性、耐湿性等に優れた反射防止膜、ハードコート膜等の形成に好適に用いることが可能な表面処理金属酸化物粒子の製造方法、該微粒子を含む透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材に関する。   The present invention is highly dispersible in the matrix component, and the resulting film has high strength, and is excellent in scratch strength, water resistance, water repellency, fingerprint non-adhesion, chemical resistance, heat resistance, moisture resistance, etc. The present invention relates to a method for producing surface-treated metal oxide particles that can be suitably used for forming an antireflection film, a hard coat film, and the like, a coating liquid for forming a transparent film containing the fine particles, and a substrate with a transparent film.

従来より、ガラス、プラスチックシート、プラスチックレンズ等の基材表面の耐擦傷性を向上させるため、基材表面にハードコート膜を形成することが知られており、このようなハードコート膜として有機樹脂膜あるいは無機膜をガラスやプラスチック等の表面に形成することが行われている。さらに、有機樹脂膜あるいは無機膜中に樹脂粒子あるいはシリカ等の無機粒子を配合してさらに耐擦傷性を向上させることが行われている。   Conventionally, it has been known to form a hard coat film on the surface of a substrate in order to improve the scratch resistance of the substrate surface such as glass, plastic sheet, plastic lens, etc. An organic resin is used as such a hard coat film. A film or an inorganic film is formed on the surface of glass or plastic. Furthermore, it is practiced to further improve the scratch resistance by blending resin particles or inorganic particles such as silica in an organic resin film or an inorganic film.

また、ガラス、プラスチックシート、プラスチックレンズ等の基材表面の反射を防止するため、その表面に反射防止膜を形成することが知られており、たとえば、コート法、蒸着法、CVD法等によって、フッ素樹脂、フッ化マグネシウムのような低屈折率の物質の被膜をガラスやプラスチックの基材表面に形成したり、シリカ微粒子等の低屈折率微粒子を含む塗布液を基材表面に塗布して、反射防止被膜を形成する方法が知られている(たとえば、特許文献1(特開平7-133105号公報)など参照)。このとき、反射防止性能を高めるために反射防止被膜の下層に高屈折率の微粒子等を含む高屈折率膜を形成することも知られている。   In addition, in order to prevent reflection of the surface of a substrate such as glass, plastic sheet, plastic lens, etc., it is known to form an antireflection film on the surface. For example, by a coating method, a vapor deposition method, a CVD method, A film of a low refractive index substance such as fluororesin or magnesium fluoride is formed on the surface of a glass or plastic substrate, or a coating liquid containing low refractive index fine particles such as silica fine particles is applied to the substrate surface. A method of forming an antireflection coating is known (see, for example, Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 7-133105)). At this time, in order to improve the antireflection performance, it is also known to form a high refractive index film containing fine particles of high refractive index under the antireflection coating.

近年、このような透明被膜には、透明性、ヘーズ等の他、耐擦傷性、硬度、スクラッチ強度等に加えて、耐水性、撥水性、指紋不付着性、耐薬品性、耐熱性、耐湿性等に同時に優れた透明被膜が求められている。   In recent years, in addition to transparency, haze, etc., in addition to scratch resistance, hardness, scratch strength, etc., such transparent coatings have water resistance, water repellency, fingerprint non-adhesion, chemical resistance, heat resistance, moisture resistance, etc. There is a demand for a transparent coating that is simultaneously superior in properties and the like.

本願出願人等は、低屈折率で強度、硬度、耐擦傷性、耐摩耗性等に優れた透明被膜として含フッ素化合物からなるマトリックスと特定のシランカップリング剤(フルオロ基を含まない)で処理した中空シリカ微粒子を用いることを開示している。(特許文献2、特開2006−348267号公報)   The present applicants treated with a matrix made of a fluorine-containing compound and a specific silane coupling agent (not containing a fluoro group) as a transparent film having a low refractive index and excellent strength, hardness, scratch resistance, abrasion resistance, etc. The use of such hollow silica fine particles. (Patent Document 2, JP 2006-348267 A)

また、本願出願人等は、酸やアルカリに等に対する耐薬品性に優れた透明被膜として、パーフルオロ基含有(メタ)アクリル酸エステル樹脂と特定のシランカップリング剤(フルオロ基を含む場合あり)で処理した中空シリカ系微粒子とを用いることを開示している。(特許文献3、特開2006−291077号公報)   In addition, the applicant of the present application, as a transparent film excellent in chemical resistance against acids and alkalis, is a perfluoro group-containing (meth) acrylic ester resin and a specific silane coupling agent (may contain a fluoro group). And the use of hollow silica-based fine particles treated with the above. (Patent Document 3, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-291077)

特開平7-133105号公報JP-A-7-133105 特開2006−348267号公報JP 2006-348267 A 特開2006−291077号公報JP 2006-291077 A

しかしながら、特許文献1に記載のものは、撥水性、指紋不付着性が不充分であった。また、特許文献2では、耐薬品性、撥水性、指紋不付着性等に優れているものの、耐擦傷性、強度、スクラッチ強度等が必ずしも充分ではなかった。 However, the thing of patent document 1 was insufficient in water repellency and fingerprint non-adhesiveness. In Patent Document 2, although excellent in chemical resistance, water repellency, fingerprint non-adhesiveness, etc., the scratch resistance, strength, scratch strength, etc. are not always sufficient.

本発明者らは、このような問題点に鑑み、さらに鋭意検討した結果、フルオロ基を含有するシランカップリング剤とフルオロ基を含有しないシランカップリング剤とで同時に表面処理した金属酸化物粒子はマトリックス成分への分散性がよく、得られる透明被膜は、耐擦傷性、硬度、スクラッチ強度等に加えて、耐水性、撥水性、指紋不付着性、耐薬品性、耐熱性、耐湿性等に優れていることを見出して本発明を完成するに至った。   In view of such problems, the present inventors have conducted further intensive studies. As a result, the metal oxide particles surface-treated simultaneously with a silane coupling agent containing a fluoro group and a silane coupling agent not containing a fluoro group are: Dispersibility in matrix components is good, and the resulting transparent film has water resistance, water repellency, fingerprint non-adhesion, chemical resistance, heat resistance, moisture resistance, etc. in addition to scratch resistance, hardness, scratch strength, etc. The inventors have found that the present invention is superior and have completed the present invention.

本発明の構成は以下の通りである。
[1]金属酸化物粒子分散液に、下記式(1)で表されるシランカップリング剤(A)と、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(βメトキシエトキシ)シラン、β−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、トリメチルシラノール、メチルトリクロロシランからなる群から選ばれる少なくとも1種のシランカップリング剤(B)とを、
前記シランカップリング剤(A)のモル数(M1)と前記シランカップリング剤(B)のモル数(M2)との比(M 1 /M 2 )が0.16〜1.51の範囲となるように混合する混合工程と、
前記混合工程により得られた分散液に、水とアンモニアを添加して40〜100℃で加温する熟成工程と、を含み、
前記シランカップリング剤(A)と前記シランカップリング剤(B)の合計のモル数(MSC)と前記水のモル数(MH2O)の比(MH2O/MSC)が9.67〜58.01の範囲にあり、
前記合計のモル数と前記アンモニアのモル数(MHC)の比(MHC/MSC)が0.07〜0.16の範囲にあることを特徴とする表面処理金属酸化物粒子の製造方法。
RnSiX4-n ・・・・・・(1)
(但し、R:フルオロ基含有炭化水素基、X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲンまたは水素、n:1〜3の整数)
The configuration of the present invention is as follows.
[1] In a metal oxide particle dispersion, a silane coupling agent (A) represented by the following formula (1), methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, methyltriethoxy Silane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (βmethoxyethoxy) silane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) Ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltriethoxysilane, γ-glycidoxyethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxyethyltriethoxysilane, γ-glycidoxy Propyltrimethoxy Lan, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ- (β-glycidoxyethoxy) propyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltri Ethoxysilane, γ- (meth) acrylooxyethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxyethyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxy Propyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, butyltriethoxysilane, 3-ureidoisopropylpropyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltrimethoxy Syrah Perfluorooctylethyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxy At least one silane coupling agent (B) selected from the group consisting of silane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, trimethylsilanol, and methyltrichlorosilane,
The ratio (M 1 / M 2 ) of the number of moles (M 1 ) of the silane coupling agent (A) to the number of moles (M 2 ) of the silane coupling agent (B ) is 0.16 to 1.51 . A mixing step of mixing so as to be in a range;
A aging step of adding water and ammonia to the dispersion obtained by the mixing step and heating at 40 to 100 ° C.,
The silane coupling agent (A) and the silane coupling agent The total number of moles of (B) (M SC) the moles of said water ratio (M H2O) (M H2O / M SC) is 9.67~ In the range of 58.01 ,
The method for producing surface-treated metal oxide particles, wherein a ratio (M HC / M SC ) of the total number of moles to the number of moles of ammonia (M HC ) is in the range of 0.07 to 0.16. .
RnSiX 4-n (1)
(However, R: fluoro group-containing hydrocarbon group, X: alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, hydroxyl group, halogen or hydrogen, n: an integer of 1 to 3)

[2]前記[1]の方法で得られた表面処理金属酸化物粒子と、マトリックス形成成分と、分散媒とを含んでなることを特徴とする透明被膜形成用塗布液。
[3]前記マトリックス形成成分が水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基、ビニル基、ウレタン基、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、CF2基から選ばれる官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂から選ばれる1種以上の有機樹脂である[2]の透明被膜形成用塗布液。
[4]基材と、基材上に形成された透明被膜とからなり、該透明被膜が、前記[1]の方法で得られた表面処理金属酸化物粒子とマトリックス成分とを含んでなることを特徴とする透明被膜付基材。
[5]前記マトリックス成分が水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基、ビニル基、ウレタン基、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、CF2 基から選ばれる官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂から選ばれる1種または2種以上の有機樹脂である[4]の透明被膜付基材。
[6]前記透明被膜が最外層にあり、前記基材と該透明被膜との間に他の被膜が設けられていること[4]または[5]の透明被膜付基材。
[2] A coating solution for forming a transparent film, comprising the surface-treated metal oxide particles obtained by the method of [1], a matrix-forming component, and a dispersion medium.
[3] Polyfunctional (meth) acrylic, wherein the matrix forming component has a functional group selected from a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a sulfo group, a vinyl group, a urethane group, an epoxy group, a (meth) acryloyl group, and a CF 2 group The coating liquid for forming a transparent film according to [2], which is one or more organic resins selected from acid ester resins.
[4] It comprises a substrate and a transparent coating formed on the substrate, and the transparent coating comprises the surface-treated metal oxide particles obtained by the method of [1] and a matrix component. A substrate with a transparent coating characterized by
[5] Polyfunctional (meth) acrylic acid in which the matrix component has a functional group selected from hydroxyl group, amino group, carboxyl group, sulfo group, vinyl group, urethane group, epoxy group, (meth) acryloyl group, CF 2 group [4] The substrate with a transparent coating, which is one or more organic resins selected from ester resins.
[6] The substrate with a transparent coating according to [4] or [5], wherein the transparent coating is in an outermost layer, and another coating is provided between the substrate and the transparent coating.

本発明によれば、フルオロ基を含有するシランカップリング剤とフルオロ基を含有しないシランカップリング剤を所定比で混合したシランカップリング剤で表面処理しているのでマトリックス成分への分散性、結合性に優れた表面処理金属酸化物粒子の製造方法、該微粒子を含む安定性に優れた透明被膜形成用塗布液および耐水性、撥水性、指紋不付着性、耐薬品性等に優れると共に強度、硬度および耐擦傷性に優れた透明被膜付基材を提供することができる。   According to the present invention, the surface treatment is performed with a silane coupling agent in which a silane coupling agent containing a fluoro group and a silane coupling agent not containing a fluoro group are mixed at a predetermined ratio, so that dispersibility and bonding to a matrix component are achieved. A method for producing surface-treated metal oxide particles having excellent properties, a coating solution for forming a transparent film having excellent stability including the fine particles, and water resistance, water repellency, fingerprint non-adhesion, chemical resistance, etc. A substrate with a transparent coating excellent in hardness and scratch resistance can be provided.

以下、先ず、本発明に係る表面処理金属酸化物粒子の製造方法について具体的に説明する。
表面処理金属酸化物粒子の製造方法
本発明の製造方法は、金属酸化物粒子分散液に、特定の組合わせのシランカップリング剤を添加して表面処理する。
Hereinafter, first, the manufacturing method of the surface treatment metal oxide particle concerning this invention is demonstrated concretely.
Method for producing surface-treated metal oxide particles The production method of the present invention performs surface treatment by adding a specific combination of silane coupling agents to a metal oxide particle dispersion.

金属酸化物粒子
本発明に用いる金属酸化物粒子としては、従来、透明被膜に用いられる公知の金属酸化物粒子を用いることができる。
Metal Oxide Particles As the metal oxide particles used in the present invention, known metal oxide particles conventionally used for transparent coatings can be used.

金属酸化物粒子は用途によって適宜選択して用いることができ、例えば、反射防止膜に用いる金属酸化物微粒子としては通常屈折率が1.45以下、好ましくは1.40以下の金属酸化物微粒子が用いられ、具体的にはSiO2、内部に空洞を有するSiO2、あるいはこれらに導電性を有する金属酸化物を被覆した微粒子等が挙げられる。内部に空洞を有するSiO2粒子としては本願出願人の出願による特開2001−233611号公報に開示した内部に空洞を有するシリカ系微粒子は好適に採用することができる。 The metal oxide particles can be appropriately selected and used depending on the application. For example, the metal oxide fine particles used for the antireflection film are usually metal oxide fine particles having a refractive index of 1.45 or less, preferably 1.40 or less. used, specifically SiO 2, fine particles coated with metal oxides having a SiO 2 or conductive thereto, having a cavity inside thereof. As the SiO 2 particles having a cavity inside, silica-based fine particles having a cavity inside disclosed in JP-A-2001-233611 filed by the applicant of the present application can be suitably employed.

ハードコート膜に用いる金属酸化物微粒子としては、ZrO2、TiO2、Sb25、ZnO2、Al23、SnO2、あるいはこれら粒子が鎖状に連結した鎖状粒子、あるいは前記した屈折率が1.45以下のシリカ系微粒子等が挙げられる。 Examples of the metal oxide fine particles used for the hard coat film include ZrO 2 , TiO 2 , Sb 2 O 5 , ZnO 2 , Al 2 O 3 , SnO 2 , chain particles in which these particles are connected in a chain, Examples thereof include silica-based fine particles having a refractive index of 1.45 or less.

高屈折率膜に用いる金属酸化物微粒子としては、通常屈折率が1.60以上、さらには1.80以上の微粒子が用いられ、具体的にはZrO2、TiO2、Sb25、ZnO2、Al23、SnO2、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、酸化錫ドープリン(PTO)等が挙げられる。 The metal oxide fine particles used for the high refractive index film are usually fine particles having a refractive index of 1.60 or more, more preferably 1.80 or more, specifically ZrO 2 , TiO 2 , Sb 2 O 5 , ZnO. 2 , Al 2 O 3 , SnO 2 , antimony-doped tin oxide (ATO), tin-doped indium oxide (ITO), tin oxide-doped phosphorus (PTO), and the like.

導電性膜に用いる金属酸化物微粒子としては、通常Sb25、SnO2、アンチモンドープ酸化錫、錫ドープ酸化インジウム、酸化錫ドープリン(PTO)、あるいはこれら導電性材料で表面を被覆したシリカ系微粒子あるいは内部に空洞を有するシリカ系微粒子等が挙げられる。 The metal oxide fine particles used for the conductive film are usually Sb 2 O 5 , SnO 2 , antimony-doped tin oxide, tin-doped indium oxide, tin oxide-doped phosphorus (PTO), or silica-based whose surface is coated with these conductive materials. Examples thereof include fine particles or silica-based fine particles having cavities therein.

金属酸化物粒子の平均粒子径は、特に制限されるものではなく、用途に応じて適宜選択されるが、概ね5〜300nm、さらには7〜200nmの範囲にあることが望ましい。金属酸化物粒子分散液の分散媒としては通常、水および/またはメタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール(IPA)、ブタノール等のアルコール類が用いられる。金属酸化物粒子分散液の濃度は、固形分濃度として0.5〜40重量%、さらには1〜30重量%の範囲にあることが好ましい。   The average particle diameter of the metal oxide particles is not particularly limited and is appropriately selected depending on the application, but is preferably in the range of about 5 to 300 nm, more preferably 7 to 200 nm. As a dispersion medium for the metal oxide particle dispersion, water and / or alcohols such as methanol, ethanol, propanol, 2-propanol (IPA), and butanol are usually used. The concentration of the metal oxide particle dispersion is preferably from 0.5 to 40% by weight, more preferably from 1 to 30% by weight, as the solid content concentration.

シランカップリング剤
本発明では、下記式(1)で表されるシランカップリング剤(A)と下記式(2)で表されるシランカップリング剤(B)とが使用される。
nSiX4-n ・・・・・・(1)
(但し、R:フルオロ基含有炭化水素基、X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲンまたは水素、n:1〜3の整数)
nSiX4-n ・・・・・・(2)
(但し、R:炭素数1〜4のメタアクリロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基、エポキシ基(グリシド基)、ビニル基、ウレタン基、X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲンまたは水素、n:1〜3の整数)
Silane Coupling Agent In the present invention, a silane coupling agent (A) represented by the following formula (1) and a silane coupling agent (B) represented by the following formula (2) are used.
R n SiX 4-n ······ ( 1)
(However, R: fluoro group-containing hydrocarbon group, X: alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, hydroxyl group, halogen or hydrogen, n: an integer of 1 to 3)
R n SiX 4-n ······ ( 2)
(However, R: C1-C4 methacryloyloxy group, acryloyloxy group, epoxy group (glycid group), vinyl group, urethane group, X: C1-C4 alkoxy group, hydroxyl group, halogen or hydrogen, n: an integer of 1 to 3)

前記式(1)で表されるシランカップリング剤(A)として、具体的には、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチルトリフルオロプロピルジメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリデカフロオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカトリフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカトリフルオロデシルトリプロポキシシラン等が挙げられる。   Specific examples of the silane coupling agent (A) represented by the formula (1) include trifluoropropyltrimethoxysilane, methyltrifluoropropyldimethoxysilane, perfluorooctylethyltriisopropoxysilane, and tridecafluoro. Examples include octyltriethoxysilane, heptadecatrifluorodecyltrimethoxysilane, and heptadecatrifluorodecyltripropoxysilane.

前記式(2)で表されるシランカップリング剤(B)として、具体的には、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(βメトキシエトキシ)シラン、β−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Specific examples of the silane coupling agent (B) represented by the formula (2) include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (βmethoxyethoxy) silane, β- (3,4-epoxycyclohexyl). ) Ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltriethoxysilane, γ-glycidoxyethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxyethyltriethoxysilane, γ-glycid Xylpropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ- (β-glycidoxyethoxy) propyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryl Rooxymethyltriethoxysilane, γ- (meth) acrylooxyethyltrimethoxysilane, γ- Meth) acryloxyethyl oxyethyl triethoxysilane, .gamma. (meth) acryloxypropyl trimethoxysilane, .gamma. (meth) acryloxypropyl trimethoxy silane, 3-ureido-isopropyl triethoxysilane, and the like.

式(1)で表されるシランカップリング剤(A)は、撥水性、指紋付着防止性、マジック拭き取り性向上などの効果があり、式(2)で表されるシランカップリング剤(B)は、膜硬度、耐擦傷性などの向上効果があり、これらを組合わせることで、耐汚染性、耐擦傷性、耐薬品性などが向上するという作用効果が発現される。   The silane coupling agent (A) represented by the formula (1) has effects such as water repellency, fingerprint adhesion prevention, and magic wiping improvement, and the silane coupling agent (B) represented by the formula (2). Has an effect of improving film hardness, scratch resistance, and the like, and combining these exhibits an effect of improving stain resistance, scratch resistance, chemical resistance, and the like.

特に好ましいシランカップリング剤(A)と(B)との組合わせとしては、ヘプタデカフルオロトリメトキシシラン、ヘプタデカトリフルオロデシルトリプロポキシシラン等と、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシランである。   Particularly preferred combinations of silane coupling agents (A) and (B) include heptadecafluorotrimethoxysilane, heptadecatrifluorodecyltripropoxysilane, etc., and γ- (meth) acrylooxypropyltriethoxysilane. It is.

式(1)で表されるシランカップリング剤(A)のモル数(M1)と式(2)で表されるシランカップリング剤(B)のモル数(M2)とのモル比(M 1 /M 2 )は0.16〜1.51の範囲にあることが好ましい。 Moles (M 1) and the number of moles (M 2) and the molar ratio of the silane coupling agent represented by the formula (2) (B) of the silane coupling agent represented by the formula (1) (A) ( M 1 / M 2 ) is preferably in the range of 0.16 to 1.51 .

モル比(M1)/(M2)が小さいと、シランカップリング剤(A)の量が少なすぎてしまい、表面処理して得られた金属酸化物粒子を用いた透明被膜の耐水性、撥水性、指紋不付着性、耐薬品性が不充分となる場合がある。 When the molar ratio (M 1 ) / (M 2 ) is small, the amount of the silane coupling agent (A) is too small, and the water resistance of the transparent coating using the metal oxide particles obtained by the surface treatment, Water repellency, fingerprint non-adhesion, and chemical resistance may be insufficient.

モル比(M 1 /M 2 1.51を越えるとマトリックス成分との結合性が悪くなるためか、表面処理金属酸化物粒子を用いて得られる透明被膜の耐擦傷性、硬度、スクラッチ強度が不充分となる場合がある。 If the molar ratio (M 1 / M 2 ) exceeds 1.51 , the bondability with the matrix component becomes poor, or the scratch resistance, hardness, and scratch strength of the transparent film obtained by using the surface-treated metal oxide particles. May be insufficient.

なお、シランカップリング剤(A)として前記式(1)におけるn=1のシランカップリング剤を用いる場合は、シランカップリング剤(B)として前記式(2)におけるn=1のシランカップリング剤を用いることが望ましい。同様に前者がn=2である場合は、後者もn=2である場合が望ましい。さらに、前者がn=3である場合は後者もn=3のシランカップリング剤を用いることが望ましい。   When the silane coupling agent of n = 1 in the above formula (1) is used as the silane coupling agent (A), the silane coupling of n = 1 in the above formula (2) is used as the silane coupling agent (B). It is desirable to use an agent. Similarly, when the former is n = 2, the latter is preferably n = 2. Further, when the former is n = 3, it is desirable to use a silane coupling agent with n = 3 for the latter.

このようにnが同じのシランカップリング剤を用いると加水分解特性が近似しているため配合比に近い形で均一に結合したシランカップリング剤(A)とシランカップリング剤(B)を、表面に形成することができる。   In this way, when the silane coupling agent having the same n is used, the hydrolysis characteristics are approximated. Therefore, the silane coupling agent (A) and the silane coupling agent (B) uniformly bonded in a form close to the blending ratio are obtained. It can be formed on the surface.

とりわけ、シランカップリング剤(A)として前記式(1)におけるn=1のシランカップリング剤とシランカップリング剤(B)として前記式(2)におけるn=1のシランカップリング剤との組み合わせて用いることが好ましい。この場合、nが2〜3のシランカップリング剤より加水分解し易く、かつ、金属酸化物粒子との結合性に優れているために本発明の金属酸化物粒子の表面処理効果が高く、すなわち、表面処理金属酸化物粒子を用いた透明被膜形成用塗布液は安定性に優れ、透明被膜は耐水性、撥水性、指紋不付着性、耐薬品性に優れるとともに、耐擦傷性、硬度、スクラッチ強度にも優れている。   In particular, the combination of the silane coupling agent of n = 1 in the formula (1) as the silane coupling agent (A) and the silane coupling agent of n = 1 in the formula (2) as the silane coupling agent (B) Are preferably used. In this case, the surface treatment effect of the metal oxide particles of the present invention is high because it is more easily hydrolyzed than the silane coupling agent having n of 2 to 3, and has excellent binding properties with the metal oxide particles. The coating solution for forming a transparent film using surface-treated metal oxide particles has excellent stability, and the transparent film has excellent water resistance, water repellency, fingerprint non-adhesion, and chemical resistance, as well as scratch resistance, hardness, and scratch. Excellent strength.

シランカップリング剤(A)とシランカップリング剤(B)との混合アルコール溶液を調製し、前記金属酸化物粒子分散液に混合する。
シランカップリング剤の添加量((A)と(B)の合計)は得られる表面処理金属酸化物粒子中の含有量がRnSiO4-n/2で表して1〜50重量%、さらには2〜30重量%となる範
囲であることが好ましい。
A mixed alcohol solution of the silane coupling agent (A) and the silane coupling agent (B) is prepared and mixed with the metal oxide particle dispersion.
The amount of the silane coupling agent added (total of (A) and (B)) is 1 to 50% by weight in terms of the content of the surface-treated metal oxide particles obtained, expressed as R n SiO 4 -n / 2. Is preferably in the range of 2 to 30% by weight.

シランカップリング剤の添加量が少ない場合はマトリックス成分への分散性が悪くなるとともに、マトリックス成分との結合性も悪くなる。シランカップリング剤の添加量が多すぎると、金属酸化物粒子の割合が低く、所望の金属酸化物の特性、例えば、導電性、屈折率が損なわれることがある。   When the addition amount of the silane coupling agent is small, the dispersibility to the matrix component is deteriorated and the binding property to the matrix component is also deteriorated. When the amount of the silane coupling agent added is too large, the ratio of the metal oxide particles is low, and desired metal oxide characteristics such as conductivity and refractive index may be impaired.

なお、シランカップリング剤混合アルコール溶液中のシランカップリング剤濃度としては特に制限されるものではない、ハンドリングなどの点も鑑み、1〜50重量%の範囲にあることが望ましい。溶媒としては、前記したものが使用され、好ましくは金属酸化物粒子分散液を構成する溶媒と同じ物が望ましい。   The concentration of the silane coupling agent in the silane coupling agent mixed alcohol solution is not particularly limited, and is preferably in the range of 1 to 50% by weight in view of handling and the like. As the solvent, those described above are used, and preferably the same as the solvent constituting the metal oxide particle dispersion.

シランカップリング剤混合後の金属酸化物粒子分散液の濃度(シランカップリング剤の混合アルコール溶液を含む)は固形分濃度として5〜45重量%、さらには10〜40重量%の範囲にあることが好ましい。金属酸化物粒子分散液の濃度が小さいと、使用するシランカップリング剤の量も少なくなるので、所定量のシランカップリング剤で表面処理できない場合があり、45重量%を越えると、表面処理前の金属酸化物粒子が凝集傾向にあり、各粒子に均一に表面処理ができないためか、得られる表面処理金属酸化物粒子のマトリックス成分への分散性が不充分となることがあり、前記した本願発明の効果が充分得られないことがある。   The concentration of the metal oxide particle dispersion after mixing the silane coupling agent (including the mixed alcohol solution of the silane coupling agent) should be in the range of 5 to 45% by weight, more preferably 10 to 40% by weight as the solid content concentration. Is preferred. If the concentration of the metal oxide particle dispersion is small, the amount of the silane coupling agent to be used is also small, so the surface treatment may not be possible with a predetermined amount of the silane coupling agent. The metal oxide particles tend to agglomerate and each particle cannot be uniformly surface-treated, or the dispersibility of the resulting surface-treated metal oxide particles in the matrix component may be insufficient. The effects of the invention may not be sufficiently obtained.

また、金属酸化物粒子分散液中には、シランカップリング剤の加水分解用の水が存在し、水のモル数(MH2O)とシランカップリング剤(A)とシランカップリング剤(B)の合計のモル数(MSC)とのモル比(M H2O /M SC 9.67〜58.01の範囲にあることが好ましい。 Further, in the metal oxide particle dispersion, there is water for hydrolysis of the silane coupling agent. The number of moles of water (M H2O ), the silane coupling agent (A), and the silane coupling agent (B) The molar ratio (M H2O / M SC ) to the total number of moles (M SC ) is preferably in the range of 9.67 to 58.01 .

モル比(MH2O)/(MSC)が小さいと、シランカップリング剤が加水分解しにくいため充分な表面処理効果が得られない場合があり、モル比(MH2O)/(MSC)が大きすぎると、シランカップリング剤の加水分解が早くなりすぎるため、表面に結合しない加水分解物がおおくなり、充分な表面処理効果が得られない場合がある。 If the molar ratio (M H2O ) / (M SC ) is small, the silane coupling agent is difficult to hydrolyze, so that a sufficient surface treatment effect may not be obtained. The molar ratio (M H2O ) / (M SC ) is If it is too large, the silane coupling agent is hydrolyzed too quickly, so that a hydrolyzate that does not bind to the surface is left, and a sufficient surface treatment effect may not be obtained.

さらに、シランカップリング剤を混合した金属酸化物粒子分散液には、必要に応じてシランカップリング剤の加水分解用触媒を用いることができる。
加水分解用触媒としては、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムハイドライト、テトラプロピルアンモニウムハイドライト、テトラブチルアンモニウムハイドライト、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、硝酸、塩酸、酢酸等が挙げられる。
Furthermore, a catalyst for hydrolysis of the silane coupling agent can be used in the metal oxide particle dispersion mixed with the silane coupling agent, if necessary.
Examples of the catalyst for hydrolysis include ammonia, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydrite, tetrapropylammonium hydrite, tetrabutylammonium hydrate, triethanolamine, triethylamine, nitric acid, hydrochloric acid, acetic acid and the like. .

加水分解用触媒のモル数(MHC)とシランカップリング剤の合計のモル数(MSC)とのモル比(MHC/MSC)が0.07〜0.16の範囲にあることが好ましいThe molar ratio (M HC / M SC ) between the number of moles of hydrolysis catalyst (M HC ) and the total number of moles of silane coupling agent (M SC ) is in the range of 0.07 to 0.16. Is preferred .

モル比(MHC)/(MSC)が小さい場合は、シランカップリング剤の種類によっては加水分解を促進することができないために充分な表面処理ができず、モル比(MHC)/(MSC)がおおきすぎると、金属酸化物粒子の表面に結合しない加水分解物が多くなり、充分な表面処理効果が得られない場合がある。 When the molar ratio (M HC ) / (M SC ) is small, depending on the type of silane coupling agent, hydrolysis cannot be promoted, so that sufficient surface treatment cannot be performed, and the molar ratio (M HC ) / ( If M SC ) is too large, hydrolyzate that does not bind to the surface of the metal oxide particles increases, and a sufficient surface treatment effect may not be obtained.

シランカップリング剤を混合した金属酸化物粒子分散液は、撹拌しながらシランカップリング剤を加水分解させて金属酸化物の表面処理を行う。この時、40〜100℃の加温下で熟成することが好ましい。   The metal oxide particle dispersion mixed with the silane coupling agent is subjected to surface treatment of the metal oxide by hydrolyzing the silane coupling agent while stirring. At this time, it is preferable to age | cure | ripen under a 40-100 degreeC heating.

加水分解、熟成温度が低いと、フルオロ基含有炭化水素基を有するシランカップリング剤の加水分解が遅くなり、また、熟成温度が高すぎても加水分解が早くなりすぎて金属酸化物粒子の表面に結合しない加水分解物が多くなり、充分な表面処理効果が得られない場合がある。   If the hydrolysis and aging temperature is low, the hydrolysis of the silane coupling agent having a fluoro group-containing hydrocarbon group becomes slow, and if the aging temperature is too high, the hydrolysis becomes too fast and the surface of the metal oxide particles In some cases, the hydrolyzate that does not bind to the surface increases, and a sufficient surface treatment effect cannot be obtained.

得られた、表面処理金属酸化物粒子分散液はそのまま透明被膜等にもちいることができるが、限外濾過膜法等で洗浄し、所望の有機溶媒に置換して用いることもできる。
有機溶媒としては、メチルアルコール、エチルアルコール、プロパノール、2-プロパノール(IPA)イソプロピルグリコールなどのアルコール類;酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルなどのエステル類;ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルなどのケトン類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、トルエン、シクロヘキサノン、イソホロン等が好ましい。
処理後の金属酸化物粒子の大きさは実質的変化しない。
The obtained surface-treated metal oxide particle dispersion can be used as it is for a transparent film or the like, but it can also be used by washing with an ultrafiltration membrane method or the like and substituting with a desired organic solvent.
Examples of organic solvents include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, propanol, and 2-propanol (IPA) isopropyl glycol; esters such as acetic acid methyl ester, ethyl acetate, and butyl acetate; diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene Ethers such as glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetyl acetone, acetoacetate, methyl cellosolve, ethyl Cellosolve, butyl cellosolve, toluene, cyclohexanone, isophoro Are preferred.
The size of the metal oxide particles after the treatment is not substantially changed.

透明被膜形成用塗布液
本発明に係る透明被膜形成用塗布液は、前記表面処理金属酸化物粒子と分散媒とを含む。
Transparent Film Forming Coating Liquid The transparent film forming coating liquid according to the present invention contains the surface-treated metal oxide particles and a dispersion medium.

(i)表面処理金属酸化物微粒子
本発明の透明被膜形成用塗布液には前記製造方法で得られた表面処理金属酸化物微粒子が用いられる。
(i) Surface-treated metal oxide fine particles The surface-treated metal oxide fine particles obtained by the above production method are used in the coating liquid for forming a transparent film of the present invention.

(ii)マトリックス形成成分
マトリックス形成成分としては、有機樹脂系マトリックス形成成分、シリコーン系マトリックス形成成分等が用いられる。
(ii) Matrix-forming component As the matrix-forming component, an organic resin-based matrix-forming component, a silicone-based matrix-forming component, or the like is used.

有機樹脂系マトリックス形成成分として、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基等の官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂が挙げられ、具体的にはペンタエリスリトールトリアクリレート、ジエチルアミノメチルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールジメタクリレート、ブトキシジエチレングリコールメタクリレートおよびこれらの混合物あるいはこれら樹脂の2種以上の共重合体や変性体であってもよい。   Examples of organic resin matrix forming components include polyfunctional (meth) acrylic acid ester resins having functional groups such as hydroxyl, amino, carboxyl, and sulfo groups. Specifically, pentaerythritol triacrylate, diethylaminomethyl methacrylate, It may be dimethylaminomethyl methacrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl acrylate, methoxytriethylene glycol dimethacrylate, butoxydiethylene glycol methacrylate and mixtures thereof, or a copolymer or modified body of two or more of these resins. .

また、有機樹脂系マトリックス形成成分として、ビニル基、ウレタン基、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、CF2基等の官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル
樹脂も挙げられ、具体的にはペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメテクリレート、イソデシルメテクリレート、n-ラウリルアクリレート、n−ステアリルアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、トリフロロエチルメタクリレート、ウレタンアクリレート等およびこれらの混合物が挙げられる。
Examples of the organic resin matrix forming component include polyfunctional (meth) acrylic acid ester resins having functional groups such as vinyl group, urethane group, epoxy group, (meth) acryloyl group, CF 2 group, and the like. Is pentaerythritol tetraacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl Metecrylate, isodecyl metecrylate, n-lauryl acrylate, n-stearyl acrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, perfluorooct Le methacrylate, trifluoroethyl methacrylate, urethane acrylate and the like and mixtures thereof.

具体的には、シリコーン系(ゾルゲル系)マトリックス形成成分としてテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(βメトキシエトキシ)シラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、β−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラオクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、トリメチルシラノール、メチルトリクロロシラン等およびこれらの部分加水分解物、加水分解重縮合物が挙げられる。   Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, a silicone-based (sol-gel) matrix forming component, Methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (βmethoxyethoxy) silane, 3,3,3-tri Fluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyl Rutrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltriethoxysilane, γ-glycidoxyethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxyethyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyl Trimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ- (β-glycidoxyethoxy) propyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltrimethoxy Silane, γ- (meth) acrylooxymethyltriethoxysilane, γ- (meth) acrylooxyethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxyethyltriethoxysilane, γ- (meth) acrylooxypropyl Trimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxypropyltrimethoxysilane Lan, γ- (meth) acrylooxypropyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilaoctyltriethoxysilane, decyltriethoxy Silane, butyltriethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, 3-ureidoisopropylpropyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltrimethoxysilane, perfluorooctylethyltriethoxy Silane, perfluorooctylethyltriisopropoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxy Sisilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, trimethylsilanol, methyltrichlorosilane and the like, and partial hydrolysis thereof Products and hydrolyzed polycondensates.

なかでも、本発明では前記した有機樹脂系マトリックス形成成分が表面処理金属酸化物粒子との親和性、分散性、表面処理金属酸化物粒子との結合性に優れているので好適に用いることができる。   Among them, in the present invention, the organic resin-based matrix-forming component described above can be suitably used because it has excellent affinity with the surface-treated metal oxide particles, dispersibility, and binding properties with the surface-treated metal oxide particles. .

前記したように、表面処理金属酸化物粒子は特定のシランカップリング剤(A)と(B)とを組合わせているので、マトリックス形成成分は特定のシランカップリング剤(A)と(B)と親和性を有し、シランカップリング剤の有機基との結合が促進されることが望まれるため、有機樹脂系マトリックスにおいても、CF2基を有する有機樹脂と他の樹脂とを組合わせて用いることが望ましい。 As described above, since the surface-treated metal oxide particles combine a specific silane coupling agent (A) and (B), the matrix-forming component is a specific silane coupling agent (A) and (B). It is desirable that the bonding with the organic group of the silane coupling agent is promoted, so that in the organic resin matrix, an organic resin having a CF 2 group is combined with another resin. It is desirable to use it.

本発明では、必要に応じて有機樹脂系マトリックス形成成分を重縮合するための触媒が含まれていても良い。また、シリコーン系マトリックス形成成分を使用する場合、加水分解、重縮合触媒が含まれていても良い。   In the present invention, a catalyst for polycondensation of the organic resin matrix forming component may be included as necessary. Moreover, when using a silicone type matrix formation component, a hydrolysis and a polycondensation catalyst may be contained.

(iii)分散媒
本発明に用いる分散媒としては前記マトリックス形成成分、必要に応じて用いる重合開始剤を溶解あるいは分散できるとともに表面処理金属酸化物微粒子を均一に分散することができれば特に制限はなく、従来公知の溶媒を用いることができる。
(iii) Dispersion medium The dispersion medium used in the present invention is not particularly limited as long as it can dissolve or disperse the matrix-forming component and, if necessary, the polymerization initiator and uniformly disperse the surface-treated metal oxide fine particles. A conventionally known solvent can be used.

具体的には、水、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール(IPA)、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、イソプロピルグリコールなどのアルコール類;酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルなどのエステル類;ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルなどのケトン類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、トルエン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。   Specifically, alcohols such as water, methanol, ethanol, propanol, 2-propanol (IPA), butanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol, ethylene glycol, hexylene glycol, isopropyl glycol; acetic acid Esters such as methyl ester, ethyl acetate, butyl acetate; ethers such as diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether Acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetylacetone, acetone Ketones such as acetate, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, toluene, cyclohexanone, isophorone and the like.

これらは単独で使用してもよく、また2種以上混合して使用することもできる。
透明被膜形成用塗布液の濃度は特に制限さるものでないが、表面処理金属酸化物微粒子とマトリックス形成成分の合計固形分濃度が0.5〜40重量%、さらには1〜30重量%の範囲にあることが好ましい。
These may be used alone or in combination of two or more.
The concentration of the coating solution for forming the transparent film is not particularly limited, but the total solid concentration of the surface-treated metal oxide fine particles and the matrix-forming component is in the range of 0.5 to 40% by weight, more preferably 1 to 30% by weight. Preferably there is.

該合計固形分濃度が小さいと、形成される透明被膜が薄くなり、得られる透明被膜の密着性、強度、耐擦傷性等が不充分となることがある。また、充分な反射防止性能等が得られないこともある。合計固形分濃度が高すぎても、塗料の粘度が高くなり、塗布液の安定性が低下したり、塗布性が低下し、得られる透明被膜の均一性、基材との密着性、強度等が不充分となることがある。   If the total solid content concentration is small, the formed transparent film becomes thin, and the resulting transparent film may have insufficient adhesion, strength, scratch resistance, and the like. In addition, sufficient antireflection performance may not be obtained. Even if the total solid content concentration is too high, the viscosity of the paint increases, the stability of the coating solution decreases or the applicability decreases, the uniformity of the resulting transparent film, the adhesion to the substrate, the strength, etc. May be insufficient.

透明被膜形成用塗布液中の表面処理金属酸化物微粒子濃度(固形分換算)は0.1〜36重量%、さらには0.2〜32重量%の範囲にあることが好ましい。
該表面処理金属酸化物微粒子濃度が低い場合は、得られる透明被膜中の粒子の量が少ないために粒子の特性(耐擦傷性、屈折率、導電性等)による耐擦傷性、反射防止性能、帯電防止性能等が不充分となる場合がある。該表面処理金属酸化物微粒子濃度が高すぎると、得られる透明被膜中の粒子の量が多すぎて基材との密着性、透明性、耐擦傷性等が不充分となる場合がある。
The concentration of the surface-treated metal oxide fine particles (in terms of solid content) in the coating solution for forming a transparent film is preferably 0.1 to 36% by weight, more preferably 0.2 to 32% by weight.
When the concentration of the surface-treated metal oxide fine particles is low, the amount of particles in the obtained transparent coating is small, so that the scratch resistance, antireflection performance due to the characteristics of the particles (scratch resistance, refractive index, conductivity, etc.), The antistatic performance and the like may be insufficient. If the concentration of the surface-treated metal oxide fine particles is too high, the amount of particles in the resulting transparent coating is too large, and adhesion to the substrate, transparency, scratch resistance, etc. may be insufficient.

透明被膜形成用塗布液中のマトリックス形成成分濃度は、固形分として0.4〜38重量%、さらには0.8〜35重量%の範囲にあることが好ましい。
透明被膜形成用塗布液中のマトリックス形成成分濃度が低いと、透明被膜の膜厚が薄くなったり、基材との密着性、透明性、耐擦傷性等が不充分となる場合がある。マトリックス形成成分濃度が高すぎると、得られる透明被膜の耐擦傷性、反射防止性能、帯電防止性能等が不充分となる場合がある。
The concentration of the matrix-forming component in the coating solution for forming a transparent film is preferably in the range of 0.4 to 38% by weight, more preferably 0.8 to 35% by weight as the solid content.
If the concentration of the matrix-forming component in the coating liquid for forming a transparent film is low, the film thickness of the transparent film may be reduced, and adhesion to the substrate, transparency, scratch resistance, etc. may be insufficient. If the concentration of the matrix-forming component is too high, the resulting transparent film may have insufficient scratch resistance, antireflection performance, antistatic performance, and the like.

上記した透明被膜形成用塗布液をディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、バーコート法、グラビア印刷法、マイクログラビア印刷法等の周知の方法で基材に塗布し、乾燥し、紫外線照射、加熱処理等常法によって硬化させることによって透明被膜を形成することができる。   The above-mentioned coating liquid for forming a transparent film is applied to a substrate by a known method such as a dipping method, a spray method, a spinner method, a roll coating method, a bar coating method, a gravure printing method, or a micro gravure printing method, dried, and then irradiated with ultraviolet rays. A transparent film can be formed by curing by conventional methods such as irradiation and heat treatment.

透明被膜付基材
本発明に係る透明被膜付基材は、基材上に透明被膜が形成された透明被膜付基材であって、該透明被膜がマトリックス成分と前記製造方法で得られた表面処理金属酸化物粒子とを含んでなることを特徴としている。
A substrate with a transparent coating The substrate with a transparent coating according to the present invention is a substrate with a transparent coating in which a transparent coating is formed on the substrate, and the transparent coating is a surface obtained by the matrix component and the production method. It is characterized by comprising treated metal oxide particles.

(i)基材
本発明に用いる基材としては、従来公知のものを特に制限なく使用することが可能であり、ガラス、ポリカーボネート、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)、トリアセチルセルロース(TAC)、シクロポリオレフィン、ノルボルネン等のプラスチックシート、プラスチックフィルム等、プラスチックパネル等があげられる。中でも樹脂系基材を好適に用いることができる。また、このような基材上に、他の被膜が形成された被膜付基材を用いこともできる。他の被膜としては従来公知のプライマー膜、ハードコート膜、高屈折率膜、導電性膜等が挙げられる。
(i) Substrate As the substrate used in the present invention, a conventionally known substrate can be used without particular limitation, and glass, polycarbonate, acrylic resin, polyethylene terephthalate (PET), triacetyl cellulose (TAC) And plastic sheets such as cyclopolyolefin and norbornene, plastic films, and plastic panels. Among these, a resin base material can be preferably used. Moreover, the base material with a film in which another film was formed on such a base material can also be used. Examples of other coatings include conventionally known primer films, hard coat films, high refractive index films, and conductive films.

(ii)表面処理金属酸化物微粒子
表面処理された金属酸化物微粒子としては前記製造方法で得られた表面処理金属酸化物微粒子が用いられる。
(ii) Surface-treated metal oxide fine particles As the surface-treated metal oxide fine particles, the surface-treated metal oxide fine particles obtained by the production method are used.

透明被膜中の表面処理金属酸化物微粒子の含有量は固形分として0.2〜90重量%、さらには0.5〜80重量%の範囲にあることが好ましい。表面処理金属酸化物微粒子の含有量が少ないと、透明被膜中の粒子の量が少ないために粒子の特性(耐擦傷性、屈折率、導電性等)による耐擦傷性、反射防止性能、帯電防止性能等が不充分となる場合がある。表面処理金属酸化物微粒子の含有量が多いと、透明被膜中の粒子の量が多すぎて基材との密着性、透明性、耐擦傷性等が不充分となる場合がある。   The content of the surface-treated metal oxide fine particles in the transparent coating is preferably in the range of 0.2 to 90% by weight, more preferably 0.5 to 80% by weight as the solid content. When the content of the surface-treated metal oxide fine particles is small, the amount of particles in the transparent film is small, so the scratch resistance, antireflection performance, and antistatic properties depending on the particle properties (scratch resistance, refractive index, conductivity, etc.) The performance may be insufficient. If the content of the surface-treated metal oxide fine particles is large, the amount of particles in the transparent coating is too large, and adhesion to the substrate, transparency, scratch resistance, etc. may be insufficient.

(iii)マトリックス成分
マトリックス成分としては、前記した有機樹脂系マトリックス成分または前記したシリコーン系マトリックス形成成分の加水分解重縮合物が用いられる。本発明では前記した有機樹脂系マトリックス成分は前記した表面処理金属酸化物粒子の分散性、表面処理金属酸化物粒子との結合性に優れているので好適に用いることができる。
(iii) Matrix component As the matrix component, the above-mentioned organic resin matrix component or the hydrolyzed polycondensate of the aforementioned silicone matrix forming component is used. In the present invention, the organic resin matrix component described above can be suitably used because it is excellent in the dispersibility of the surface-treated metal oxide particles and the binding properties with the surface-treated metal oxide particles.

透明被膜中のマトリックス成分の含有量は固形分として10〜99.8重量%、さらには20〜99.5重量%の範囲にあることが好ましい。マトリックス成分の含有量が少ないと、膜中の粒子の割合が多くなり、基材との密着性、透明性、耐擦傷性等が不充分となる場合がある。マトリックス成分の含有量が多いと、透明被膜中の粒子の量が少ないために粒子の特性(耐擦傷性、屈折率、導電性等)による耐擦傷性、反射防止性能、帯電防止性能等が不充分となる場合がある。   The content of the matrix component in the transparent coating is preferably in the range of 10 to 99.8% by weight, more preferably 20 to 99.5% by weight as the solid content. When the content of the matrix component is small, the proportion of particles in the film increases, and adhesion to the substrate, transparency, scratch resistance, and the like may be insufficient. If the content of the matrix component is large, the amount of particles in the transparent coating is small, so the scratch resistance, antireflection performance, antistatic performance, etc. due to the properties of the particles (scratch resistance, refractive index, conductivity, etc.) are poor. May be sufficient.

透明被膜の膜厚は、用途によっても異なるが概ね30nm〜12μm、さらには、70nm〜10μmの範囲にあることが好ましい。透明被膜が薄いと、得られる透明被膜の密着性、強度等が不充分となったり、粒子の特性(屈折率、導電性等)による反射防止性能、帯電防止性能等が不充分となる場合がある。また、透明被膜が膜厚すぎても、透明被膜にクラックを生じたり、プラスチック等の基材ではカーリング(湾曲あるいは反り)を生じる場合がある。   The film thickness of the transparent film varies depending on the application, but is generally in the range of 30 nm to 12 μm, and more preferably in the range of 70 nm to 10 μm. If the transparent film is thin, the adhesion, strength, etc. of the resulting transparent film may be insufficient, or the antireflection performance, antistatic performance, etc. due to the properties of the particles (refractive index, conductivity, etc.) may be insufficient. is there. Even if the transparent film is too thick, the transparent film may be cracked, or a substrate such as plastic may be curled (curved or warped).

本発明に係る透明被膜付基材は、前記した透明被膜形成用塗布液を基材上に塗布し、乾燥し、硬化させることによって製造することができる。
具体的には、前記した透明被膜形成用塗布液をディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、バーコート法、スリットコーター印刷法、グラビア印刷法、マイクログラビア印刷法等の周知の方法で基材上(他の被膜が形成されているのであればその被膜上)に塗布し、乾燥し、紫外線照射、加熱処理等常法によって硬化させることによって透明被膜を形成することができる。
The substrate with a transparent coating according to the present invention can be produced by applying the above-described coating solution for forming a transparent coating on a substrate, drying and curing.
Specifically, the above-described coating liquid for forming a transparent film is formed by a known method such as a dipping method, a spray method, a spinner method, a roll coating method, a bar coating method, a slit coater printing method, a gravure printing method, or a micro gravure printing method. A transparent film can be formed by coating on a base material (if another film is formed, on that film), drying, and curing by an ordinary method such as ultraviolet irradiation or heat treatment.

防弦性を有する透明被膜付基材を製造する場合はロールコート法、スリットコーター印刷法、グラビア印刷法、マイクログラビア印刷法が推奨される。
本発明の透明被膜付基材には、基材と前記透明被膜との間に前記透明被膜と異なる他の被膜を設けることができる。他の被膜としては、従来公知のプライマー膜、ハードコート膜、高屈折率膜、導電性膜、低屈折率膜、アンチグレア膜、赤外線遮蔽膜、紫外線遮蔽膜等が挙げられる。
When manufacturing a substrate with a transparent coating having a string-proof property, a roll coating method, a slit coater printing method, a gravure printing method, and a micro gravure printing method are recommended.
In the substrate with a transparent coating of the present invention, another coating different from the transparent coating can be provided between the substrate and the transparent coating. Examples of other coatings include conventionally known primer films, hard coat films, high refractive index films, conductive films, low refractive index films, antiglare films, infrared shielding films, and ultraviolet shielding films.

[実施例]
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
透明被膜形成用塗布液(A-1H)の調製
導電成分として、五酸化アンチモン微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:ELCOM V-4560、平均粒子径20nm、濃度30.5重量%、分散媒:エタノール/メタノール/イソプロパノール=85.5/13.4/1.1、粒子屈折率1.64)44.26gとジヘキサエリスリトールトリアセテート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE-6A)14.85g、と1.6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX-A)1.65gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)8.25gおよびイソプロパノールとブチルセロソルブの1/1(重量比)混合溶媒30.99gとを充分に混合してハードコートおよび帯電防止用の透明被膜形成用塗布液(A-1H)を調製した。
[Example]
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these Examples.
[Example 1]
Preparation of coating liquid for forming transparent film (A-1H) As conductive component, antimony pentoxide fine particle dispersed sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: ELCOM V-4560, average particle size 20 nm, concentration 30.5% by weight, dispersed Medium: ethanol / methanol / isopropanol = 85.5 / 13.4 / 1.1, particle refractive index 1.64) 44.26 g and dihexaerythritol triacetate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Acrylate DPE-6A) and 1.85 g. Photoinitiator (manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184, dissolved in IPA, solid content concentration 10%) in 1.65 g of 6-hexanediol diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: light acrylate 1.6HX-A) 8.25 g and a transparent coating for hard coating and antistatic by thoroughly mixing 30.99 g of 1/1 (weight ratio) mixed solvent of isopropanol and butyl cellosolve A forming coating solution (A-1H) was prepared.

表面処理金属酸化物粒子(A-1)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノール、粒子屈折率1.30)を用いた。このゾル80gにヘプタデカトリフルオロデシルトリプロポキシシラン0.82g(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ(株)(旧社名:GE東芝シリコーン)製:XC95-A9715)とγ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株):KBM-503)0.82gを混合し超純水を2.38g、29%アンモニア水0.06gを添加し50℃で20時間攪拌し、固形分濃度21.0重量%の表面処理金属酸化物粒子(A-1)分散ゾルを得た。
Preparation of surface-treated metal oxide particles (A-1) As a low refractive index component, silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5 wt%, dispersion Medium: isopropanol, particle refractive index 1.30) was used. To 80 g of this sol, 0.82 g of heptadecatrifluorodecyltripropoxysilane (Momentive Performance Materials Co., Ltd. (former name: GE Toshiba Silicone): XC95-A9715) and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu) Chemical Co., Ltd .: KBM-503) 0.82 g was mixed, 2.38 g of ultrapure water and 0.06 g of 29% ammonia water were added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 20 hours to obtain a solid content concentration of 21.0 wt%. A surface-treated metal oxide particle (A-1) -dispersed sol was obtained.

透明被膜形成用塗布液(A-1R)の調製
この表面処理金属酸化物粒子(1)分散ゾル5.95gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE-6A)0.54gとフッ素樹脂(共栄社化学(株)製:フルオライトLINC-3A)0.54gと1.6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX-A)0.12gとパーフロロオクチルエチルアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートFA-108、MIBKで希釈、固形分濃度10%)0.50gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)0.50gおよびイソプロパノールとブチルセロソルブの1/1(重量比)混合溶媒91.85gとを充分に混合して反射防止用の透明被膜形成用塗布液(A-1R)を調製した。
Preparation of coating liquid for transparent film formation (A-1R) 5.95 g of this surface-treated metal oxide particle (1) dispersion sol and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate DPE-6A) 54 g, fluororesin (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Fluorite LINC-3A) 0.54 g and 1.6-hexanediol diacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Acrylate 1.6HX-A) 0.12 g and par Fluorooctyl ethyl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate FA-108, diluted with MIBK, solid content concentration 10%) 0.50 g dissolved in photoinitiator (Ciba Supality Co., Ltd .: Irgacure 184, IPA) , Solid content concentration 10%) and 0.51 g of an isopropanol and 1/1 (weight ratio) mixed solvent of butyl cellosolve and 91.85 g of a mixed solvent are sufficiently mixed to form a transparent coating for antireflection Use coating solution (A-1R) was prepared.

透明被膜付基材(A-1)の調製
透明被膜形成用塗布液(A-1H)をPETフィルム(厚さ100μm、屈折率1.65、基材透過率88.0%、Haze1.0%、反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)でUVを400mJ/cm2照射して硬化させて透明被膜付基材(A-1H)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。
Preparation of substrate with transparent film (A-1) Coating liquid (A-1H) for forming a transparent film was obtained by using a PET film (thickness 100 μm, refractive index 1.65, substrate transmittance 88.0%, haze 1.0%). The film was coated with a bar coater at a reflectance of 5.1%, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then cured by irradiation with 400 mJ / cm 2 of UV with a high-pressure mercury lamp (80 W / cm). A-1H) was prepared. The film thickness at this time was 5 μm.

ついで、透明被膜付基材(A-1H)上に反射防止用の透明被膜形成用塗布液(A-1R)をバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)で400mJ/cm2紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(A-1)を調製した。このときの反射防止膜の膜厚は100nmであった。 Next, a coating solution (A-1R) for forming a transparent coating for preventing reflection was applied to the substrate with a transparent coating (A-1H) with a bar coater and dried at 70 ° C. for 1 minute. The substrate (A-1) with a transparent coating was prepared by irradiating and curing 400 mJ / cm 2 ultraviolet light at cm). At this time, the film thickness of the antireflection film was 100 nm.

得られた透明被膜付基材(A-1)の表面抵抗値、全光線透過率、へーズ、波長550nmの光線の反射率、密着性、鉛筆硬度、耐擦傷性、マジック拭取り性、耐アルカリ性を測定し結果を表1に示した。   Surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance of light with a wavelength of 550 nm, adhesion, pencil hardness, scratch resistance, magic wiping resistance, resistance of the obtained transparent coated substrate (A-1) The alkalinity was measured and the results are shown in Table 1.

表面抵抗を表面抵抗計(三菱油化(株)製:LORESTA)で測定し、全光線透過率およびヘーズはヘーズメーター(日本電色(株)製:NDH2000)により、反射率は分光光度計(日本分光社製:Ubest−55)により夫々測定した。
また、防眩性、密着性、鉛筆硬度、耐擦傷性、マジック拭取り性、耐アルカリ性を以下の方法および評価基準で評価し、結果を表1に示した。
The surface resistance was measured with a surface resistance meter (manufactured by Mitsubishi Oil Chemical Co., Ltd .: LORESTA), the total light transmittance and haze were measured with a haze meter (manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd .: NDH2000), and the reflectance was measured with a spectrophotometer ( Measurement was carried out by JASCO Corporation (Ubest-55).
Further, antiglare property, adhesion, pencil hardness, scratch resistance, magic wiping property, and alkali resistance were evaluated by the following methods and evaluation criteria, and the results are shown in Table 1.

密着性
ハードコート機能付き反射防止膜付基材(1)の表面にナイフで縦横1mmの間隔で11本の平行な傷を付け100個の升目を作り、これにセロハンテープを接着し、ついで、セロハンテープを剥離したときに被膜が剥離せず残存している升目の数を、以下の4段階に分類することにより密着性を評価した。結果を表1に示す。
残存升目の数100個 :◎
残存升目の数90〜99個 :○
残存升目の数85〜89個 :△
残存升目の数84個以下 :×
Adhesive hard coat function with anti-reflection coating base material (1) The surface of the substrate (1) with a knife to make 11 parallel scratches at intervals of 1 mm in length and width, make 100 squares, glue cellophane tape to this, Adhesiveness was evaluated by classifying the number of cells remaining without peeling of the coating when the cellophane tape was peeled into the following four stages. The results are shown in Table 1.
Number of remaining squares: ◎
Number of remaining squares 90-99: ○
Number of remaining squares: 85 to 89: Δ
Number of remaining squares: 84 or less: ×

鉛筆硬度
JIS−K−5400に準じて鉛筆硬度試験器により測定した。
Pencil hardness It measured with the pencil hardness tester according to JIS-K-5400.

耐擦傷性
透明被膜付基材(1)に100g/cm2の荷重をかけた規格#0000のスチールウールで10往復擦り、膜表面の傷発生の程度を目視により観察した。
傷発生の程度が全くないものを◎、10本未満のものを○、10〜20本のものを△、傷無数のものを×とした。
The substrate with scratch-resistant transparent coating (1) was rubbed 10 times with standard # 0000 steel wool applied with a load of 100 g / cm 2 , and the degree of scratching on the film surface was visually observed.
A sample having no scratches was evaluated as ◎, a sample of less than 10 was evaluated as ◯, a sample of 10 to 20 was evaluated as Δ, and a countless number of scratches was evaluated as ×.

マジック拭取り性
透明被膜付基材(1)に三菱鉛筆(株)製三菱油性マーカー赤細字で膜表面を2cm直線状に書き、日本製紙クレシア(株)製キムワイプで拭取ったときの拭取り性を目視により観察した。
1回で拭取れたものを◎、2〜3回で拭取れたものを○、4〜10回で拭取れたものを△、拭取れなかったものを×とした。
Magic wiping base material with transparent coating (1) Write a 2cm straight line with a Mitsubishi oil marker made by Mitsubishi Pencil Co., Ltd. and wipe it with a wipe made by Nippon Paper Crecia Co., Ltd. The property was observed visually.
What was wiped in 1 time was marked with 、, what was wiped with 2 to 3 times was marked with ○, what was wiped with 4 to 10 times was marked with Δ, and what was not wiped with was marked with ×.

耐薬品性
透明被膜付基材(1)に濃度3重量%の水酸化ナトリウム水溶液を1滴滴下し、室温で30分間静置後、透明被膜の外観変化を目視により観察した。全く外観変化のないものを◎、殆ど外観変化のないものを○、一部白化あるいは一部浸食されているものを△、白化あるいは完全浸食されているものを×とした。
One drop of a 3% strength by weight aqueous sodium hydroxide solution was dropped on the chemical-resistant transparent film-coated substrate (1) and allowed to stand at room temperature for 30 minutes, and the appearance change of the transparent film was visually observed. The case where there was no change in appearance was marked with ◎, the case where there was almost no change in appearance, ○, the case where it was partially whitened or partially eroded, and the case where it was whitened or completely eroded.

[実施例2]
表面処理金属酸化物粒子(A-2)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノール、粒子屈折率1.30)を用いた。このゾル80gにヘプタデカトリフルオロデシルトリプロポキシシラン0.49g(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ(株)製 XC95-A9715)とγ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株)製KBM-503)1.15gを混合し超純水を2.38g、29%アンモニア水0.06gを添加し50℃で20時間攪拌し、固形分濃度21.0重量%の表面処理金属酸化物粒子(A-2)分散ゾルを得た。
[Example 2]
Preparation of surface-treated metal oxide particles (A-2) As a low refractive index component, silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5 wt%, dispersion Medium: isopropanol, particle refractive index 1.30) was used. 80 g of this sol was added with 0.49 g of heptadecatrifluorodecyltripropoxysilane (XC95-A9715 manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd.) and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 1.15 g was mixed, 2.38 g of ultrapure water and 0.06 g of 29% ammonia water were added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 20 hours, and the surface-treated metal oxide particles (A− 2) A dispersed sol was obtained.

透明被膜形成用塗布液(A-2R)の調製
この表面処理金属酸化物粒子(A-2)分散ゾル5.95gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE-6A)0.54gとフッ素樹脂(共栄社化学(株)製:フルオライトLINC-3A)0.54gと1.6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX-A)0.12gとパーフロロオクチルエチルアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートFA-108、MIBKで希釈、固形分濃度10%)0.50gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)0.50gおよびイソプロパノールとブチルセロソルブの1/1(重量比)混合溶媒91.85gとを充分に混合して反射防止用の透明被膜形成用塗布液(A-2R)を調製した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (A-2R) 5.95 g of this surface-treated metal oxide particle (A-2) dispersion sol and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate DPE-6A) 0.54 g and fluororesin (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Fluorite LINC-3A) 0.54 g and 1.6-hexanediol diacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate 1.6HX-A) 0.12 g And perfluorooctylethyl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: light acrylate FA-108, diluted with MIBK, solid content concentration 10%) to 0.50 g of photoinitiator (Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184, IPA) A transparent coating for antireflection by thoroughly mixing 0.50 g (solid content concentration 10%) and 91.85 g of a 1/1 (weight ratio) mixed solvent of isopropanol and butyl cellosolve A composition coating solution (A-2R) was prepared.

透明被膜付基材(A-2)の調製
実施例1と同様にして透明被膜付基材(A-1H)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。
Preparation of substrate with transparent coating (A-2) A substrate with transparent coating (A-1H) was prepared in the same manner as in Example 1. The film thickness at this time was 5 μm.

ついで、透明被膜付基材(A-1H)上に反射防止用の透明被膜形成用塗布液(2R)をバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)で400mJ/cm2紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(A-2)を調製した。このときの反射防止膜の膜厚は100nmであった。 Next, a coating solution (2R) for forming a transparent coating for preventing reflection was applied on a substrate with a transparent coating (A-1H) with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm). The substrate (A-2) with a transparent film was prepared by irradiating with 400 mJ / cm 2 ultraviolet rays and curing. At this time, the film thickness of the antireflection film was 100 nm.

得られた透明被膜付基材(A-2)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率、密着性、鉛筆硬度、耐擦傷性、マジック拭取り性、耐アルカリ性を測定し結果を表1に示した。   Surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance of light with a wavelength of 550 nm, adhesion, pencil hardness, scratch resistance, magic wiping property, alkali resistance of the obtained substrate with transparent coating (A-2) The results are shown in Table 1.

[実施例3]
表面処理金属酸化物粒子(A-3)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノール、粒子屈折率1.30)を用いた。このゾル80gにヘプタデカトリフルオロデシルトリプロポキシシラン1.31g(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ(株)製 XC95-A9715)とγ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株)製KBM-503)0.33gを混合し超純水を2.38g、29%アンモニア水0.06gを添加し50℃で20時間攪拌し、固形分濃度21.0重量%の表面処理金属酸化物粒子(A-3)分散ゾルを得た。
[Example 3]
Preparation of surface-treated metal oxide particles (A-3) As a low refractive index component, silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5 wt%, dispersion Medium: isopropanol, particle refractive index 1.30) was used. To 80 g of this sol, 1.31 g of heptadecatrifluorodecyltripropoxysilane (XC95-A9715 manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd.) and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.33 g was mixed, 2.38 g of ultrapure water and 0.06 g of 29% ammonia water were added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 20 hours, and the surface-treated metal oxide particles (A− 3) A dispersed sol was obtained.

透明被膜形成用塗布液(A-3R)の調製
この表面処理金属酸化物粒子(A-3)分散ゾル5.95gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE-6A)0.54gとフッ素樹脂(共栄社化学(株)製:フルオライトLINC-3A)0.54gと1.6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX-A)0.12gとパーフロロオクチルエチルアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートFA-108、MIBKで希釈、固形分濃度10%)0.50gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)0.50gおよびイソプロパノールとブチルセロソルブの1/1(重量比)混合溶媒91.85gとを充分に混合して反射防止用の透明被膜形成用塗布液(A-3R)を調製した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (A-3R) 5.95 g of this surface-treated metal oxide particle (A-3) dispersion sol and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate DPE-6A) 0.54 g and fluororesin (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Fluorite LINC-3A) 0.54 g and 1.6-hexanediol diacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate 1.6HX-A) 0.12 g And perfluorooctylethyl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: light acrylate FA-108, diluted with MIBK, solid content concentration 10%) to 0.50 g of photoinitiator (Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184, IPA) A transparent coating for antireflection by thoroughly mixing 0.50 g (solid content concentration 10%) and 91.85 g of a 1/1 (weight ratio) mixed solvent of isopropanol and butyl cellosolve A composition coating solution (A-3R) was prepared.

透明被膜付基材(A-3)の調製
実施例1と同様にして透明被膜付基材(A-1H)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。ついで、透明被膜付基材(A-1H)上に反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(A-3R)をバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)で400mJ/cm2紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(A-3)を調製した。このときの反射防止膜の膜厚は100nmであった。
Preparation of substrate with transparent coating (A-3) A substrate with transparent coating (A-1H) was prepared in the same manner as in Example 1. The film thickness at this time was 5 μm. Next, a coating solution (A-3R) for forming a transparent coating for an antireflection film was coated on a substrate with a transparent coating (A-1H) with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) was cured by irradiating 400 mJ / cm 2 ultraviolet rays to prepare a substrate (A-3) with a transparent coating. At this time, the film thickness of the antireflection film was 100 nm.

得られた透明被膜付基材(A-3)の表面抵抗値、全光線透過率、へーズ、波長550nmの光線の反射率、密着性、鉛筆硬度、耐擦傷性、マジック拭取り性、耐アルカリ性を測定し結果を表1に示した。   Surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance of light having a wavelength of 550 nm, adhesion, pencil hardness, scratch resistance, magic wiping resistance, resistance of the obtained transparent coated substrate (A-3) The alkalinity was measured and the results are shown in Table 1.

[実施例4]
表面処理金属酸化物粒子(A-4)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノール、粒子屈折率1.30)を用いた。このゾル80gにヘプタデカトリフルオロデシルトリプロポキシシラン0.41g(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ(株)製 XC95-A9715)とγ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株)製KBM-503)0.41gを混合し超純水を2.38g、29%アンモニア水0.03gを添加し50℃で20時間攪拌し、固形分濃度20.5重量%の表面処理金属酸化物粒子(A-4)分散ゾルを得た。
[Example 4]
Preparation of surface-treated metal oxide particles (A-4) As a low refractive index component, silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5% by weight, dispersion Medium: isopropanol, particle refractive index 1.30) was used. To 80 g of this sol, 0.41 g of heptadecatrifluorodecyltripropoxysilane (XC95-A9715 manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd.) and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.41 g was mixed, 2.38 g of ultrapure water and 0.03 g of 29% ammonia water were added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 20 hours, and the surface-treated metal oxide particles (A− 4) A dispersed sol was obtained.

透明被膜形成用塗布液(A-4R)の調製
この表面処理金属酸化物粒子(A-4)分散ゾル6.10gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE-6A)0.54gとフッ素樹脂(共栄社化学(株)製:フルオライトLINC-3A)0.54gと1.6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX-A)0.12gとパーフロロオクチルエチルアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートFA-108、MIBKで希釈、固形分濃度10%)0.50gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)0.50gおよびイソプロパノールとブチルセロソルブの1/1(重量比)混合溶媒91.7gとを充分に混合して反射防止用の透明被膜形成用塗布液(A-4R)を調製した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (A-4R) 6.10 g of this surface-treated metal oxide particle (A-4) dispersion sol and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate DPE-6A) 0.54 g and fluororesin (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Fluorite LINC-3A) 0.54 g and 1.6-hexanediol diacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate 1.6HX-A) 0.12 g And perfluorooctylethyl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: light acrylate FA-108, diluted with MIBK, solid content concentration 10%) to 0.50 g of photoinitiator (Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184, IPA) To form a transparent coating for anti-reflection by thoroughly mixing 0.50 g of a solid content concentration of 10%) and 91.7 g of a 1: 1 (weight ratio) mixed solvent of isopropanol and butyl cellosolve. A coating solution (A-4R) was prepared.

透明被膜付基材(A-4)の調製
実施例1と同様にして透明被膜付基材(A-1H)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。ついで、透明被膜付基材(A-1H)上に反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(4R)をバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)で400mJ/cm2紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(A-4)を調製した。このときの反射防止膜の膜厚は100nmであった。
Preparation of substrate with transparent coating (A-4) A substrate with transparent coating (A-1H) was prepared in the same manner as in Example 1. The film thickness at this time was 5 μm. Next, a coating solution (4R) for forming a transparent coating for an antireflection film was coated on a substrate with a transparent coating (A-1H) with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm The substrate (A-4) with a transparent coating was prepared by irradiating with 400 mJ / cm 2 ultraviolet light and curing. At this time, the film thickness of the antireflection film was 100 nm.

得られた透明被膜付基材(A-4)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率、密着性、鉛筆硬度、耐擦傷性、マジック拭取り性、耐アルカリ性を測定し結果を表1に示した。   Surface resistance, total light transmittance, haze, reflectance of light with a wavelength of 550 nm, adhesion, pencil hardness, scratch resistance, magic wiping property, alkali resistance of the obtained substrate with transparent coating (A-4) The results are shown in Table 1.

[実施例5]
表面処理金属酸化物粒子(A-5)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノール 粒子屈折率1.30)を用いた。このゾル80gにヘプタデカトリフルオロデシルトリプロポキシシラン2.46g(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ(株)製 XC95-A9715)とγ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株)製KBM-503)2.46gを混合し超純水を2.38g、29%アンモニア水0.18gを添加し50℃で20時間攪拌し、固形分濃度23.5重量%の表面処理金属酸化物粒子(A-5)分散ゾルを得た。
[Example 5]
Preparation of surface-treated metal oxide particles (A-5) Silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5 wt%, dispersion as low refractive index component Medium: Isopropanol Particle refractive index 1.30) was used. 80 g of this sol was mixed with 2.46 g of heptadecatrifluorodecyltripropoxysilane (XC95-A9715 manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd.) and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 2.46 g was mixed, 2.38 g of ultrapure water and 0.18 g of 29% ammonia water were added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 20 hours to obtain surface-treated metal oxide particles (A− 5) A dispersed sol was obtained.

透明被膜形成用塗布液(A-5R)の調製
この表面処理金属酸化物粒子(4)分散ゾル5.32gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE-6A)0.54gとフッ素樹脂(共栄社化学(株)製:フルオライトLINC-3A)0.54gと1.6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX-A)0.12gとパーフロロオクチルエチルアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートFA-108、MIBKで希釈、固形分濃度10%)0.50gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)0.50gおよびイソプロパノールとブチルセロソルブの1/1(重量比)混合溶媒92.48gとを充分に混合して反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(A-5R)を調製した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (A-5R) 5.32 g of this surface-treated metal oxide particle (4) dispersion sol and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate DPE-6A) 54 g, fluororesin (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Fluorite LINC-3A) 0.54 g and 1.6-hexanediol diacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Acrylate 1.6HX-A) 0.12 g and par Fluorooctyl ethyl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate FA-108, diluted with MIBK, solid content concentration 10%) 0.50 g dissolved in photoinitiator (Ciba Supality Co., Ltd .: Irgacure 184, IPA) , Solid content concentration 10%) and 0.50 g of isopropanol and butyl cellosolve 1/1 (weight ratio) mixed solvent 92.48 g were mixed thoroughly to obtain a transparent coating for an antireflection film Forming coating solution (A-5R) were prepared.

透明被膜付基材(5)の調製
実施例1と同様にして透明被膜付基材(A-1H)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。ついで、透明被膜付基材(A-1H)上に反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(5R)をバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)で400mJ/cm2紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(A-5)を調製した。このときの反射防止膜の膜厚は100nmであった。
Preparation of substrate with transparent coating (5) A substrate with transparent coating (A-1H) was prepared in the same manner as in Example 1. The film thickness at this time was 5 μm. Next, a coating solution (5R) for forming a transparent coating for an antireflection film was applied on a substrate with a transparent coating (A-1H) with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm The substrate (A-5) with a transparent coating was prepared by irradiating with 400 mJ / cm 2 ultraviolet light and curing. At this time, the film thickness of the antireflection film was 100 nm.

得られた透明被膜付基材(A-5)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率、密着性、鉛筆硬度、耐擦傷性、マジック拭取り性、耐アルカリ性を測定し結果を表1に示した。   Surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance of light with a wavelength of 550 nm, adhesion, pencil hardness, scratch resistance, magic wiping property, alkali resistance of the obtained substrate with transparent coating (A-5) The results are shown in Table 1.

[実施例6]
表面処理金属酸化物粒子(A-6)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノール 粒子屈折率1.30)を用いた。このゾル80gにトリフルオロプロピルトリメトキシシラン0.82g(信越化学(株)製:KBM-7103)とγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株):KBM-403)0.82gを混合し超純水を2.38g、29%アンモニア水0.06gを添加し50℃で20時間攪拌し、固形分濃度21.0重量%の表面処理金属酸化物粒子(A-6)分散ゾルを得た。
[Example 6]
Preparation of surface-treated metal oxide particles (A-6) As a low refractive index component, silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5 wt%, dispersion Medium: Isopropanol Particle refractive index 1.30) was used. To 80 g of this sol, 0.82 g of trifluoropropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-7103) and 0.82 g of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-403) are added. After mixing, 2.38 g of ultrapure water and 0.06 g of 29% ammonia water were added and stirred at 50 ° C. for 20 hours, and the surface-treated metal oxide particles (A-6) dispersed sol having a solid content concentration of 21.0 wt% Got.

透明被膜形成用塗布液(A-6R)の調製
この表面処理金属酸化物粒子(A-6)分散ゾル5.95gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE-6A)0.54gとフッ素樹脂(共栄社化学(株)製:フルオライトLINC-3A)0.54gと1.6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX-A)0.12gとパーフロロオクチルエチルアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートFA-108、MIBKで希釈、固形分濃度10%)0.50gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)0.50gおよびイソプロパノールとブチルセロソルブの1/1(重量比)混合溶媒91.85gとを充分に混合して反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(A-6R)を調製した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (A-6R) 5.95 g of this surface-treated metal oxide particle (A-6) dispersion sol and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate DPE-6A) 0.54 g and fluororesin (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Fluorite LINC-3A) 0.54 g and 1.6-hexanediol diacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate 1.6HX-A) 0.12 g And perfluorooctylethyl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: light acrylate FA-108, diluted with MIBK, solid content concentration 10%) to 0.50 g of photoinitiator (Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184, IPA) A transparent coating for an anti-reflective coating by thoroughly mixing 0.50 g dissolved in a solid content concentration of 10%) and 91.85 g of a 1/1 (weight ratio) mixed solvent of isopropanol and butyl cellosolve A forming coating solution (A-6R) was prepared.

透明被膜付基材(A-6)の調製
透明被膜形成用塗布液(A-1H)をPETフィルム(厚さ100μm、屈折率1.65、基材透過率88.0%、Haze1.0%、反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)でUVを400mJ/cm2照射して硬化させて透明被膜付基材(1-1)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。
Preparation of substrate with transparent coating (A-6) A coating solution for forming a transparent coating (A-1H) was prepared from a PET film (thickness 100 μm, refractive index 1.65, substrate transmittance 88.0%, haze 1.0%). The film was coated with a bar coater at a reflectance of 5.1%, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then cured by irradiation with 400 mJ / cm 2 of UV with a high-pressure mercury lamp (80 W / cm). 1-1) was prepared. The film thickness at this time was 5 μm.

ついで、透明被膜付基材(A-1H)上に反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(6R)をバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)で400mJ/cm2紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(A-6)を調製した。このときの反射防止膜の膜厚は100nmであった。 Next, a coating solution (6R) for forming a transparent coating for an antireflection film was coated on a substrate with a transparent coating (A-1H) with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm ) Was cured by irradiating with 400 mJ / cm 2 ultraviolet rays to prepare a substrate with a transparent coating (A-6). At this time, the film thickness of the antireflection film was 100 nm.

得られた透明被膜付基材(A-6)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率、密着性、鉛筆硬度、耐擦傷性、マジック拭取り性、耐アルカリ性を測定し結果を表1に示した。   Surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance of light having a wavelength of 550 nm, adhesion, pencil hardness, scratch resistance, magic wiping property, alkali resistance of the obtained substrate with transparent coating (A-6) The results are shown in Table 1.

[実施例7]
表面処理金属酸化物粒子(A-7)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノール 粒子屈折率1.30)を用いた。このゾル80gにヘプタデカトリフルオロデシルトリメトキシシラン0.82g(信越化学(株)製:KBM-7803)とγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株):KBM-403)0.82gを混合し超純水を2.38g、29%アンモニア水0.06gを添加し50℃で20時間攪拌し、固形分濃度21.0重量%の表面処理金属酸化物粒子(A-7)分散ゾルを得た。
[Example 7]
Preparation of surface-treated metal oxide particles (A-7) As a low refractive index component, silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5 wt%, dispersion Medium: Isopropanol Particle refractive index 1.30) was used. 80 g of this sol was mixed with 0.82 g of heptadecatrifluorodecyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-7803) and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-403). 82g was mixed, 2.38g of ultrapure water and 0.06g of 29% ammonia water were added and stirred at 50 ° C for 20 hours, and the surface-treated metal oxide particles (A-7) having a solid content concentration of 21.0% by weight A dispersed sol was obtained.

透明被膜形成用塗布液(A-7R)の調製
この表面処理金属酸化物粒子(A-7)分散ゾル5.95gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE-6A)1.08gと1.6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX-A)0.12gとパーフロロオクチルエチルアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートFA-108、MIBKで希釈、固形分濃度10%)0.50gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)0.50gおよびイソプロパノールとブチルセロソルブの1/1(重量比)混合溶媒91.85gとを充分に混合して反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(A-7R)を調製した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (A-7R) 5.95 g of this surface-treated metal oxide particle (A-7) dispersion sol and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate DPE-6A) 1.08 g and 1.6-hexanediol diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Acrylate 1.6HX-A) and perfluorooctylethyl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Acrylate FA-108) Diluted with MIBK, solid content 10%) 0.50 g photoinitiator (manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184, dissolved with IPA, solid content 10%) 0.50 g and 1/1 of isopropanol and butyl cellosolve (Weight ratio) 91.85 g of a mixed solvent was sufficiently mixed to prepare a coating liquid for forming a transparent film (A-7R) for an antireflection film.

透明被膜付基材(A-7)の調製
透明被膜形成用塗布液(A-1H)をPETフィルム(厚さ100μm、屈折率1.65、基材透過率88.0%、Haze1.0%、反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)でUVを400mJ/cm2照射して硬化させて透明被膜付基材(A-1H)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。
Preparation of substrate with transparent coating (A-7) A coating solution for forming a transparent coating (A-1H) is a PET film (thickness 100 μm, refractive index 1.65, substrate transmittance 88.0%, haze 1.0%). The film was coated with a bar coater at a reflectance of 5.1%, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then cured by irradiation with 400 mJ / cm 2 of UV with a high-pressure mercury lamp (80 W / cm). A-1H) was prepared. The film thickness at this time was 5 μm.

ついで、透明被膜付基材(A-1H)上に反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(7R)をバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)で400mJ/cm2紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(A-7)を調製した。このときの反射防止膜の膜厚は100nmであった。 Next, a coating solution (7R) for forming a transparent coating for an antireflection film was coated on a substrate with a transparent coating (A-1H) with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm ) Was cured by irradiating with 400 mJ / cm 2 ultraviolet rays to prepare a substrate (A-7) with a transparent coating. At this time, the film thickness of the antireflection film was 100 nm.

得られた透明被膜付基材(A-7)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率、密着性、鉛筆硬度、耐擦傷性、マジック拭取り性、耐アルカリ性を測定し結果を表1に示した。   Surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance of light with a wavelength of 550 nm, adhesion, pencil hardness, scratch resistance, magic wiping property, alkali resistance of the obtained substrate with transparent coating (A-7) The results are shown in Table 1.

[実施例8]
表面処理金属酸化物粒子(A-8)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径40nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノール、粒子屈折率1.35)を用いた。このゾル80gにヘプタデカトリフルオロデシルトリメトキシシラン0.82g(信越化学(株)製:KBM-7803)とγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株):KBM-403)0.82gを混合し超純水を2.38g、29%アンモニア水0.06gを添加し50℃で20時間攪拌し、固形分濃度21.0重量%の表面処理金属酸化物粒子(A-8)分散ゾルを得た。
[Example 8]
Preparation of surface-treated metal oxide particles (A-8) As a low refractive index component, silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 40 nm, concentration 20.5% by weight, dispersion Medium: isopropanol, particle refractive index 1.35) was used. 80 g of this sol was mixed with 0.82 g of heptadecatrifluorodecyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-7803) and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-403). 82 g was mixed, 2.38 g of ultrapure water and 0.06 g of 29% ammonia water were added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 20 hours, and the surface-treated metal oxide particles (A-8) having a solid content concentration of 21.0 wt% A dispersed sol was obtained.

透明被膜形成用塗布液(A-8R)の調製
この表面処理金属酸化物粒子(A-8)分散ゾル5.95gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE-6A)1.08gと1.6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX-A)0.12gとパーフロロオクチルエチルアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートFA-108、MIBKで希釈、固形分濃度10%)0.50gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)0.50gおよびイソプロパノールとブチルセロソルブの1/1(重量比)混合溶媒91.85gとを充分に混合して反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(A-8R)を調製した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (A-8R) 5.95 g of this surface-treated metal oxide particle (A-8) dispersion sol and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate DPE-6A) 1.08 g and 1.6-hexanediol diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Acrylate 1.6HX-A) and perfluorooctylethyl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Acrylate FA-108) Diluted with MIBK, solid content 10%) 0.50 g photoinitiator (manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184, dissolved with IPA, solid content 10%) 0.50 g and 1/1 of isopropanol and butyl cellosolve (Weight ratio) 91.85 g of a mixed solvent was sufficiently mixed to prepare a coating solution (A-8R) for forming a transparent film for an antireflection film.

透明被膜付基材(A-8)の調製
透明被膜形成用塗布液(1H)をPETフィルム(厚さ100μm、屈折率1.65、基材透過率88.0%、Haze1.0%、反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)でUVを400mJ/cm2照射して硬化させて透明被膜付基材(A-1H)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。
ついで、透明被膜付基材(A-1H)上に反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(8R)をバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)で400mJ/cm2紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(A-8)を調製した。このときの反射防止膜の膜厚は100nmであった。
Preparation of substrate with transparent coating (A-8) Coating solution (1H) for forming a transparent coating was prepared by using a PET film (thickness 100 μm, refractive index 1.65, substrate transmittance 88.0%, haze 1.0%, reflection) After coating with a bar coater at a rate of 5.1% and drying at 70 ° C. for 1 minute, the substrate was coated with a transparent coating (A-) by curing with UV irradiation at 400 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp (80 W / cm). 1H) was prepared. The film thickness at this time was 5 μm.
Next, a coating solution (8R) for forming a transparent coating for an antireflection film was applied on a substrate with a transparent coating (A-1H) with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm The substrate (A-8) with a transparent coating was prepared by irradiating with 400 mJ / cm 2 ultraviolet light and curing. At this time, the film thickness of the antireflection film was 100 nm.

得られた透明被膜付基材(A-8)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率、密着性、鉛筆硬度、耐擦傷性、マジック拭取り性、耐アルカリ性を測定し結果を表1に示した。   Surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance of light with a wavelength of 550 nm, adhesion, pencil hardness, scratch resistance, magic wiping property, alkali resistance of the obtained substrate with transparent coating (A-8) The results are shown in Table 1.

[実施例9]
表面処理金属酸化物粒子(A-9)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径80nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノール、粒子屈折率1.25)を用いた。このゾル80gにヘプタデカトリフルオロデシルトリメトキシシラン0.82g(信越化学(株)製:KBM-7803)とγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株):KBM-403)0.82gを混合し超純水を2.38g、29%アンモニア水0.06gを添加し50℃で20時間攪拌し、固形分濃度21.0重量%の表面処理金属酸化物粒子(A-9)分散ゾルを得た。
[Example 9]
Preparation of surface-treated metal oxide particles (A-9) Silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 80 nm, concentration 20.5 wt%, dispersion as low refractive index component Medium: isopropanol, particle refractive index 1.25) was used. 80 g of this sol was mixed with 0.82 g of heptadecatrifluorodecyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-7803) and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-403). 82g was mixed, 2.38g of ultrapure water and 0.06g of 29% ammonia water were added and stirred for 20 hours at 50 ° C, and the surface-treated metal oxide particles (A-9) having a solid content concentration of 21.0% by weight A dispersed sol was obtained.

透明被膜形成用塗布液(A-9R)の調製
この表面処理金属酸化物粒子(A-9)分散ゾル5.95gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE-6A)1.08gと1.6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX-A)0.12gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)0.50gおよびイソプロパノールとブチルセロソルブの1/1(重量比)混合溶媒91.85gとを充分に混合して反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(A-9R)を調製した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (A-9R) 5.95 g of this surface-treated metal oxide particle (A-9) dispersion sol and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate DPE-6A) 1.08 g and 1.6-hexanediol diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate 1.6HX-A) 0.12 g were dissolved in photoinitiator (Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184, IPA), (Solid content concentration 10%) 0.50 g and a 1/1 (weight ratio) mixed solvent of isopropanol and butyl cellosolve 91.85 g were mixed thoroughly to prepare a coating solution (A-9R) for forming a transparent film for an antireflection film. Prepared.

透明被膜付基材(A-9)の調製
透明被膜形成用塗布液(1H)をPETフィルム(厚さ100μm、屈折率1.65、基材透過率88.0%、Haze1.0%、反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)で400mJ/cm2紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(A-1H)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。
Preparation of substrate with transparent coating (A-9) A coating solution (1H) for forming a transparent coating was applied to a PET film (thickness 100 μm, refractive index 1.65, substrate transmittance 88.0%, haze 1.0%, reflection) applying the rate 5.1%) with a bar coater, dried for 1 minute at 70 ° C., a high pressure mercury lamp (80W / cm) at 400 mJ / cm 2 ultraviolet cured by irradiating the substrate with a transparent film (A- 1H) was prepared. The film thickness at this time was 5 μm.

ついで、透明被膜付基材(A-1H)上に反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(8R)をバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)でUVを400mJ/cm2照射して硬化させて透明被膜付基材(A-9)を調製した。このときの反射防止膜の膜厚は100nmであった。 Next, a coating solution (8R) for forming a transparent coating for an antireflection film was applied on a substrate with a transparent coating (A-1H) with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm The substrate (A-9) with a transparent coating was prepared by curing with UV irradiation at 400 mJ / cm 2 . At this time, the film thickness of the antireflection film was 100 nm.

得られた透明被膜付基材(A-9)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率、密着性、鉛筆硬度、耐擦傷性、マジック拭取り性、耐アルカリ性を測定し結果を表1に示した。   Surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance of light with a wavelength of 550 nm, adhesion, pencil hardness, scratch resistance, magic wiping property, alkali resistance of the obtained substrate with transparent coating (A-9) The results are shown in Table 1.

[実施例10]
透明被膜形成用塗布液(A-10R)の調製
実施例1で調製した表面処理金属酸化物粒子(A-1)分散ゾル7.14gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE-6A)0.45gとフッ素樹脂(共栄社化学(株)製:フルオライトLINC-3A)0.45gと1.6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX-A)0.10gとパーフロロオクチルエチルアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートFA-108、MIBKで希釈、固形分濃度10%)0.40gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)0.40gおよびイソプロパノールとブチルセロソルブの1/1(重量比)混合溶媒91.06gとを充分に混合して反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(A-10R)を調製した。
[Example 10]
Preparation of coating liquid for forming transparent film (A-10R) 7.14 g of the surface-treated metal oxide particle (A-1) dispersion sol prepared in Example 1 and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light 0.45 g of acrylate DPE-6A) and fluororesin (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Fluorite LINC-3A) 0.45 g and 1.6-hexanediol diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: light acrylate 1.6HX- A) 0.10 g and perfluorooctylethyl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: light acrylate FA-108, diluted with MIBK, solid content concentration 10%) to 0.40 g of photoinitiator (manufactured by Ciba Spun Charity Co., Ltd.) : Irgacure 184, dissolved in IPA, solid content concentration 10%) 0.40 g and 1 / 1.0 (weight ratio) mixed solvent of isopropanol and butyl cellosolv were mixed well and anti-reflective. Transparent film-forming coating liquid for film (A-10R) was prepared.

透明被膜付基材(A-10)の調製
実施例1と同様にして透明被膜付基材(A-1H)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。
Preparation of substrate with transparent coating (A-10) A substrate with transparent coating (A-1H) was prepared in the same manner as in Example 1. The film thickness at this time was 5 μm.

ついで、透明被膜付基材(A-1H)上に反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(A-10R)をバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)で400mJ/cm2紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(10)を調製した。このときの反射防止膜の膜厚は100nmであった。 Next, a coating solution (A-10R) for forming a transparent coating for an antireflection film was applied to the substrate with a transparent coating (A-1H) with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) was cured by irradiating with 400 mJ / cm 2 ultraviolet rays to prepare a substrate (10) with a transparent coating. At this time, the film thickness of the antireflection film was 100 nm.

得られた透明被膜付基材(A-10)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率、密着性、鉛筆硬度、耐擦傷性、マジック拭取り性、耐アルカリ性を測定し結果を表1に示した。   Surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance of light with a wavelength of 550 nm, adhesion, pencil hardness, scratch resistance, magic wiping property, alkali resistance of the obtained substrate with transparent coating (A-10) The results are shown in Table 1.

[実施例11]
透明被膜形成用塗布液(A-11R)の調製
実施例1で調製した表面処理金属酸化物粒子(A-1)分散ゾル4.76gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE-6A)0.68gとフッ素樹脂(共栄社化学(株)製:フルオライトLINC-3A)0.68gと1.6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX-A)0.14gとパーフロロオクチルエチルアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートFA-108、MIBKで希釈、固形分濃度10%)0.60gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)0.60gおよびイソプロパノールとブチルセロソルブの1/1(重量比)混合溶媒92.54gとを充分に混合して反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(A-11R)を調製した。
[Example 11]
Preparation of coating liquid for forming transparent film (A-11R) 4.76 g of the surface-treated metal oxide particle (A-1) dispersion sol prepared in Example 1 and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light 0.68 g of acrylate DPE-6A) and 0.68 g of fluororesin (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Fluorite LINC-3A) and 1.6-hexanediol diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: light acrylate 1.6HX- A) 0.14 g and perfluorooctylethyl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate FA-108, diluted with MIBK, solid content concentration 10%) to 0.60 g of photoinitiator (Ciba Spun Charity Co., Ltd.) : Irgacure 184, dissolved in IPA, solid content concentration 10%) 0.60 g, and 1/1 (weight ratio) mixed solvent of isopropanol and butyl cellosolve 92.54 g were mixed thoroughly to prevent reflection Transparent film-forming coating liquid for film (A-11R) was prepared.

透明被膜付基材(A-11)の調製
実施例1と同様にして透明被膜付基材(A-1H)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。ついで、透明被膜付基材(A-1H)上に反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(11R)をバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)で400mJ/cm2紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(A-11)を調製した。このときの反射防止膜の膜厚は100nmであった。
Preparation of substrate with transparent coating (A-11) A substrate with transparent coating (A-1H) was prepared in the same manner as in Example 1. The film thickness at this time was 5 μm. Next, a coating solution (11R) for forming a transparent coating for an antireflection film was applied on a substrate with a transparent coating (A-1H) with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm The substrate (A-11) with a transparent coating was prepared by irradiating with 400 mJ / cm 2 ultraviolet light and curing. At this time, the film thickness of the antireflection film was 100 nm.

得られた透明被膜付基材(A-11)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率、密着性、鉛筆硬度、耐擦傷性、マジック拭取り性、耐アルカリ性を測定し結果を表1に示した。   Surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance of light with a wavelength of 550 nm, adhesion, pencil hardness, scratch resistance, magic wiping property, alkali resistance of the obtained substrate with transparent coating (A-11) The results are shown in Table 1.

[実施例12]
表面処理金属酸化物粒子(A-12)の調製
シリカ系微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:OSCAL1132、平均粒子径12nm、濃度30重量%、分散媒:メタノール 粒子屈折率1.46)を用いた。このゾル80gにヘプタデカトリフルオロデシルトリプロポキシシラン1.2g(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ(株)製:XC95-A9715)とγ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株):KBM-503)1.2gを混合し超純水を3.5g、29%アンモニア水0.09gを添加し50℃で20時間攪拌し、固形分濃度30.0重量%の表面処理金属酸化物粒子(A-12)分散ゾルを得た。
[Example 12]
Preparation of surface-treated metal oxide particles (A-12) Silica-based fine particle-dispersed sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: OSCAL1132, average particle size 12 nm, concentration 30% by weight, dispersion medium: methanol, particle refractive index 1.46) Was used. To 80 g of this sol, 1.2 g of heptadecatrifluorodecyltripropoxysilane (Momentive Performance Materials Co., Ltd .: XC95-A9715) and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-503) ) Mixing 1.2 g, adding 3.5 g of ultrapure water and 0.09 g of 29% ammonia water, stirring the mixture at 50 ° C. for 20 hours, and treating the surface-treated metal oxide particles (A -12) A dispersed sol was obtained.

透明被膜形成用塗布液(A-12)の調製
この表面処理金属酸化物粒子(A-12)分散ゾル20gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE-6A)10.5gとフッ素樹脂(共栄社化学(株)製:フルオライトLINC-3A)10.5gと1.6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX-A)2.4gとパーフロロオクチルエチルアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートFA-108、MIBKで希釈、固形分濃度10%)6gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)9.6gおよびイソプロパノールとブチルセロソルブの1/1(重量比)混合溶媒43.4gとを充分に混合してハードコート膜用の透明被膜形成用塗布液(A-12)を調製した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (A-12) 20 g of this surface-treated metal oxide particle (A-12) dispersion sol and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate DPE-6A) 5 g, fluororesin (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Fluorite LINC-3A) 10.5 g and 1.6-hexanediol diacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate 1.6HX-A) 2.4 g and par Fluorooctyl ethyl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate FA-108, diluted with MIBK, solid content concentration 10%) to 6 g of photoinitiator (manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184, dissolved with IPA, solid (Concentration 10%) 9.6 g and 1/14 (by weight) mixed solvent of isopropanol and butyl cellosolv, 43.4 g of mixed solvent are thoroughly mixed to form a transparent coating for a hard coat film (A-12) was prepared.

透明被膜付基材(A-12)の調製
透明被膜形成用塗布液(A-12)をTACフィルム(厚さ80μm、屈折率1.49、基材透過率88.0%、Haze0.2%、反射率4.8%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)でUVを400mJ/cm2照射して硬化させて透明被膜付基材(12)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。
Preparation of substrate with transparent film (A-12) Coating liquid (A-12) for forming a transparent film was prepared by using a TAC film (thickness 80 μm, refractive index 1.49, substrate transmittance 88.0%, Haze 0.2%). , With a bar coater, and dried at 70 ° C. for 1 minute, and then cured by irradiation with 400 mJ / cm 2 of UV with a high-pressure mercury lamp (80 W / cm). 12) was prepared. The film thickness at this time was 5 μm.

得られた透明被膜付基材(A-12)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率、密着性、鉛筆硬度、耐擦傷性、マジック拭取り性、耐アルカリ性を測定し結果を表1に示した。   Surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance of light with a wavelength of 550 nm, adhesion, pencil hardness, scratch resistance, magic wiping property, alkali resistance of the obtained substrate with transparent coating (A-12) The results are shown in Table 1.

参考例13
表面処理金属酸化物粒子(A-13)の調製
帯電防止高屈折率成分としてATO微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:ELCOM V-3501、平均粒子径8nm、濃度20.5重量%、分散媒:エタノール 粒子屈折率1.75)を用いた。このゾル100gにヘプタデカトリフルオロデシルトリプロポキシシラン1.02g(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ(株)製:XC95-A9715)とγ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株):KBM-503)1.02gを混合し超純水を2.05gを添加し50℃で20時間攪拌し、固形分濃度21.4重量%の表面処理金属酸化物粒子(A-13)分散ゾルを得た。
[ Reference Example 13 ]
Preparation of surface-treated metal oxide particles (A-13) ATO fine particle dispersed sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: ELCOM V-3501, average particle diameter of 8 nm, concentration of 20.5% by weight ) as an antistatic high refractive index component Dispersion medium: ethanol Particle refractive index 1.75) was used. 100 g of this sol was mixed with 1.02 g of heptadecatrifluorodecyltripropoxysilane (Momentive Performance Materials Co., Ltd .: XC95-A9715) and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-503) ) 1.02 g was mixed, 2.05 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 20 hours to obtain a surface-treated metal oxide particle (A-13) dispersion sol having a solid content concentration of 21.4% by weight. .

透明被膜形成用塗布液(A-13)の調製
この表面処理金属酸化物粒子(A-13)分散ゾル56.1gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE-6A)3.5gとフッ素樹脂(共栄社化学(株)製:フルオライトLINC-3A)3.5gと1.6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX-A)0.8gとパーフロロオクチルエチルアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートFA-108、MIBKで希釈、固形分濃度10%)2.0gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)3.2gおよびイソプロパノールとブチルセロソルブの1/1(重量比)混合溶媒6.6gとを充分に混合してハードコート膜用の透明被膜形成用塗布液(A-13)を調製した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (A-13) 56.1 g of this surface-treated metal oxide particle (A-13) dispersion sol and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate DPE-6A) 3.5 g, fluororesin (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Fluorite LINC-3A) 3.5 g and 1.6-hexanediol diacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Acrylate 1.6HX-A) 0.8 g And perfluorooctylethyl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: light acrylate FA-108, diluted with MIBK, solid content concentration 10%) to 2.0 g of photoinitiator (manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184, IPA) In this case, the solid content concentration is 10%) and the coating solution for forming a transparent film for a hard coat film is sufficiently mixed with 3.2 g of isopropanol and 6.6 g of a mixed solvent of isopropanol and butyl cellosolve (1/1 by weight). Liquid and (A-13) was prepared.

透明被膜付基材(A-13)の調製
透明被膜形成用塗布液(A-13)をTACフィルム(厚さ80μm、屈折率1.49、基材透過率88.0% Haze0.2% 反射率4.8%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)でUVを400mJ/cm2照射して硬化させて透明被膜付基材(A-13)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。
Preparation of substrate with transparent coating (A-13) Coating solution (A-13) for forming transparent coating was prepared from a TAC film (thickness 80 μm, refractive index 1.49, substrate transmittance 88.0%, Haze 0.2% reflection) After coating with a bar coater at a rate of 4.8% and drying at 70 ° C. for 1 minute, the substrate was coated with a transparent coating (A-) by curing with UV irradiation at 400 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp (80 W / cm). 13) was prepared. The film thickness at this time was 5 μm.

得られた透明被膜付基材(A-13)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率、密着性、鉛筆硬度、耐擦傷性、マジック拭取り性、耐アルカリ性を測定し結果を表1に示した。   Surface resistance, total light transmittance, haze, reflectance of light with a wavelength of 550 nm, adhesion, pencil hardness, scratch resistance, magic wiping property, alkali resistance of the obtained substrate with transparent coating (A-13) The results are shown in Table 1.

参考例14
表面処理金属酸化物粒子(A-14)の調製
導電成分として、五酸化アンチモン微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:ELCOM V-4560、平均粒子径20nm、濃度30.5重量%、分散媒:エタノール/メタノール/イソプロパノール=85.5/13.4/1.1 粒子屈折率1.64)を用いた。このゾル100gにヘプタデカトリフルオロデシルトリプロポキシシラン1.52g(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ(株)製:XC95-A9715)とγ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株):KBM-503)1.52gを混合し、超純水3.05gを添加し50℃で20時間攪拌し、固形分濃度31.2重量%の表面処理金属酸化物粒子(A-14)分散ゾルを得た。
[ Reference Example 14 ]
Preparation of surface-treated metal oxide particles (A-14) As conductive component, antimony pentoxide fine particle dispersion sol (manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd .: ELCOM V-4560, average particle diameter 20 nm, concentration 30.5% by weight, dispersion Medium: Ethanol / methanol / isopropanol = 85.5 / 13.4 / 1.1 Particle refractive index 1.64). To 100 g of this sol, 1.52 g of heptadecatrifluorodecyltripropoxysilane (Momentive Performance Materials Co., Ltd .: XC95-A9715) and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-503) 1.52 g was mixed, 3.05 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 20 hours to obtain a surface-treated metal oxide particle (A-14) dispersion sol having a solid content concentration of 31.2% by weight. .

透明被膜形成用塗布液(A-14)の調製
この表面処理金属酸化物粒子(A-14)分散ゾル28.85gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE-6A)9.18gとフッ素樹脂(共栄社化学(株)製:フルオライトLINC-3A)9.18gと1.6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX-A)2.1gとパーフロロオクチルエチルアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートFA-108、MIBKで希釈、固形分濃度10%)5.3gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)8.4gおよびイソプロパノールとブチルセロソルブの1/1(重量比)混合溶媒37.0gとを充分に混合してハードコート膜用の透明被膜形成用塗布液(A-14)を調製した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (A-14) 28.85 g of this surface-treated metal oxide particle (A-14) dispersion sol and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate DPE-6A) 9.18 g and fluorine resin (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Fluorite LINC-3A) 9.18 g and 1.6-hexanediol diacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate 1.6HX-A) 2.1 g And perfluorooctylethyl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate FA-108, diluted with MIBK, solid content concentration 10%) to 5.3 g of photoinitiator (manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184, IPA) 8.4 g dissolved in a solid content concentration of 10%) and 37.0 g of a mixed solvent of isopropanol and butyl cellosolve 1/1 (weight ratio) was thoroughly mixed to form a transparent coating for a hard coat film Forming coating solution (A-14) was prepared.

透明被膜付基材(A-14)の調製
透明被膜形成用塗布液(A-14)をTACフィルム(厚さ80μm、屈折率1.49、基材透過率88.0% Haze0.2% 反射率4.8%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)でUVを400mJ/cm2照射して硬化させて透明被膜付基材(A-14)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。
Preparation of substrate with transparent coating (A-14) Coating solution (A-14) for forming a transparent coating was prepared by using a TAC film (thickness 80 μm, refractive index 1.49, substrate transmittance 88.0%, Haze 0.2% reflection) After coating with a bar coater at a rate of 4.8% and drying at 70 ° C. for 1 minute, the substrate was coated with a transparent coating (A-) by curing with UV irradiation at 400 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp (80 W / cm). 14) was prepared. The film thickness at this time was 5 μm.

得られた透明被膜付基材(A-14)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率、密着性、鉛筆硬度、耐擦傷性、マジック拭取り性、耐アルカリ性を測定し結果を表1に示した。   Surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance of light having a wavelength of 550 nm, adhesion, pencil hardness, scratch resistance, magic wiping property, alkali resistance of the obtained substrate with transparent coating (A-14) The results are shown in Table 1.

[比較例1]
表面処理金属酸化物粒子(R-1)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノール 粒子屈折率1.30)を用いた。このゾル80gにヘプタデカトリフルオロデシルトリプロポキシシラン1.64g(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ(株)製:XC95-A9715)を混合し超純水を2.38g、29%アンモニア水0.06gを添加し50℃で20時間攪拌し、固形分濃度21.0重量%の表面処理金属酸化物粒子(R-1)分散ゾルを得た。
[Comparative Example 1]
Preparation of surface-treated metal oxide particles (R-1) As a low refractive index component, silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5 wt%, dispersion Medium: Isopropanol Particle refractive index 1.30) was used. 80 g of this sol was mixed with 1.64 g of heptadecatrifluorodecyltripropoxysilane (manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd .: XC95-A9715), and 2.38 g of ultrapure water and 0.06 g of 29% ammonia water were added. The mixture was added and stirred at 50 ° C. for 20 hours to obtain a surface-treated metal oxide particle (R-1) dispersed sol having a solid content concentration of 21.0% by weight.

透明被膜形成用塗布液(R-1R)の調製
この表面処理金属酸化物粒子(R-1)分散ゾル5.95gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE-6A)1.08gと1.6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX-A)0.12gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)0.50gおよびイソプロパノールとブチルセロソルブの1/1(重量比)混合溶媒91.85gとを充分に混合して反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(R-1R)を調製した。
Preparation of coating liquid for transparent film formation (R-1R) 5.95 g of this surface-treated metal oxide particle (R-1) dispersion sol and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate DPE-6A) 1.08 g and 1.6-hexanediol diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate 1.6HX-A) 0.12 g were dissolved in photoinitiator (Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184, IPA), (Solid content concentration 10%) 0.50 g and a 1/1 (weight ratio) mixed solvent of isopropanol and butyl cellosolve 91.85 g were mixed thoroughly to prepare a coating solution (R-1R) for forming a transparent film for an antireflection film. Prepared.

透明被膜付基材(R-1)の調製
実施例1と同様にして透明被膜付基材(A-1H)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。ついで、透明被膜付基材(A-1H)上に反射防止膜形成用塗布液(R-1R)をバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)で400mJ/cm2紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(R-1)を調製した。このときの反射防止膜の膜厚は100nmであった。
Preparation of substrate with transparent coating (R-1) A substrate with transparent coating (A-1H) was prepared in the same manner as in Example 1. The film thickness at this time was 5 μm. Next, a coating solution (R-1R) for forming an antireflection film was applied on a substrate with a transparent coating (A-1H) with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then with a high pressure mercury lamp (80 W / cm). A substrate with a transparent film (R-1) was prepared by irradiating and curing 400 mJ / cm 2 ultraviolet rays. At this time, the film thickness of the antireflection film was 100 nm.

得られた透明被膜付基材(1)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率、密着性、鉛筆硬度、耐擦傷性、マジック拭取り性、耐アルカリ性を測定し結果を表1に示した。   The surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance of light with a wavelength of 550 nm, adhesion, pencil hardness, scratch resistance, magic wiping property, and alkali resistance of the obtained transparent film-coated substrate (1) are measured. The results are shown in Table 1.

[比較例2]
透明被膜形成用塗布液(R-2R)の調製
比較例1で調製した表面処理金属酸化物粒子(R-1)分散ゾル5.95gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE-6A)0.54gとフッ素樹脂(共栄社化学(株)製:フルオライトLINC-3A)0.54gと1.6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX-A)0.12gとパーフロロオクチルエチルアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートFA-108、MIBKで希釈、固形分濃度10%)0.50gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)0.50gおよびイソプロパノールとブチルセロソルブの1/1(重量比)混合溶媒91.85gとを充分に混合して反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(R-2R)を調製した。
[Comparative Example 2]
Preparation of coating liquid for forming transparent film (R-2R) 5.95 g of surface-treated metal oxide particle (R-1) dispersion sol prepared in Comparative Example 1 and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Acrylate DPE-6A) 0.54 g and fluororesin (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Fluorite LINC-3A) 0.54 g and 1.6-hexanediol diacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate 1.6HX- A) 0.12 g and perfluorooctylethyl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: light acrylate FA-108, diluted with MIBK, solid content concentration 10%) to 0.50 g photoinitiator (manufactured by Ciba Spun Charity) : Irgacure 184, dissolved in IPA, solid content concentration 10%) 0.50 g, and 91.85 g of 1/1 (weight ratio) mixed solvent of isopropanol and butyl cellosolve were mixed well to prevent reflection Transparent film-forming coating liquid of the use of the (R-2R) was prepared.

透明被膜付基材(R-2)の調製
実施例1と同様にして透明被膜付基材(A-1H)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。ついで、透明被膜付基材(A-1H)上に反射防止膜形成用塗布液(R-2R)をバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)で400mJ/cm2紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(R-2)を調製した。このときの反射防止膜の膜厚は100nmであった。
Preparation of substrate with transparent coating (R-2) A substrate with transparent coating (A-1H) was prepared in the same manner as in Example 1. The film thickness at this time was 5 μm. Next, an antireflection film-forming coating solution (R-2R) was applied onto the substrate with transparent coating (A-1H) with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then with a high-pressure mercury lamp (80 W / cm). A substrate with a transparent coating (R-2) was prepared by irradiating and curing 400 mJ / cm 2 ultraviolet rays. At this time, the film thickness of the antireflection film was 100 nm.

得られた透明被膜付基材(R-2)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率、密着性、鉛筆硬度、耐擦傷性、マジック拭取り性、耐アルカリ性を測定し結果を表1に示した。   Surface resistance, total light transmittance, haze, reflectance of light with a wavelength of 550 nm, adhesion, pencil hardness, scratch resistance, magic wiping property, alkali resistance of the obtained substrate with transparent coating (R-2) The results are shown in Table 1.

[比較例3]
表面処理金属酸化物粒子(R-3)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノール 粒子屈折率1.30)を用いた。このゾル80gにγ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株):KBM-503)1.64gを混合し超純水を2.38g、29%アンモニア水0.06gを添加し50℃で20時間攪拌し、固形分濃度21.0重量%の表面処理金属酸化物粒子(R-3)分散ゾルを得た。
[Comparative Example 3]
Preparation of surface-treated metal oxide particles (R-3) As a low refractive index component, silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5 wt%, dispersion Medium: Isopropanol Particle refractive index 1.30) was used. 80 g of this sol was mixed with 1.64 g of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-503), 2.38 g of ultrapure water and 0.06 g of 29% ammonia water were added at 50 ° C. The mixture was stirred for 20 hours to obtain a surface-treated metal oxide particle (R-3) dispersion sol having a solid content concentration of 21.0% by weight.

透明被膜形成用塗布液(R-3R)の調製
この表面処理金属酸化物粒子(R-3)分散ゾル5.95gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE-6A)1.08gと1.6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX-A)0.12gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)0.50gおよびイソプロパノールとブチルセロソルブの1/1(重量比)混合溶媒91.85gとを充分に混合して反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(R-3R)を調製した。
Preparation of coating liquid for transparent film formation (R-3R) 5.95 g of this surface-treated metal oxide particle (R-3) dispersion sol and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate DPE-6A) 1.08 g and 1.6-hexanediol diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate 1.6HX-A) 0.12 g were dissolved in photoinitiator (Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184, IPA), (Solid content concentration 10%) 0.50 g and a 1/1 (weight ratio) mixed solvent of isopropanol and butyl cellosolve 91.85 g were mixed thoroughly to prepare a coating solution (R-3R) for forming an antireflection film. Prepared.

透明被膜付基材(R-3)の調製
実施例1と同様にして透明被膜付基材(A-1H)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。ついで、透明被膜付基材(A-1H)上に反射防止膜形成用塗布液(R-3R)をバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)で400mJ/cm2紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(R-3)を調製した。このときの反射防止膜の膜厚は100nmであった。
Preparation of substrate with transparent coating (R-3) A substrate with transparent coating (A-1H) was prepared in the same manner as in Example 1. The film thickness at this time was 5 μm. Next, an antireflection film-forming coating solution (R-3R) was applied onto the substrate with transparent coating (A-1H) with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then with a high-pressure mercury lamp (80 W / cm). A substrate with a transparent coating (R-3) was prepared by irradiating with 400 mJ / cm 2 ultraviolet rays and curing. At this time, the film thickness of the antireflection film was 100 nm.

得られた透明被膜付基材(R-3)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率、密着性、鉛筆硬度、耐擦傷性、マジック拭取り性、耐アルカリ性を測定し結果を表1に示した。   Surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance of light with a wavelength of 550 nm, adhesion, pencil hardness, scratch resistance, magic wiping property, alkali resistance of the obtained substrate with transparent coating (R-3) The results are shown in Table 1.

[比較例4]
透明被膜形成用塗布液(R-4R)の調製
比較例1で調製した表面処理金属酸化物粒子(R-3)分散ゾル5.95gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE-6A)0.54gとフッ素樹脂(共栄社化学(株)製:フルオライトLINC-3A)0.54gと1.6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX-A)0.12gとパーフロロオクチルエチルアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートFA-108、MIBKで希釈、固形分濃度10%)0.50gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)0.50gおよびイソプロパノールとブチルセロソルブの1/1(重量比)混合溶媒91.85gとを充分に混合して反射防止膜用の透明被膜形成用塗布液(R-4R)を調製した。
[Comparative Example 4]
Preparation of coating liquid for transparent film formation (R-4R) 5.95 g of the surface-treated metal oxide particle (R-3) dispersion sol prepared in Comparative Example 1 and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Acrylate DPE-6A) 0.54 g and fluororesin (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Fluorite LINC-3A) 0.54 g and 1.6-hexanediol diacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate 1.6HX- A) 0.12 g and perfluorooctylethyl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: light acrylate FA-108, diluted with MIBK, solid content concentration 10%) to 0.50 g photoinitiator (manufactured by Ciba Spun Charity) : Irgacure 184, dissolved in IPA, solid content concentration 10%) 0.50 g, and 91.85 g of 1/1 (weight ratio) mixed solvent of isopropanol and butyl cellosolve were mixed well to prevent reflection Transparent film-forming coating liquid of the use of the (R-4R) was prepared.

透明被膜付基材(R-4)の調製
実施例1と同様にして透明被膜付基材(A-1H)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。ついで、透明被膜付基材(A-1H)上に反射防止膜形成用塗布液(R-4R)をバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)で400mJ/cm2紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(R-4)を調製した。このときの反射防止膜の膜厚は100nmであった。
Preparation of substrate with transparent coating (R-4) A substrate with transparent coating (A-1H) was prepared in the same manner as in Example 1. The film thickness at this time was 5 μm. Next, an antireflection film-forming coating solution (R-4R) was applied onto the substrate with transparent coating (A-1H) with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then with a high-pressure mercury lamp (80 W / cm). A substrate with a transparent coating (R-4) was prepared by irradiating and curing 400 mJ / cm 2 ultraviolet rays. At this time, the film thickness of the antireflection film was 100 nm.

得られた透明被膜付基材(R-4)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率、密着性、鉛筆硬度、耐擦傷性、マジック拭取り性、耐アルカリ性を測定し結果を表1に示した。   Surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance of light with a wavelength of 550 nm, adhesion, pencil hardness, scratch resistance, magic wiping property, alkali resistance of the obtained substrate with transparent coating (R-4) The results are shown in Table 1.

Figure 0005931009
Figure 0005931009

Claims (2)

シリカ系粒子分散液に、下記式(1)で表されるシランカップリング剤(A)と、下記式(2)で表されるシランカップリング剤(B)とを、前記シランカップリング剤(A)のモル数(M1)と前記シランカップリング剤(B)のモル数(M2)との比(M1)/(M2)が0.16〜1.51の範囲となるように混合する混合工程と、
前記混合工程により得られた分散液に、水とアンモニアを添加して40〜100℃で加温する熟成工程とを含み、
前記シランカップリング剤(A)と前記シランカップリング剤(B)の合計のモル数(MSC)と前記水のモル数(MH2O)の比(MH2O/MSC)が9.67〜58.01の範囲にあり、
前記合計のモル数と前記アンモニアのモル数(MHC)の比(MHC/MSC)が0.07〜0.16の範囲にあることを特徴とする表面処理金属酸化物粒子の製造方法。
nSiX4-n ・・・・・・(1)
(但し、R:フルオロ基含有炭化水素基、X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲンまたは水素、n:1〜3の整数)
nSiX4-n ・・・・・・(2)
(但し、R:(メタ)アクリロイルオキシメチル基、(メタ)アクリロイルオキシエチル基、(メタ)アクリロイルオキシプロピル基、エポキシシクロヘキシルエチル、グリシドキシメチル基、グリシドキシエチル基、グリシドキシプロピル基、ビニル基、ウレタンイソプロピルプロピル基、X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲンまたは水素、n:1〜3の整数)
In the silica-based particle dispersion, the silane coupling agent (A) represented by the following formula (1) and the silane coupling agent (B) represented by the following formula (2) are mixed with the silane coupling agent ( as the number of moles of a) (M 1) and the silane coupling agent moles of (B) (ratio of M 2) (M 1) / (M 2) is in a range of 0.16 to 1.51 Mixing step to mix with,
A aging step of adding water and ammonia to the dispersion obtained by the mixing step and heating at 40 to 100 ° C.,
The silane coupling agent (A) and the silane coupling agent The total number of moles of (B) (M SC) the moles of said water ratio (M H2O) (M H2O / M SC) is 9.67~ In the range of 58.01,
The method for producing surface-treated metal oxide particles, wherein a ratio (M HC / M SC ) of the total number of moles to the number of moles of ammonia (M HC ) is in the range of 0.07 to 0.16. .
R n SiX 4-n ······ ( 1)
(However, R: fluoro group-containing hydrocarbon group, X: alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, hydroxyl group, halogen or hydrogen, n: an integer of 1 to 3)
R n SiX 4-n ······ ( 2)
(However, R: (meth) acryloyloxymethyl group, (meth) acryloyloxyethyl group, (meth) acryloyloxypropyl group, epoxycyclohexylethyl, glycidoxymethyl group, glycidoxyethyl group, glycidoxypropyl group , Vinyl group, urethane isopropylpropyl group, X: alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, hydroxyl group, halogen or hydrogen, n: an integer of 1 to 3)
シリカ系粒子分散液に、下記式(1)で表されるシランカップリング剤(A)と、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(βメトキシエトキシ)シラン、β−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシランからなる群から選ばれる少なくとも1種のシランカップリング剤(B)とを、前記シランカップリング剤(A)のモル数(M1)と前記シランカップリング剤(B)のモル数(M2)との比(M1/M2)が0.16〜1.51の範囲となるように混合する混合工程と、
前記混合工程により得られた分散液に、水とアンモニアを添加して40〜100℃で加温する熟成工程と、を含み、
前記シランカップリング剤(A)と前記シランカップリング剤(B)の合計のモル数(MSC)と前記水のモル数(MH2O)の比(MH2O/MSC)が9.67〜58.01の範囲にあり、
前記合計のモル数と前記アンモニアのモル数(MHC)の比(MHC/MSC)が0.07〜0.16の範囲にあることを特徴とする表面処理金属酸化物粒子の製造方法。
nSiX4-n ・・・・・・(1)
(但し、R:フルオロ基含有炭化水素基、X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲンまたは水素、n:1〜3の整数)
In the silica-based particle dispersion, a silane coupling agent (A) represented by the following formula (1), vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (βmethoxyethoxy) silane, β- (3,4- Epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltriethoxysilane, γ-glycidoxyethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxyethyltriethoxysilane, γ- Glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ- (β-glycidoxyethoxy) propyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltrimethoxysilane, γ- (meta ) Acryloxymethyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxyethyltrimethoxy From orchid, γ- (meth) acrylooxyethyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, 3-ureidoisopropylpropyltriethoxysilane At least one silane coupling agent (B) selected from the group consisting of the number of moles (M 1 ) of the silane coupling agent (A) and the number of moles (M 2 ) of the silane coupling agent (B). A mixing step of mixing such that the ratio (M 1 / M 2 ) is in the range of 0.16 to 1.51;
A aging step of adding water and ammonia to the dispersion obtained by the mixing step and heating at 40 to 100 ° C.,
The silane coupling agent (A) and the silane coupling agent The total number of moles of (B) (M SC) the moles of said water ratio (M H2O) (M H2O / M SC) is 9.67~ In the range of 58.01,
The method for producing surface-treated metal oxide particles, wherein a ratio (M HC / M SC ) of the total number of moles to the number of moles of ammonia (M HC ) is in the range of 0.07 to 0.16. .
R n SiX 4-n ······ ( 1)
(However, R: fluoro group-containing hydrocarbon group, X: alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, hydroxyl group, halogen or hydrogen, n: an integer of 1 to 3)
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