JP2008163205A - Coating for forming transparent coating film and substrate with transparent coating film - Google Patents

Coating for forming transparent coating film and substrate with transparent coating film Download PDF

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JP2008163205A JP2006354823A JP2006354823A JP2008163205A JP 2008163205 A JP2008163205 A JP 2008163205A JP 2006354823 A JP2006354823 A JP 2006354823A JP 2006354823 A JP2006354823 A JP 2006354823A JP 2008163205 A JP2008163205 A JP 2008163205A
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政幸 松田
Mitsuaki Kumazawa
光章 熊澤
Toshiharu Hirai
俊晴 平井
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    • C08L2201/10Transparent films; Clear coatings; Transparent materials

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating for forming a transparent coating film which can form a transparent coating film excellent in adhesiveness with a substrate, strength, antireflection properties and anti-glare properties, and to provide a substrate with a transparent coating film. <P>SOLUTION: The coating for forming a transparent coating film comprises a low refractive index particulate and a high refractive index particulate in which the affinity with a matrix-forming component differs to each other, a polymerization initiator, and a solvent. Both the low refractive index particulate and the high refractive index particulate are surface-treated with a silane coupling agent. The surface-treated low refractive index particulate (A) has a refractive index (n<SB>A</SB>) of 1.20-1.45. The surface-treated high refractive index particulate (B) has a refractive index (n<SB>B</SB>) which is higher than (n<SB>A</SB>). The concentration of the low refractive index particulate (A) is 0.1-10 wt.% as a solid content. The concentration of the high refractive index particulate (B) is 0.1-10 wt.% as a solid content. The concentration of the matrix-forming component as a solid content is 1-30 wt.%. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、新規な透明被膜形成塗料および該透明被膜形成塗料を用いて形成された透明被膜付基材に関する。   The present invention relates to a novel transparent film-forming paint and a substrate with a transparent film formed using the transparent film-forming paint.

従来より、ガラス、プラスチックシート、プラスチックレンズ等の基材表面の反射を防止するため、基材表面に反射防止膜を形成することが知られており、たとえば、コート法、蒸着法、CVD法等によって、フッ素樹脂、フッ化マグネシウムのような低屈折率の物質の被膜をガラスやプラスチックの基材表面に形成したり、シリカ微粒子等の低屈折率微粒子を含む塗布液を基材表面に塗布して、反射防止被膜を形成する方法が知られている(たとえば、特開平7-133105号公報など参照)。このとき、反射防止性能を高めるために反射防止被膜の下層に高屈折率の微粒子等を含む高屈折率膜を形成することも知られている。   Conventionally, it has been known to form an antireflection film on the surface of the substrate in order to prevent reflection on the surface of the substrate such as glass, plastic sheet, and plastic lens. For example, coating method, vapor deposition method, CVD method, etc. To form a film of a low refractive index substance such as fluororesin or magnesium fluoride on the surface of a glass or plastic substrate, or apply a coating solution containing low refractive index fine particles such as silica fine particles to the substrate surface. Thus, a method for forming an antireflection coating is known (see, for example, JP-A-7-133105). At this time, in order to improve the antireflection performance, it is also known to form a high refractive index film containing fine particles of high refractive index under the antireflection coating.

さらに、前記表示装置等では、防弦性(アンチグレア性ということがある)を付与するために表面に凹凸を形成することも知られている。(特開2002−169001号公報、特開2002−71904号公報、特開2001−281411号公報、特開2001−34350号公報)
しかしながら、従来の多層膜を形成する方法では、塗料を塗布し、乾燥し、必要に応じて硬化させる工程を各塗料について行う必要があり、各膜間の密着性が不充分であったり、生産性、経済性等に問題があった。
Furthermore, in the display device or the like, it is also known to form irregularities on the surface in order to provide string-proofing properties (sometimes referred to as anti-glare properties). (JP 2002-169001 A, JP 2002-71904 A, JP 2001-281411 A, JP 2001-34350 A)
However, in the conventional method of forming a multilayer film, it is necessary to perform a process of applying a paint, drying, and curing as necessary for each paint. There was a problem in performance and economy.

また、本願発明者等は、特開2003-12965公報において、平均粒子径が異なり
、粒子径の小さい導電性微粒子と粒子径の大きい低屈折率微粒子の異なる2種の微粒子を含む塗布液を用いることによって、1回の塗布で反射防止性能に優れた導電性被膜が形成できることを提案している。しかしながら、この方法では2種の微粒子が上下完全に分離する形で微粒子層を形成できない場合があることに加えて防弦性能がないため明所コントラストが低く、表示装置に用いた場合、表示性能が不充分であった。
特開平7-133105号公報 特開2002−169001号公報 特開2002−71904号公報 特開2001−281411号公報 特開2001−34350号公報 特開2003-12965号公報において
In addition, the inventors of the present application use a coating solution containing two kinds of fine particles, which are different in average particle size and different in conductive particle having a small particle size and low refractive index fine particle having a large particle size in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-12965. Therefore, it has been proposed that a conductive coating excellent in antireflection performance can be formed by a single application. However, in this method, the fine particle layer may not be formed in a form in which two kinds of fine particles are completely separated from each other in addition to the fact that there is no string-proof performance, so the contrast in the light place is low. Was insufficient.
JP-A-7-133105 JP 2002-169001 A JP 2002-71904 A JP 2001-281411 A JP 2001-34350 A In Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-12965

このような情況のもと、透明被膜形成用塗料を1回塗布、乾燥することによって基材との密着性、強度等に優れるとともに反射防止性能および防弦性能に優れ、さらに生産性および経済性にも優れた透明被膜が形成可能な透明被膜形成用塗料および透明被膜付基材を提供することが望まれている。   Under such circumstances, by applying and drying a coating for forming a transparent film once, it has excellent adhesion to the base material, strength, etc., as well as excellent antireflection performance and stringproof performance, as well as productivity and economy. In addition, it is desired to provide a coating material for forming a transparent film and a substrate with a transparent film capable of forming an excellent transparent film.

本発明者らは、このような問題点に鑑み鋭意検討した結果、互いにマトリックス形成成分との親和性が異なり、且つ平均粒子径の異なる2種の粒子を含む塗料を塗布、乾燥すると被膜中で2種の粒子が上下分離すること、即ち、表面処理した微細な粒子は透明被膜の上部に偏在し、表面処理した比較的大きな粒子は透明被膜の下部に偏在し、かつ、被膜の
表面に凹凸を形成することができることを見出して本発明を完成するに至った。
[1]マトリックス形成成分との親和性が互いに異なる低屈折率微粒子と高屈折率微粒子と
、マトリックス形成成分と、重合開始剤と、溶媒とからなる透明被膜形成塗料であって、
低屈折率微粒子および高屈折率微粒子がともにシランカップリング剤で表面処理されてなり、表面処理された低屈折率微粒子(A)の屈折率(nA)が1.20〜1.45の範囲にあ
り、平均粒子径が5〜200nmの範囲にあり、表面電荷量(QA)が5〜80μeq/gの範囲にあり、
表面処理された高屈率微粒子(B)の屈折率(nB)が(nA)よりも高く、平均粒子径が0.5
〜5μmの範囲にあり、表面電荷量(QB)が25〜100μeq/gの範囲にあり、低屈折率微粒子(A)の濃度が固形分として0.1〜10重量%の範囲にあり、高屈折率微粒子(B)の濃度が固形分として0.1〜10重量%の範囲にあり、マトリックス形成成分の固形分としての濃度が1〜30重量%の範囲にあることを特徴とする透明被膜形成塗料。
[2]前記低屈折率微粒子(A)の表面電荷量(QA)と前記高屈率微粒子(B)の表面電荷量(QB)と
の差(QB)−(QA)が20〜95μeq/gの範囲にある[1]の透明被膜形成塗料。
[3]前記マトリックス形成成分が親水性マトリックス形成成分と疎水性マトリックス形成
成分とからなり、親水性マトリックス形成成分の固形分としての濃度(CMA)と疎水性マト
リックス形成成分の固形分としての濃度(CMB)との濃度比(CMA)/(CMB)が0.01〜1の
範囲にある[1]または[2]の透明被膜形成塗料。
[4]前記親水性マトリックス形成成分が、下記式(1)で表される有機珪素化合物またはこれらの加水分解物、加水分解重縮合物および/または親水性官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂であり、
SiX4 (1)
(但し、式中、Xは炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素を示す。)
前記疎水性マトリックス形成成分が、下記式(2)で表される有機珪素化合物またはこれ
らの加水分解物、加水分解重縮合物および/または疎水性官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂である[3]の透明被膜形成用塗料。
n−SiX4-n (2)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、n:1〜3の整数)
[5]前記親水性官能基が水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基、グリシジル基か
ら選ばれる1種以上であり、前記疎水性官能基が、(メタ)アクリロイル基、アルキル基、フェニル基、ウレタン基、CF2基から選ばれる1種以上である[3]または[4]の透明被膜形成用塗料。
[6]前記溶媒が50〜100℃に沸点有する溶媒(A)と、100℃を越えて〜200℃に沸点を有する溶媒(B)との混合溶媒であり、混合溶媒中の溶媒(A)の割合が50〜90重量%の範囲にあり、溶媒(B)の割合が10〜50重量%の範囲にある[1]〜[5]の透明被膜形成
用塗料。
[7]基材上に、表面に凹凸を有する透明被膜が形成された透明被膜付基材であって、透明
被膜が表面処理された低屈折率微粒子(A)と表面処理された高屈率微粒子(B)とマトリックス成分とからなり、表面処理した低屈折率微粒子(A)が透明被膜の上部に層をなして偏在
し、表面処理した高屈率微粒子(B) が透明被膜の下部に偏在し、透明被膜の平均膜厚が1〜10μmの範囲にあり、
透明被膜の凸部の平均高さ(T)と凹部の平均高さ(T)との差(T)−(T)が30〜1500nmの範囲にある透明被膜付基材。
[8]透明被膜中の表面処理した低屈折率微粒子(A)の屈折率(nA)が1.20〜1.45の
範囲にあり、平均粒子径が5〜200nmの範囲にあり、表面処理した高屈率微粒子(B)
の屈折率(nB)が(nA)よりも高く、平均粒子径が0.5〜5μmの範囲にあり、表面処理した低屈折率微粒子(A)の含有量が固形分として1〜30重量%の範囲にあり、表面処理
した高屈折率微粒子(B)の含有量が固形分として5〜70重量%の範囲にある[7]の透明被膜付基材。
[9]前記マトリックス成分が親水性マトリックス成分と疎水性マトリックス成分とからな
り、親水性マトリックス成分の固形分としての含有量(WMA)と疎水性マトリックス成分の固形分としての含有量(WMB)との濃度比(WMA)/(WMB)が0.01〜1の範囲にある[7]または[8]の透明被膜付基材。
[10]前記親水性マトリックス成分が、下記式(1)で表される有機珪素化合物の加水分解重
縮合物および/または親水性官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂であり、
SiX4 (3)
(但し、式中、Xは炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素)
前記疎水性マトリックス成分が、下記式(4)で表される有機珪素化合物の加水分解重縮合物および/または疎水性官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂である[7]〜[9]の透明被膜付基材。
n-SiX4-n (4)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、n:1〜3の整数)
[11]前記親水性官能基が水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基、グリシジル基から選ばれる1種以上であり、前記疎水性官能基が、(メタ)アクリロイル基、アルキル基、フェニル基、ウレタン基、CF2基から選ばれる1種以上である透明被膜付基材。
As a result of intensive studies in view of such problems, the present inventors applied a coating containing two kinds of particles having different affinity to the matrix-forming component and having different average particle diameters, and then dried the coating in the film. The two kinds of particles are separated from each other, that is, the surface-treated fine particles are unevenly distributed in the upper part of the transparent film, the surface-treated relatively large particles are unevenly distributed in the lower part of the transparent film, and the surface of the film is uneven. As a result, the present invention has been completed.
[1] A transparent film-forming paint comprising a low-refractive index fine particle and a high-refractive index fine particle having different affinity for a matrix-forming component, a matrix-forming component, a polymerization initiator, and a solvent,
Both low refractive index fine particles and high refractive index fine particles are surface treated with a silane coupling agent, and the refractive index (n A ) of the surface treated low refractive index fine particles ( A ) is in the range of 1.20 to 1.45. The average particle diameter is in the range of 5 to 200 nm, the surface charge (Q A ) is in the range of 5 to 80 μeq / g,
The refractive index (n B ) of the surface-treated high refractive index fine particles (B) is higher than (n A ), and the average particle size is 0.5
In the range of -5 μm, the surface charge (Q B ) is in the range of 25-100 μeq / g, and the concentration of the low refractive index fine particles (A) is in the range of 0.1-10 wt% as the solid content, Transparent, characterized in that the concentration of the high refractive index fine particles (B) is in the range of 0.1 to 10% by weight as the solid content, and the concentration of the matrix forming component as the solid content is in the range of 1 to 30% by weight. Film-forming paint.
[2] The surface charge of the low-refractive index fine particles (A) (Q A) and the surface charge amount of the high屈率fine particles (B) the difference between (Q B) (Q B) - (Q A) is 20 The transparent film-forming paint of [1] in the range of ~ 95 μeq / g.
[3] The matrix-forming component comprises a hydrophilic matrix-forming component and a hydrophobic matrix-forming component, and the concentration of the hydrophilic matrix-forming component as a solid content (C MA ) and the concentration of the hydrophobic matrix-forming component as a solid content (C MB) and concentration ratio of (C MA) / (C MB ) is in the range of 0.01 to 1 [1] or [2] of the transparent film-forming coating.
[4] The polyfunctional (meth) acrylic compound, wherein the hydrophilic matrix-forming component is an organosilicon compound represented by the following formula (1) or a hydrolyzate, hydrolyzed polycondensate and / or a hydrophilic functional group thereof: Acid ester resin,
SiX 4 (1)
(However, in the formula, X represents an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a silanol group, halogen, or hydrogen.)
Polyfunctional (meth) acrylic ester resin in which the hydrophobic matrix forming component has an organosilicon compound represented by the following formula (2) or a hydrolyzate, hydrolyzed polycondensate and / or a hydrophobic functional group thereof The paint for forming a transparent film according to [3].
R n -SiX 4-n (2 )
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a silanol group) , Halogen, hydrogen, n: an integer of 1 to 3)
[5] The hydrophilic functional group is one or more selected from a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a sulfo group, and a glycidyl group, and the hydrophobic functional group is a (meth) acryloyl group, an alkyl group, a phenyl group, The paint for forming a transparent film according to [3] or [4], which is at least one selected from a urethane group and a CF 2 group.
[6] The solvent is a mixed solvent of a solvent (A) having a boiling point of 50 to 100 ° C. and a solvent (B) having a boiling point of more than 100 ° C. to 200 ° C., and the solvent (A) in the mixed solvent The coating composition for forming a transparent film according to [1] to [5], wherein the ratio of the solvent (B) is in the range of 10 to 50% by weight.
[7] A substrate with a transparent coating in which a transparent coating having irregularities on the surface is formed on the substrate, the low refractive index fine particles (A) with the transparent coating surface-treated and the high refractive index with the surface treatment It consists of fine particles (B) and a matrix component, and the surface-treated low refractive index fine particles (A) are unevenly distributed in a layer on the upper part of the transparent film, and the surface-treated high refractive index fine particles (B) are on the lower part of the transparent film. It is unevenly distributed and the average film thickness of the transparent film is in the range of 1 to 10 μm,
A substrate with a transparent coating, wherein the difference between the average height of convex portions (T convex ) of the transparent coating and the average height of concave portions (T concave ) (T convex )-(T concave ) is in the range of 30 to 1500 nm.
[8] The refractive index (n A ) of the surface-treated low refractive index fine particles (A) in the transparent film is in the range of 1.20 to 1.45, the average particle diameter is in the range of 5 to 200 nm, and the surface Treated high refractive index fine particles (B)
The refractive index (n B ) is higher than (n A ), the average particle diameter is in the range of 0.5 to 5 μm, and the content of the surface-treated low refractive index fine particles (A) is 1 to 30 in terms of solid content. The substrate with a transparent coating according to [7], wherein the content of the surface-treated high refractive index fine particles (B) is in the range of 5% by weight to 70% by weight as the solid content.
[9] The matrix component comprises a hydrophilic matrix component and a hydrophobic matrix component, and the content of the hydrophilic matrix component as a solid (W MA ) and the content of the hydrophobic matrix component as a solid (W MB) ) And a transparent coating-coated substrate according to [7] or [8], wherein the concentration ratio (W MA ) / (W MB ) is in the range of 0.01 to 1.
[10] The hydrophilic matrix component is a polyfunctional (meth) acrylic acid ester resin having a hydrolytic polycondensate of an organosilicon compound represented by the following formula (1) and / or a hydrophilic functional group,
SiX 4 (3)
(Where X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, silanol group, halogen, hydrogen)
The hydrophobic matrix component is a polyfunctional (meth) acrylate resin having a hydrolytic polycondensate and / or a hydrophobic functional group of an organosilicon compound represented by the following formula (4): 9] A substrate with a transparent coating.
R n -SiX 4-n (4)
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a silanol group) , Halogen, hydrogen, n: an integer of 1 to 3)
[11] The hydrophilic functional group is at least one selected from a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a sulfo group, and a glycidyl group, and the hydrophobic functional group is a (meth) acryloyl group, an alkyl group, a phenyl group, A substrate with a transparent coating, which is at least one selected from a urethane group and a CF 2 group.

本発明によれば、透明被膜形成用塗料を1回塗布、乾燥することによって基材との密着性、強度等に優れるとともに反射防止性能および防弦性能に優れ、さらに生産性および経済性にも優れた透明被膜が形成可能な透明被膜形成用塗料および該透明被膜形成用塗料を用いて形成された透明被膜付基材を提供することができる。得られる透明被膜付基材はLCDディスプレィ、プラズマディスプレィ、プロジェクションディスプレィ、ELディスプレィ、CRTディスプレィ等の表示画面に好適に用いることができる。   According to the present invention, a coating for forming a transparent film is applied once and dried, thereby being excellent in adhesion to the base material, strength, etc., and excellent in antireflection performance and stringproof performance, and also in productivity and economy. A transparent film-forming coating material capable of forming an excellent transparent film and a substrate with a transparent film formed using the transparent film-forming coating material can be provided. The obtained substrate with a transparent coating can be suitably used for a display screen such as an LCD display, a plasma display, a projection display, an EL display, or a CRT display.

以下、先ず、本発明に係る透明被膜形成用塗料について具体的に説明する。
透明被膜形成用塗料
本発明に係る透明被膜形成塗料は、マトリックス形成成分との親和性が互いに異なる低屈折率微粒子と高屈折率微粒子と、マトリックス形成成分と重合開始剤と溶媒とからなる。
低屈折率微粒子
本発明にはシランカップリング剤で表面処理された低屈折率微粒子(A)を用いる。
Hereinafter, first, the transparent film-forming paint according to the present invention will be specifically described.
Transparent film-forming paint The transparent film-forming paint according to the present invention comprises low refractive index fine particles, high refractive index fine particles, matrix forming components, a polymerization initiator, and a solvent, which have different affinity to the matrix forming component.
Low Refractive Index Fine Particles The low refractive index fine particles (A) surface-treated with a silane coupling agent are used in the present invention.

低屈折率微粒子としては本願出願人の出願特開2001−233611号公報、特開2003−192994号公報による内部に空洞を有するシリカ系微粒子は屈折率が低く、コロイド領域の微粒子であり、分散性等に優れているので好適に採用することができる。   As the low refractive index fine particles, silica-based fine particles having cavities inside according to Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-233611 and 2003-192994 filed by the applicant of the present application have a low refractive index and are fine particles in a colloidal region. Therefore, it can be suitably employed.

低屈折率微粒子の平均粒子径は5〜200nm、さらには10〜100nmの範囲にあることが好ましく、屈折率は1.15〜1.40の範囲にあることが好ましい。
低屈折率微粒子はシランカップリング剤で表面処理されている。シランカップリング剤としては、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス
(βメトキシエトキシ)シラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メ
チル-3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、β−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン
、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエトキシ)プ
ロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリエキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルト
リメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリ
メトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラオクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、トリメチルシラノール、メチルトリクロロシラン、等が挙げられる。
The average particle diameter of the low refractive index fine particles is preferably 5 to 200 nm, more preferably 10 to 100 nm, and the refractive index is preferably 1.15 to 1.40.
The low refractive index fine particles are surface-treated with a silane coupling agent. Silane coupling agents include methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, Vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (βmethoxyethoxy) silane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, β- (3, 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltriethoxysilane, γ-glycidoxyethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxyethyltrie Toxisilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ- (β-glycidoxy Ethoxy) propyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltrioxysilane, γ- (meth) acrylooxyethyltrimethoxysilane, γ- (meta ) Acryloxyethyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, γ- (Meth) acryloxypropyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane Orchid, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilaoctyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, butyltriethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, 3- Ureidoisopropylpropyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltrimethoxysilane, perfluorooctylethyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltriisopropoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyl Methyldimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercap Trimethoxysilane, trimethyl silanol, methyl trichlorosilane, and the like.

表面処理は、例えば、シリカ系微粒子のアルコール分散液に前記したシランカップリング剤を所定量加え、これに水を加え、必要に応じてシランカップリング剤の加水分解用触媒として酸またはアルカリを加えてシランカップリング剤を加水分解する。ついで、有機溶媒に置換することによって表面処理した低屈折率微粒子(A)の有機溶媒分散液を得るこ
とができる。有機溶媒としては、後述する溶媒を用いることが好ましい。
In the surface treatment, for example, a predetermined amount of the above-described silane coupling agent is added to an alcohol dispersion of silica-based fine particles, water is added thereto, and an acid or alkali is added as a catalyst for hydrolysis of the silane coupling agent as necessary. To hydrolyze the silane coupling agent. Subsequently, an organic solvent dispersion of the low refractive index fine particles (A) subjected to surface treatment can be obtained by substituting with an organic solvent. As an organic solvent, it is preferable to use the solvent mentioned later.

このときの低屈折率微粒子とシランカップリング剤との量比(シランカップリング剤の固形分としての重量/低屈折率微粒子の重量)は低屈折率微粒子の平均粒子径によっても異なるが0.05〜1さらには0.1〜0.5の範囲にあることが好ましい。前記重量比が小さいと、溶媒中での分散性、安定性が低く、塗料の安定性が不充分となり、塗料中で低屈折率微粒子が凝集したり、膜を形成した際に膜が白化ししたり、基材との密着性、被膜の硬度が不充分となることがある。前記重量比が大きいと、用いるマトリックス形成成分の種類によっても異なるが、疎水性が高くなり過ぎて(表面電荷量が5μq/g以下となり)塗料中で表面処理した低屈折率微粒子(A)が凝集することがあり、膜の上部に均一
な層を形成しない場合があり、さらに、膜を形成した際に膜が白化ししたり、被膜の硬度が不充分となることがある。また、低屈折率微粒子より屈折率の高い表面処理剤が多いために表面処理した低屈折率微粒(A)の屈折率が高くなり、得られる透明被膜の屈折率が上
昇し、反射防止性能、コントラスト等が向上しない場合がある。
The amount ratio of the low refractive index fine particles to the silane coupling agent (weight as the solid content of the silane coupling agent / weight of the low refractive index fine particles) varies depending on the average particle diameter of the low refractive index fine particles. It is preferable that it exists in the range of 05-1 further 0.1-0.5. If the weight ratio is small, the dispersibility and stability in the solvent are low, the stability of the paint becomes insufficient, the low refractive index fine particles are aggregated in the paint, and the film is whitened when the film is formed. Or the adhesion to the substrate and the hardness of the coating film may be insufficient. When the weight ratio is large, the hydrophobicity becomes too high (the surface charge amount is 5 μq / g or less), and the low refractive index fine particles (A) surface-treated in the paint are different depending on the type of matrix forming component used. The film may agglomerate and a uniform layer may not be formed on the upper part of the film. Further, when the film is formed, the film may be whitened or the hardness of the film may be insufficient. In addition, since there are many surface treatment agents having a higher refractive index than low refractive index fine particles, the refractive index of the surface-treated low refractive index fine particles (A) is increased, the refractive index of the resulting transparent coating is increased, and antireflection performance, Contrast and the like may not be improved.

表面処理した低屈折率微粒子(A)の平均粒子径は5〜200nm、さらには10〜10
0nmの範囲にあることが好ましい。
表面処理した低屈折率微粒子(A)の平均粒子径が5nm未満の場合は、平均粒子径が5n
m未満の低屈折率微粒子を得ることが困難であり、得られたとしても低屈折率微粒子の屈折率が1.40を超えることがあり、これを表面処理しても屈折率が1.45以下の粒子を得ることが困難である。
表面処理した低屈折率微粒子(A)の平均粒子径が200nmを超えると透明被膜の表面に
不要な凹凸が形成されことがあり、透明被膜のヘーズ値が高くなる場合がある。
The average particle diameter of the surface-treated low refractive index fine particles (A) is 5 to 200 nm, more preferably 10 to 10
It is preferably in the range of 0 nm.
When the average particle size of the surface-treated low refractive index fine particles (A) is less than 5 nm, the average particle size is 5 n.
It is difficult to obtain low refractive index fine particles of less than m, and even if obtained, the refractive index of the low refractive index fine particles may exceed 1.40. It is difficult to obtain the following particles.
If the average particle diameter of the surface-treated low refractive index fine particles (A) exceeds 200 nm, unnecessary irregularities may be formed on the surface of the transparent coating, and the haze value of the transparent coating may increase.

表面処理した低屈折率微粒子(A)の屈折率(nA)は1.20〜1.45、さらには1.20〜1.35の範囲にあることが好ましい。なお屈折率(nA)がこの範囲の下限を越えて低いものは得ることが困難である。屈折率(nA)がこの範囲を越えて大きいものは基材あるいは下層膜の屈折率にもよるが反射防止性能が不充分となったり、透明被膜の反射率が高いために明所コントラストが不充分となることがある。 The refractive index (n A ) of the surface-treated low refractive index fine particles (A) is preferably in the range of 1.20 to 1.45, more preferably 1.20 to 1.35. It is difficult to obtain a material having a low refractive index (n A ) exceeding the lower limit of this range. If the refractive index (n A ) is larger than this range, the anti-reflection performance will be insufficient depending on the refractive index of the base material or the lower layer film. It may be insufficient.

また表面処理した低屈折率微粒子(A)は表面電荷量(QA)が5〜80μeq/g、さらには7〜70μeq/gの範囲にあることが好ましい。表面電荷量(QA)が小さいもの
は、疎水性が高過ぎるためか塗料中で表面処理した低屈折率微粒子(A)が凝集することが
あり、膜の上部に均一な層を形成しない場合がある。表面電荷量(QA)が高すぎると、
膜を形成した際に表面処理した低屈折率微粒子(A)が上層に偏在せず、膜中に分散する傾
向がある。
The surface-treated low refractive index fine particles (A) preferably have a surface charge (Q A ) in the range of 5 to 80 μeq / g, more preferably 7 to 70 μeq / g. When the surface charge (Q A ) is small, the low-refractive-index fine particles (A) surface-treated in the paint may aggregate because the hydrophobicity is too high, and a uniform layer is not formed on the top of the film. There is. If the surface charge (Q A ) is too high,
When the film is formed, the surface-treated low refractive index fine particles (A) are not unevenly distributed in the upper layer and tend to be dispersed in the film.

表面処理した低屈折率微粒子(A)の表面電荷量の測定方法は、表面電位滴定装置(Mutek(株) pcd-03)を用いて、微粒子の分散液を0.001Nのpoly-塩化ジアリルジメチルアンモニウムを用いて滴定し、粒子単位グラム当たりの表面電荷量(μeq/g)として求めることができる。   The surface charge of the surface-treated low refractive index fine particles (A) can be measured by using a surface potential titration device (Mutek Co., Ltd. pcd-03) and dispersing the fine particle dispersion to 0.001 N poly-diallyldimethyl chloride. Titration with ammonium can be carried out as the surface charge per μg of particle (μeq / g).

透明被膜形成用塗料中の表面処理した低屈折率微粒子(A)の濃度は固形分として0.1
〜10重量%、さらには0.2〜5重量%、特に0.5〜3.0重量%の範囲にあること
が好ましい。
The concentration of the surface-treated low refractive index fine particles (A) in the paint for forming a transparent film is 0.1 as a solid content.
It is preferably in the range of ˜10% by weight, more preferably 0.2 to 5% by weight, especially 0.5 to 3.0% by weight.

表面処理した低屈折率微粒子(A)の濃度が少ない場合は、屈折率の低い透明被膜が得ら
れず、透明被膜の反射率が高くなり反射防止性能が不充分であったり明所コントラストが不充分となることがある。表面処理した低屈折率微粒子(A)の濃度が多い場合は、塗料の
合計固形分濃度も高くなり、塗布性が低下して均一な透明被膜の形成が困難となったり、表面の平滑性がなくなったり透明被膜の内部に空隙が形成され、光の散乱を引き起こしたり、透明被膜のヘーズ値が高くなることがあり、さらに耐擦傷性が不充分となることがある。
When the concentration of the surface-treated low refractive index fine particles (A) is low, a transparent coating with a low refractive index cannot be obtained, and the reflectance of the transparent coating increases, resulting in insufficient antireflection performance and poor contrast in bright places. May be sufficient. When the concentration of the surface-treated low refractive index fine particles (A) is high, the total solid content concentration of the paint also increases, so that the coating property is lowered and it becomes difficult to form a uniform transparent film, or the surface smoothness is low. It may disappear or voids may be formed inside the transparent film, causing light scattering, and the haze value of the transparent film may be increased, and the scratch resistance may be insufficient.

高屈折率微粒子
本発明にはシランカップリング剤で表面処理した高屈折率微粒子を用いる。
高屈折率微粒子としては少なくとも屈折率が1.46以上の微粒子を用いることができるが、通常、屈折率が1.65以上の微粒子が好適に用いられ、例えば、ZrO2、TiO2、Sb25、ZnO2、Al23、SnO2、ZrO2-SiO2、アンチモンドープ酸化、錫ドープ酸化インジウム、リンドープ酸化錫(PTO)等の微粒子が挙げられる。
High refractive index fine particles In the present invention, high refractive index fine particles surface-treated with a silane coupling agent are used.
As the high refractive index fine particles, fine particles having a refractive index of 1.46 or more can be used, but usually fine particles having a refractive index of 1.65 or more are preferably used, for example, ZrO 2 , TiO 2 , Sb 2. Examples thereof include fine particles such as O 5 , ZnO 2 , Al 2 O 3 , SnO 2 , ZrO 2 —SiO 2 , antimony-doped oxide, tin-doped indium oxide, and phosphorus-doped tin oxide (PTO).

なお、Sb25、アンチモンドープ酸化錫、錫ドープ酸化インジウム、リンドープ酸化
錫等の微粒子は導電性を有していることから帯電防止性能を併せ持った透明被膜が得られる。
Since fine particles such as Sb 2 O 5 , antimony-doped tin oxide, tin-doped indium oxide, and phosphorus-doped tin oxide have electrical conductivity, a transparent film having antistatic performance can be obtained.

高屈折率微粒子の平均粒子径は0.5〜5μm、さらには1〜3μmの範囲にあることが好ましい。
高屈折率微粒子はシランカップリング剤で表面処理されているが、シランカップリング剤としては、前記した低屈折率微粒子に用いたと同様のシランカップリング剤を用いることできる。高屈折率微粒子(B)の表面処理は、例えば、酸化チタン等の微粒子のアルコー
ル分散液にシランカップリング剤を所定量加え、これに水を加え、必要に応じてシランカップリング剤の加水分解用触媒として酸またはアルカリを加えてシランカップリング剤を加水分解する。ついで、有機溶媒に置換することによって表面処理した高屈折率微粒子(B)の有機溶媒分散液を得ることができる。有機溶媒としては、後述する溶媒を用いることが好ましい。
The average particle diameter of the high refractive index fine particles is preferably in the range of 0.5 to 5 μm, more preferably 1 to 3 μm.
The high refractive index fine particles are surface-treated with a silane coupling agent. As the silane coupling agent, the same silane coupling agent as that used for the low refractive index fine particles can be used. The surface treatment of the high refractive index fine particles (B) is performed by, for example, adding a predetermined amount of a silane coupling agent to an alcohol dispersion of fine particles such as titanium oxide, adding water thereto, and hydrolyzing the silane coupling agent as necessary. An acid or alkali is added as a catalyst for the hydrolysis to hydrolyze the silane coupling agent. Subsequently, the organic solvent dispersion liquid of the high refractive index fine particles (B) subjected to surface treatment can be obtained by substituting with an organic solvent. As an organic solvent, it is preferable to use the solvent mentioned later.

このときの高屈折率微粒子とシランカップリング剤との量比(シランカップリング剤の固形分としての重量/高屈折率微粒子の重量)は高屈折率微粒子の平均粒子径によっても異なるが0.005〜0.2さらには0.01〜0.1の範囲にあることが好ましい。   The amount ratio of the high refractive index fine particles to the silane coupling agent (weight as the solid content of the silane coupling agent / weight of the high refractive index fine particles) varies depending on the average particle diameter of the high refractive index fine particles. It is preferably in the range of 005 to 0.2, more preferably 0.01 to 0.1.

前記重量比が0.005未満の場合は、塗料中の樹脂との親和性が低く、塗料の安定性が不充分となり、塗料中で高屈折率微粒子が凝集したり、表面に規則的な凹凸を形成できない場合がある。   When the weight ratio is less than 0.005, the affinity with the resin in the paint is low, the paint stability is insufficient, the high refractive index fine particles agglomerate in the paint, and the surface has regular irregularities. May not be formed.

前記重量比が0.2を超えると、用いるマトリックス形成成分の種類によっても異なるが、高屈折率粒子の屈折率が低下したり、疎水性が高くなり過ぎて(表面電荷量が25μq/g以下となり)、透明被膜の下部に均一に偏在しない場合があり、表面に規則的な凹凸を形成できない場合がある。   When the weight ratio is more than 0.2, although depending on the type of matrix forming component used, the refractive index of the high refractive index particles decreases or the hydrophobicity becomes too high (the surface charge amount is 25 μq / g or less). In some cases, it may not be unevenly distributed under the transparent film, and regular irregularities may not be formed on the surface.

なお、高屈折率微粒子のシランカップリング剤処理は低屈折率微粒子のシランカップリング剤処理と同様の方法で行うが、表面処理した高屈折率微粒子(B)の表面電荷量(QB)が前記範囲となり、後述する表面電荷量(QA)との差(QB)−(QA)が所定範囲とな
り、屈折率が後述する範囲となるように、シランカップリング剤の種類、量を適宜選択して行う。
The silane coupling agent treatment of the high refractive index fine particles is performed in the same manner as the silane coupling agent treatment of the low refractive index fine particles, but the surface charge amount (Q B ) of the surface treated high refractive index fine particles ( B ) is The type and amount of the silane coupling agent are set so that the difference (Q B ) − (Q A ) from the surface charge amount (Q A ) described later falls within the predetermined range and the refractive index falls within the range described later. Select as appropriate.

表面処理した高屈折率微粒子(B)の平均粒子径は0.5〜5μm、さらには1〜3μm
の範囲にあることが好ましい。
表面処理した高屈折率微粒子(B)の平均粒子径が0.5μm未満の場合は、透明被膜の
凸部の高さ(T)と凹部の高さ(T)との差(T)−(T)が30nm未満となることがあり、充分な防弦性能が得られないことがある。
表面処理した高屈折率微粒子(B)の平均粒子径が5μmを超えると、透明被膜の凸部の高
さ(T)と凹部の高さ(T)との差(T)−(T)が1.5μmを超えることがあり、この場合も充分な防弦性能が得られないことがある。
The average particle diameter of the surface-treated high refractive index fine particles (B) is 0.5 to 5 μm, more preferably 1 to 3 μm.
It is preferable that it exists in the range.
When the average particle diameter of the surface-treated high refractive index fine particles (B) is less than 0.5 μm, the difference between the height of the convex portion (T convex ) and the height of the concave portion (T concave ) (T convex) )-(T- concave ) may be less than 30 nm, and sufficient stringproof performance may not be obtained.
When the average particle diameter of the high refractive index fine particles surface-treated (B) is more than 5 [mu] m, height of the convex portion of the transparent film (T convex) and recess height (T concave) difference between the (T convex) - ( (T- concave ) may exceed 1.5 μm, and in this case, sufficient string-proof performance may not be obtained.

表面処理した高屈折率微粒子(B)の屈折率(nB)は前記表面処理した低屈折率微粒子の屈折率(nA)よりも高ければ特に制限はないが、屈折率差(nB)−(nA)が0.2以上、さら
には0.3〜1.6の範囲にあることが好ましい。屈折率差が0.2未満の場合は反射防止性能を向上させる効果が不充分であり、屈折率差が1.60を超えと、散乱により透明性が低下したり、ヘーズが高くなることがある。
The refractive index (n B ) of the surface-treated high refractive index fine particles (B) is not particularly limited as long as it is higher than the refractive index (n A ) of the surface-treated low refractive index fine particles, but the refractive index difference (n B ) -(N A ) is preferably 0.2 or more, more preferably in the range of 0.3 to 1.6. When the difference in refractive index is less than 0.2, the effect of improving the antireflection performance is insufficient, and when the difference in refractive index exceeds 1.60, the transparency may decrease or haze may increase due to scattering. is there.

また表面処理した高屈折率微粒子(B)は表面電荷量(QB)が25〜100μeq/g、さらには30〜100μeq/gの範囲にあることが好ましい。表面電荷量(QB)が小
さい場合、疎水性が高過ぎるために透明被膜の下部に偏在しない場合があり、透明被膜表面に規則的な凹凸を形成できない場合がある。また、表面電荷量(QB)が高すぎると、
マトリックス形成成分である樹脂との親和性が低く凝集することがあり、また膜を形成した際に表面処理した高屈折率微粒子(B)が下層に偏在せず、このため透明被膜表面に規則
的な凹凸を形成できない場合がある。
The surface-treated high refractive index fine particles (B) preferably have a surface charge amount (Q B ) in the range of 25 to 100 μeq / g, more preferably 30 to 100 μeq / g. When the surface charge amount (Q B ) is small, the hydrophobicity is too high, so that it may not be unevenly distributed in the lower part of the transparent film, and regular irregularities may not be formed on the surface of the transparent film. If the surface charge (Q B ) is too high,
Affinities with the resin that is the matrix-forming component may be low and may aggregate, and the high-refractive-index fine particles (B) that are surface-treated when the film is formed are not unevenly distributed in the lower layer. Unevenness may not be formed.

表面処理した低屈折率微粒子(A)の表面電荷量(QA)と表面処理した高屈率微粒子(B)
の表面電荷量(QB)との差(QB)−(QA)が20〜95μeq/g、さらには25〜
85μeq/gの範囲にあることが好ましい。電荷量の差が小さいと、マトリックス形成成分である樹脂によっても異なるが、表面処理した低屈折率微粒子(A)と表面処理した高
屈折率微粒子(B)の表面電荷量の差が小さく、即ち、マトリックス形成成分との親和性の
差が低く、これら微粒子の分離が不充分となり、得られる透明被膜の反射防止性能、防弦性能が不充分となることがある。電荷量差が大きいと、表面処理した低屈折率微粒子(A)
が凝集するとともに表面処理した高屈折率微粒子(B)も凝集し、得られる膜が白化したり
、基材との密着性や強度が不充分となることがある。
Surface charge amount (Q A ) of surface treated low refractive index fine particles ( A ) and surface treated high refractive index fine particles (B)
The difference (Q B ) − (Q A ) from the surface charge amount (Q B ) is 20 to 95 μeq / g, more preferably 25 to
It is preferably in the range of 85 μeq / g. If the difference in charge amount is small, it differs depending on the resin that is the matrix forming component, but the difference in surface charge amount between the surface-treated low refractive index fine particles (A) and the surface treated high refractive index fine particles (B) is small, that is, The difference in affinity with the matrix-forming component is low, the separation of these fine particles is insufficient, and the antireflection performance and stringproof performance of the resulting transparent coating may be insufficient. When the charge difference is large, the surface-treated low refractive index fine particles (A)
And the surface-treated high refractive index fine particles (B) may also aggregate, resulting in whitening of the resulting film and insufficient adhesion and strength to the substrate.

表面処理した低屈折率微粒子(B)の表面電荷量の測定方法は、表面処理した低屈折率微
粒子(A)と同様に行う。
透明被膜形成用塗料中の表面処理した高屈折率微粒子(B)の濃度は固形分として0.1
〜10重量%、さらには0.2〜5重量%の範囲にあることが好ましい。高屈折率微粒子(B)の濃度が低い場合は、透明被膜下層に屈折率の高い微粒子層を形成できないため反射防止性能を向上させる効果が不充分となり、明所コントラストの向上効果が不充分となることがある。高屈折率微粒子(B)の濃度が高い場合、透明被膜下層に屈折率の高い微粒子層が不均一に積層し、透明被膜の膜厚が不均一になったり、透明被膜表面に規則的な凹凸を形成できず、このため防弦性能が充分発揮されない場合があり、また、透明被膜の耐擦傷性が不充分となることがある。
The method for measuring the surface charge amount of the surface-treated low refractive index fine particles (B) is the same as that for the surface-treated low refractive index fine particles (A).
The concentration of the surface-treated high refractive index fine particles (B) in the paint for forming a transparent film is 0.1
It is preferably in the range of ˜10% by weight, more preferably 0.2 to 5% by weight. When the concentration of the high refractive index fine particles (B) is low, the effect of improving the antireflection performance is insufficient because a fine refractive index layer cannot be formed in the lower layer of the transparent film, and the effect of improving the bright spot contrast is insufficient. May be. When the concentration of the high refractive index fine particles (B) is high, the fine particle layer with a high refractive index is laminated non-uniformly on the lower layer of the transparent coating, resulting in uneven thickness of the transparent coating or regular irregularities on the surface of the transparent coating. For this reason, the string-proof performance may not be sufficiently exhibited, and the scratch resistance of the transparent film may be insufficient.

マトリックス形成成分
マトリックス形成成分としては、シリコーン系マトリックス形成成分、有機樹脂系マトリックス形成成分等が用いられる。
Matrix-forming component As the matrix-forming component, a silicone-based matrix-forming component, an organic resin-based matrix-forming component, or the like is used.

シリコーン系マトリックス形成成分としては下記式(5)で表される有機珪素化合物およ
び/またはこれらの加水分解物、加水分解重縮合物が好適に用いられる。
n-SiX4-n (5)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、n:0〜3の整数)
このような式(1)で表される有機珪素化合物としてはテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(βメトキシエトキシ)シラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-3,3,3−トリフルオロプ
ロピルジメトキシシラン、β−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリエキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラオクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、トリメチルシラノール、メチルトリクロロシラン、等が挙げられる。
As the silicone-based matrix-forming component, an organosilicon compound represented by the following formula (5) and / or a hydrolyzate or hydrolyzed polycondensate thereof is preferably used.
R n -SiX 4-n (5 )
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a silanol group) , Halogen, hydrogen, n: an integer of 0 to 3)
Examples of the organosilicon compound represented by the formula (1) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane. , Methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (βmethoxyethoxy) silane, 3,3,3- Trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltrimethoxy Silane, γ-glycidoxymethyltriexisilane, γ-glycidoxyethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxyethyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxy Silane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ- (β-glycidoxyethoxy) propyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltriethoxysilane, γ- (meth) acrylooxyethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxyethyltriethoxysilane, γ- (meth) acrylooxypropyltrimethoxy Silane, γ- (meth) acrylooxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) a Acryloxypropyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysiloctyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, butyltriethoxysilane, , Isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, 3-ureidoisopropylpropyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltrimethoxysilane, perfluorooctylethyltriethoxysilane, perfluorooctylethyl Triisopropoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, trimethylsilanol, methyltrichlorosilane and the like can be mentioned.

また、有機樹脂系マトリックス形成成分としては、塗料用樹脂として公知の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、電子線硬化樹脂等が挙げられる。
このような樹脂として、たとえば、従来から用いられているポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、熱可塑性アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、酢酸ビニル樹脂、シリコーンゴムなどの熱可塑性樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、ブチラール樹脂、反応性シリコーン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、紫外線硬化型アクリル樹脂などの熱硬化性樹脂、紫外線硬化型アクリル樹脂などが挙げられる。さらにはこれら樹脂の2種以上の共重合体や変性体であってもよい。
Examples of the organic resin matrix forming component include known thermosetting resins, thermoplastic resins, electron beam curable resins, and the like as coating resins.
Examples of such resins include conventionally used thermoplastic resins such as polyester resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyphenylene oxide resins, thermoplastic acrylic resins, vinyl chloride resins, fluororesins, vinyl acetate resins, and silicone rubbers. , Urethane resin, melamine resin, silicon resin, butyral resin, reactive silicone resin, phenol resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, thermosetting acrylic resin, UV curable acrylic resin, etc., UV curable type An acrylic resin etc. are mentioned. Further, it may be a copolymer or modified body of two or more of these resins.

これらの樹脂は、エマルジョン樹脂、水溶性樹脂、親水性樹脂であってもよい。さらに、熱硬化性樹脂の場合、紫外線硬化型のものであっても、電子線硬化型のものであってもよく、熱硬化性樹脂の場合、硬化触媒が含まれていてもよい。   These resins may be emulsion resins, water-soluble resins, and hydrophilic resins. Further, in the case of a thermosetting resin, it may be an ultraviolet curable type or an electron beam curable type, and in the case of a thermosetting resin, a curing catalyst may be included.

本発明に用いるマトリックス形成成分は親水性マトリックス形成成分と疎水性マトリックス形成成分とからなることが好ましい。
親水性のシリコーン系(ゾルゲル系)マトリックス形成成分としては、下記式(1)で表
される有機珪素化合物またはこれらの加水分解物、加水分解重縮合物が用いられる。
SiX4 (1)
(但し、式中、Xは炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素)
具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシランおよびこれらの加水分解物、加水分解重縮合物等を好適に用いることができる。
The matrix-forming component used in the present invention is preferably composed of a hydrophilic matrix-forming component and a hydrophobic matrix-forming component.
As the hydrophilic silicone (sol-gel) matrix forming component, an organosilicon compound represented by the following formula (1) or a hydrolyzate or hydrolyzed polycondensate thereof is used.
SiX 4 (1)
(Where X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, silanol group, halogen, hydrogen)
Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, hydrolyzate thereof, hydrolyzed polycondensate, and the like can be preferably used.

疎水性のシリコーン系(ゾルゲル系)マトリックス形成成分としては、下記式(2)で表
される有機珪素化合物またはこれらの加水分解物、加水分解重縮合物が用いられる。
n-SiX4-n (2)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、n:1〜3の整数)
なかでも、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-3,3,3−トリフ
ルオロプロピルジメトキシシランおよびこれらの加水分解物、加水分解重縮合物は好適に用いることができる。
As the hydrophobic silicone-based (sol-gel-based) matrix-forming component, an organosilicon compound represented by the following formula (2), a hydrolyzate thereof, or a hydrolyzed polycondensate is used.
R n -SiX 4-n (2)
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a silanol group) , Halogen, hydrogen, n: an integer of 1 to 3)
Of these, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, and their hydrolysates and hydrolyzed polycondensates can be preferably used.

また、親水性の有機樹脂系マトリックス形成成分としては、水酸基(OH基)、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基等の親水性官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂が挙げられ、具体的には、水酸基(OH基)、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基等の親水性官能基を有するペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の他、ジエチルアミノメチルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールジメタクリレート、ブトキシジエチレングリコールメタクリレートおよびこれらの混合物が挙げられる。
疎水性の有機樹脂系マトリックス形成成分としては、ビニル基、ウレタン基、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、CF2基等の疎水性官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂が挙げられ、具体的にはペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメテクリレート、イソデシルメテクリレート、n-ラウリルアクリレート、n−ステアリルアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、トリフロロエチルメテクリレート、ウレタンアクリレート等およびこれらの混合物が挙げられる。
前記親水性マトリックス形成成分を疎水性マトリックス形成成分と混合して用いると表面処理した低屈折率微粒子(A)が上層に、表面処理した高屈折率微粒子(B)が下層に分離しやすくなり、二層に分離した膜を得ることが容易となる。
親水性マトリックス形成成分の固形分としての濃度(CMA)と疎水性マトリックス形成成分の固形分としての濃度(CMB)との濃度比(CMA)/(CMB)が0.01〜1、0さらには0.05〜0.5の範囲にあることが好ましい。
前記濃度比(CMA)/(CMB)が0.1未満の場合は親水性マトリックス形成成分が少なく、実質的に疎水性マトリックス形成成分のみに近くなり、表面処理した低屈折率微粒子(A)と表面処理した高屈折率微粒子(B)とを上下に分離する効果が不充分となる。
前記濃度比(CMA)/(CMB)が1を超えると、親水性マトリックス形成成分が多く表面電荷量の高い表面処理した高屈折率微粒子が基材に密着した形で下層にのみ偏在しない場合がある。
Examples of the hydrophilic organic resin matrix forming component include polyfunctional (meth) acrylic acid ester resins having a hydrophilic functional group such as a hydroxyl group (OH group), an amino group, a carboxyl group, and a sulfo group. In particular, pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetra () having a hydrophilic functional group such as a hydroxyl group (OH group), amino group, carboxyl group, and sulfo group ( In addition to (meth) acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, etc., diethylaminomethyl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl acrylate, methoxytriethylene glycol dimethacrylate Butoxy diethylene glycol methacrylate and mixtures thereof.
Examples of the hydrophobic organic resin matrix forming component include polyfunctional (meth) acrylic ester resins having hydrophobic functional groups such as vinyl group, urethane group, epoxy group, (meth) acryloyl group, CF 2 group and the like. Specifically, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, Butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, isodecyl methacrylate, n-lauryl acrylate, n-stearyl acrylate, 1,6-hexane Sanji ol dimethacrylate, perfluorooctyl methacrylate, trifluoroethyl Mete chestnut rate, urethane acrylate and the like and mixtures thereof.
When the hydrophilic matrix-forming component is mixed with a hydrophobic matrix-forming component, the surface-treated low refractive index fine particles (A) are easily separated into the upper layer, and the surface-treated high refractive index fine particles (B) are easily separated into the lower layer. It becomes easy to obtain a membrane separated into two layers.
The concentration ratio (C MA ) / (C MB ) of the concentration (C MA ) as the solid content of the hydrophilic matrix forming component and the concentration (C MB ) as the solid content of the hydrophobic matrix forming component is 0.01 to 1 , 0, and preferably in the range of 0.05 to 0.5.
When the concentration ratio (C MA ) / (C MB ) is less than 0.1, the hydrophilic matrix-forming component is small, and it is close to only the hydrophobic matrix-forming component, and the surface-treated low refractive index fine particles (A ) And the surface-treated high-refractive-index fine particles (B) are insufficiently separated in the vertical direction.
When the concentration ratio (C MA ) / (C MB ) exceeds 1, surface-treated high refractive index fine particles having a large amount of hydrophilic matrix-forming components and a high surface charge amount are not unevenly distributed only in the lower layer. There is a case.

透明被膜形成用塗料中のマトリックス形成成分の濃度が固形分として1〜30重量%、さらには2〜20重量%の範囲にあることが好ましい。
マトリックス形成成分の濃度が固形分として1重量%未満の場合は、マトリックスに対し微粒子が多過ぎる場合が生じ、粒子が不均一に積層して得られる透明被膜の膜厚が不均一になったり、透明被膜表面に規則的な凹凸を形成できず、このため防弦性能が不充分になったり、透明被膜の耐擦傷性が不充分となることがある。
The concentration of the matrix-forming component in the coating for forming a transparent film is preferably in the range of 1 to 30% by weight, more preferably 2 to 20% by weight as the solid content.
When the concentration of the matrix-forming component is less than 1% by weight as the solid content, there are cases where there are too many fine particles relative to the matrix, and the film thickness of the transparent coating obtained by non-uniform lamination of the particles becomes non-uniform, Regular irregularities cannot be formed on the surface of the transparent coating, which may result in inadequate string-proof performance and insufficient scratch resistance of the transparent coating.

マトリックス形成成分の濃度が固形分として30重量%を超えると、マトリックスに対し微粒子が少な過ぎる場合が生じ、反射防止性能および防弦性能が不充分となったり、明所コントラストの向上効果が不充分となることがある。   When the concentration of the matrix-forming component exceeds 30% by weight as the solid content, there are cases where the amount of fine particles is too small with respect to the matrix, resulting in insufficient antireflection performance and stringproof performance, and insufficient effect of improving bright place contrast. It may become.

溶媒
本発明に用いる溶媒としてはマトリックス形成成分、重合開始剤を溶解あるいは分散できるとともに表面処理した低屈折率粒子(A)、表面処理した高屈折率微粒子(B)を均一に分散することができれば特に制限はなく、従来公知の溶媒を用いることができる。
Solvent As the solvent used in the present invention, it is possible to dissolve or disperse the matrix forming component and the polymerization initiator and to uniformly disperse the surface-treated low refractive index particles (A) and the surface-treated high refractive index fine particles (B). There is no restriction | limiting in particular and a conventionally well-known solvent can be used.

具体的には、水、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール(IPA)、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、イソプロピルグリコールなどのアルコール類;酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルなどのエステル類;ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルなどのケトン類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、トルエン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。   Specifically, alcohols such as water, methanol, ethanol, propanol, 2-propanol (IPA), butanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol, ethylene glycol, hexylene glycol, isopropyl glycol; acetic acid Esters such as methyl ester, ethyl acetate, butyl acetate; ethers such as diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether Acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetylacetone, acetone Ketones such as acetate, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, toluene, cyclohexanone, isophorone and the like.

なかでもカルボニル基を有する溶媒は好適に用いることができる。
カルボニル基を有する溶媒が含まれていると、表面処理した低屈折率微粒子(A)、表面処
理した高屈折率微粒子(B)が均一に分散するとともに塗料の安定性がよく、均一性、基材
との密着性、強度等に優れるとともに、凹凸を有する透明被膜を再現性よく形成することができる。
Among these, a solvent having a carbonyl group can be preferably used.
When a solvent having a carbonyl group is contained, the surface-treated low refractive index fine particles (A) and the surface treated high refractive index fine particles (B) are uniformly dispersed, and the paint has good stability, uniformity, In addition to excellent adhesion to the material, strength, etc., it is possible to form a transparent film having irregularities with good reproducibility.

これらは単独で使用してもよく、また2種以上混合して使用することもできるが、本発明では沸点の異なる2種以上の溶媒を混合して用いることが好ましい。
本発明では、前記溶媒で50〜100℃に沸点有する溶媒(A)と100超〜200℃に
沸点を有する溶媒(B)との混合溶媒であり、混合溶媒中の溶媒(A)の割合が50〜90重量%の範囲にあり、溶媒(B)の割合が10〜50重量%の範囲にあることが好ましい。
These may be used singly or in combination of two or more. In the present invention, it is preferable to use a mixture of two or more solvents having different boiling points.
In the present invention, the solvent is a mixed solvent of the solvent (A) having a boiling point of 50 to 100 ° C. and the solvent (B) having a boiling point of more than 100 to 200 ° C., and the ratio of the solvent (A) in the mixed solvent is It is preferably in the range of 50 to 90% by weight, and the ratio of the solvent (B) is preferably in the range of 10 to 50% by weight.

溶媒(A)としては、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール(IPA
)、などのアルコール類;酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルなどのエステル類;アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、トルエン等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また2種以上混合して使用してもよい。
As the solvent (A), methanol, ethanol, propanol, 2-propanol (IPA
Alcohols such as acetic acid methyl ester, ethyl acetate and butyl acetate; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; and toluene. These may be used singly or in combination of two or more.

溶媒(B)としては、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テト
ラヒドロフルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、イソプロピルグリコールなどのアルコール類;ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類;メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルなどのケトン類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、トルエン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また2種以上混合して使用してもよい。
As the solvent (B), butanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol, alcohols such as ethylene glycol, hexylene glycol, isopropyl glycol; diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, Ethers such as ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether; ketones such as methyl isobutyl ketone, acetylacetone, acetoacetate, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, toluene, cyclohexanone, isophorone Etc. These may be used singly or in combination of two or more.

混合溶媒中の溶媒(A)の割合が90重量%を超えると、塗膜の乾燥が速すぎて透明被膜
が緻密にならないことがあり硬度や耐擦傷性が不充分となることがある。
混合溶媒中の溶媒(A)の割合が50重量%未満の場合は、一方で溶媒(B)が50重量%を超えることとなり、塗膜の乾燥が遅くなり、塗膜表面の平坦化が進むために透明被膜の凸部の高さ(T)と凹部の高さ(T)との差(T)−(T)が30nm未満となることがあり、充分な防弦性能が得られないことがある。
混合溶媒中の溶媒(B)のさらに好ましい割合は20〜40重量%の範囲の範囲である。
When the ratio of the solvent (A) in the mixed solvent exceeds 90% by weight, the coating film is dried too fast and the transparent coating film may not become dense, and the hardness and scratch resistance may be insufficient.
When the ratio of the solvent (A) in the mixed solvent is less than 50% by weight, on the other hand, the solvent (B) exceeds 50% by weight, the drying of the coating film becomes slow, and the flattening of the coating film surface proceeds. Therefore, the difference between the height of the convex portion of the transparent coating (T convex ) and the height of the concave portion (T concave ) (T convex )-(T concave ) may be less than 30 nm. It may not be obtained.
A more desirable ratio of the solvent (B) in the mixed solvent is in the range of 20 to 40% by weight.

透明被膜形成用塗料中の溶媒の割合は概ね50〜99重量%、さらには70〜98重量%の範囲にあることが好ましい。
重合開始剤
本発明の透明被膜形成用塗料には重合開始剤が含まれている。
重合開始剤としては前記マトリックス形成成分を重合、硬化させることができれば特に制限はなく、樹脂によって適宜選択し、従来公知の重合開始剤を用いることができる。
The ratio of the solvent in the coating material for forming a transparent film is preferably in the range of about 50 to 99% by weight, more preferably 70 to 98% by weight.
Polymerization initiator The transparent film-forming paint of the present invention contains a polymerization initiator.
The polymerization initiator is not particularly limited as long as the matrix-forming component can be polymerized and cured, and can be appropriately selected depending on the resin, and conventionally known polymerization initiators can be used.

例えば、アシルホスフィンオキシド類、アセトフェノン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類等の重合開始剤の他、カチオン系光重合開始剤等が挙げられる。   For example, in addition to polymerization initiators such as acylphosphine oxides, acetophenones, propiophenones, benzyls, benzoins, benzophenones, and thioxanthones, cationic photopolymerization initiators and the like can be mentioned.

透明被膜形成用塗料中の重合開始剤の濃度はマトリックス形成成分の種類によっても異なるが、マトリックス形成成分および重合開始剤を固形分としたとき、マトリックス形成
成分の0.1〜20重量%、さらには0.5〜10重量%の範囲にあることが好ましい。
The concentration of the polymerization initiator in the coating for forming a transparent film varies depending on the type of the matrix-forming component, but when the matrix-forming component and the polymerization initiator are solids, 0.1 to 20% by weight of the matrix-forming component, Is preferably in the range of 0.5 to 10% by weight.

重合開始剤の含有量が固形分としてマトリックス形成成分の0.1重量%未満の場合は、塗膜の硬化が不充分となることがある。
重合開始剤の含有量が固形分としてマトリックス形成成分の20重量%を超えると、塗料の安定性が不充分となったり、得られる透明被膜の硬度が不充分となることがある。
When the content of the polymerization initiator is less than 0.1% by weight of the matrix-forming component as a solid content, the coating film may be insufficiently cured.
When the content of the polymerization initiator exceeds 20% by weight of the matrix-forming component as a solid content, the stability of the paint may be insufficient, or the hardness of the resulting transparent film may be insufficient.

本発明に係る透明被膜形成用塗料を用いて透明被膜を形成する方法として従来公知の方法を採用することができる。
具体的には、透明被膜形成用塗料をディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、バーコート法、スリットコーター印刷法、グラビア印刷法、マイクログラビア印刷法等の周知の方法で基材に塗布し、乾燥し、紫外線照射、加熱処理等常法によって硬化させることによって透明被膜を形成することができるが、本発明ではロールコート法、スリットコーター印刷法、グラビア印刷法、マイクログラビア印刷法が推奨される。
透明被膜付基材
本発明に係る透明被膜付基材は、基材上に、表面に凹凸を有する透明被膜が形成された透明被膜付基材であって、透明被膜が表面処理した低屈折率微粒子(A)と表面処理した高
屈率微粒子(B)とマトリックス成分とからなり、表面処理した低屈折率微粒子(A)が透明被膜の上部に層をなして偏在し、表面処理した高屈率微粒子(B) が透明被膜の下部に偏在し、透明被膜の平均膜厚が1〜10μmの範囲にあり、透明被膜の凸部の高さ(T)と凹部の高さ(T)との差(T)−(T)が30〜1500nmの範囲にあることを特徴としている。
本発明に係る透明被膜付基材は基材上に前記透明被膜形成用塗料を用いて透明被膜が形成されたものであることが好ましい。
透明被膜付基材
図1、図2、図3に本発明の透明被膜付基材の例を模式的に示した。
A conventionally well-known method can be employ | adopted as a method of forming a transparent film using the coating material for transparent film formation which concerns on this invention.
Specifically, the transparent film-forming paint is applied to the substrate by a known method such as dipping, spraying, spinner, roll coating, bar coating, slit coater printing, gravure printing, or micro gravure printing. A transparent film can be formed by applying, drying, and curing by conventional methods such as ultraviolet irradiation, heat treatment, etc.In the present invention, roll coating, slit coater printing, gravure printing, and micro gravure printing are used. Recommended.
The substrate with a transparent coating The substrate with a transparent coating according to the present invention is a substrate with a transparent coating in which a transparent coating having irregularities on the surface is formed on the substrate, and the low refractive index obtained by surface treatment of the transparent coating. It consists of fine particles (A), surface-treated high refractive index fine particles (B), and matrix components, and the surface-treated low refractive index fine particles (A) are unevenly distributed in a layer on the top of the transparent coating, and surface-treated high refractive index Fine particles (B) are unevenly distributed in the lower part of the transparent film, the average film thickness of the transparent film is in the range of 1 to 10 μm, and the height of the convex part of the transparent film (T convex ) and the height of the concave part (T concave ) (T convex ) − (T concave ) is in the range of 30 to 1500 nm.
The substrate with a transparent coating according to the present invention is preferably a substrate having a transparent coating formed on the substrate using the coating material for forming a transparent coating.
Example of substrate with transparent coating FIGS. 1, 2 and 3 schematically show examples of the substrate with a transparent coating of the present invention.

上部の白丸が低屈折率微粒子であり、下部の黒丸が高屈折率微粒子であり、その他の白抜きの箇所がマトリックス成分であり、透明被膜の上部に凹凸を有している。
基材
基材としては、トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム等のセルロース系基材、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系基材、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、環状ポリオレフィンフィルム等のポリオレフィン系基材、ナイロン−6、ナイロン−66等のポリアミド系基材等の他、ポリアクリル系フィルム、ポリウレタン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテウフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、アクリロニトリルフィルム等の基材が挙げられる。また、このような基材上に、ハードコート膜等他の被膜が形成された被膜付基材を用いこともできる。
The upper white circle is a low refractive index fine particle, the lower black circle is a high refractive index fine particle, the other white spot is a matrix component, and there are irregularities on the upper part of the transparent film.
Base materials: Base materials include cellulose base materials such as triacetyl cellulose film, diacetyl cellulose film and acetate butyrate cellulose film, polyester base materials such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyethylene film, polypropylene film, and cyclic polyolefin film. In addition to polyolefin base materials such as nylon-6, nylon-66, etc., polyacrylic films, polyurethane films, polycarbonate films, polyether films, polyethersulfone films, polystyrene films, etc. Examples of the base material include polymethylpentene film, polyetherketone film, and acrylonitrile film. In addition, a coated substrate in which another coating such as a hard coat film is formed on such a substrate can also be used.

透明被膜
透明被膜は表面処理した低屈折率微粒子(A)と表面処理した高屈率微粒子(B)とマトリックス成分とからなっている。表面処理した低屈折率微粒子(A)としては前記したと同様の粒
子を用いることができる。
Transparent coating The transparent coating comprises a surface-treated low refractive index fine particle (A), a surface-treated high refractive index fine particle (B), and a matrix component. As the surface-treated low refractive index fine particles (A), the same particles as described above can be used.

透明被膜中の表面処理した低屈折率微粒子(A)の含有量は固形分として1〜30重量%
、さらには2〜25重量%の範囲にあることが好ましい。低屈折率微粒子(A)の含有量が
少ないと、透明被膜上部の屈折率が充分低くならないために、透明被膜の反射率が高くなり反射防止性能が不充分であったり明所コントラストが不充分となることがある。低屈折率微粒子(A)の含有量が多いと、低屈折率微粒子(A)が多すぎて表面処理した低屈折率微粒
子(B)との分離が不充分となり、後述する範囲の凹凸を有する透明被膜の形成が困難とな
り防弦性能が不充分となることがある。
The content of the surface-treated low refractive index fine particles (A) in the transparent coating is 1 to 30% by weight as a solid content
Further, it is preferably in the range of 2 to 25% by weight. If the content of the low refractive index fine particles (A) is small, the refractive index of the upper part of the transparent film will not be sufficiently low, so the reflectivity of the transparent film will be high and the antireflection performance will be insufficient, or the contrast in the light place will be insufficient. It may become. If the content of the low refractive index fine particles (A) is large, the amount of the low refractive index fine particles (A) is too much to separate from the surface-treated low refractive index fine particles (B), resulting in unevenness in the range described later. Formation of a transparent coating becomes difficult and the string-proof performance may be insufficient.

表面処理した低屈折率微粒子(B)としては前記したと同様の粒子を用いることができる
。透明被膜中の表面処理した高屈折率微粒子(B)の含有量が固形分として5〜70重量%
、さらには10〜50重量%の範囲にあることが好ましい。高屈折率微粒子(B)の含有量
が少ないと、透明被膜表面の凹凸が不充分となり防弦性能が不充分となることがある。高屈折率微粒子(B)の含有量が多いと、透明被膜の膜厚が不均一となったり耐擦傷性が不充
分となることがある。
As the surface-treated low refractive index fine particles (B), the same particles as described above can be used. The content of the surface-treated high refractive index fine particles (B) in the transparent coating is 5 to 70% by weight as a solid content
Further, it is preferably in the range of 10 to 50% by weight. If the content of the high refractive index fine particles (B) is small, irregularities on the surface of the transparent coating may be insufficient and the string-proof performance may be insufficient. If the content of the high refractive index fine particles (B) is large, the film thickness of the transparent film may become nonuniform or the scratch resistance may be insufficient.

マトリックス成分
マトリックス成分としては、シリコーン系(ゾルゲル系)マトリックス成分、有機樹脂系マトリックス成分等が用いられる。シリコーン系マトリックス成分としては前記式(5)
と同様の有機珪素化合物の加水分解重縮合物が好適に用いられる。また、有機樹脂系マトリックス成分としては、塗料用樹脂として公知の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、電子線硬化樹脂等が挙げられる。
Matrix Component As the matrix component, a silicone (sol-gel) matrix component, an organic resin matrix component, or the like is used. As the silicone matrix component, the above formula (5)
The same hydrolyzed polycondensates of organosilicon compounds are preferably used. Examples of the organic resin-based matrix component include known thermosetting resins, thermoplastic resins, and electron beam curable resins as coating resins.

このような樹脂として、たとえば、従来から用いられているポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、熱可塑性アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、酢酸ビニル樹脂、シリコーンゴムなどの熱可塑性樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、ブチラール樹脂、反応性シリコーン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、紫外線硬化型アクリル樹脂などの熱硬化性樹脂、紫外線硬化型アクリル樹脂などが挙げられる。さらにはこれら樹脂の2種以上の共重合体や変性体であってもよい。   Examples of such resins include conventionally used thermoplastic resins such as polyester resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyphenylene oxide resins, thermoplastic acrylic resins, vinyl chloride resins, fluororesins, vinyl acetate resins, and silicone rubbers. , Urethane resin, melamine resin, silicon resin, butyral resin, reactive silicone resin, phenol resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, thermosetting acrylic resin, UV curable acrylic resin, etc., UV curable type An acrylic resin etc. are mentioned. Further, it may be a copolymer or modified body of two or more of these resins.

これらの樹脂は、エマルジョン樹脂、水溶性樹脂、親水性樹脂であってもよい。さらに、熱硬化性樹脂の場合、紫外線硬化型のものであっても、電子線硬化型のものであってもよく、熱硬化性樹脂の場合、硬化触媒が含まれていてもよい。   These resins may be emulsion resins, water-soluble resins, and hydrophilic resins. Further, in the case of a thermosetting resin, it may be an ultraviolet curable type or an electron beam curable type, and in the case of a thermosetting resin, a curing catalyst may be included.

本発明に用いるマトリックス成分は親水性マトリックス成分と疎水性マトリックス成分とからなることが好ましい。
親水性のシリコーン系(ゾルゲル系)マトリックス成分としては、下記式(3)で表され
る有機珪素化合物の加水分解重縮合物が用いられる。
SiX4 (3)
(但し、式中、Xは炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素)
具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシランの加水分解重縮合物は好適に用いることができる。
疎水性のシリコーン系(ゾルゲル系)マトリックス成分としては、下記式(4)で表される
有機珪素化合物の加水分解重縮合物が用いられる。
n-SiX4-n (4)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、n:1〜3の整数)
なかでも、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-3,3,3−トリフル
オロプロピルジメトキシシランの加水分解重縮合物は好適に用いることができる。
The matrix component used in the present invention is preferably composed of a hydrophilic matrix component and a hydrophobic matrix component.
As the hydrophilic silicone (sol-gel) matrix component, a hydrolyzed polycondensate of an organosilicon compound represented by the following formula (3) is used.
SiX 4 (3)
(Where X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, silanol group, halogen, hydrogen)
Specifically, hydrolyzed polycondensates of tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, and methyltrimethoxysilane can be suitably used.
As the hydrophobic silicone (sol-gel) matrix component, a hydrolyzed polycondensate of an organosilicon compound represented by the following formula (4) is used.
R n -SiX 4-n (4 )
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a silanol group) , Halogen, hydrogen, n: an integer of 1 to 3)
Among these, hydrolysis polycondensates of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane and methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane can be preferably used.

また、親水性の有機樹脂系マトリックス成分としては、水酸基(OH基)、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基等の親水性官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂が挙げられ、具体的には、水酸基(OH基)、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基等
の親水性官能基を有するペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の他、ジエチルアミノメチルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールジメタクリレート、ブトキシジエチレングリコールメタクリレートおよびこれらの混合物が挙げられる。
Examples of hydrophilic organic resin matrix components include polyfunctional (meth) acrylic acid ester resins having hydrophilic functional groups such as hydroxyl groups (OH groups), amino groups, carboxyl groups, and sulfo groups. Include pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetra (meta) having hydrophilic functional groups such as hydroxyl group (OH group), amino group, carboxyl group, and sulfo group. ) In addition to acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, etc., diethylaminomethyl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl acrylate, methoxytriethylene glycol dimethacrylate, Alkoxy diethyleneglycol methacrylate and mixtures thereof.

疎水性の有機樹脂系マトリックス成分としては、ビニル基、ウレタン基、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、CF2基等の疎水性官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エ
ステル樹脂が挙げられ、具体的にはペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメテクリレート、イソデシルメテクリレート、n-ラウリルアクリレート、n−ステアリルアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、トリフロロエチルメテクリレート、ウレタンアクリレート等およびこれらの混合物が挙げられる。
Examples of the hydrophobic organic resin matrix component include polyfunctional (meth) acrylic acid ester resins having a hydrophobic functional group such as vinyl group, urethane group, epoxy group, (meth) acryloyl group, CF 2 group, Specifically, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl Methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, isodecyl methacrylate, n-lauryl acrylate, n-stearyl acrylate, 1,6-hexa Diol dimethacrylate, perfluorooctyl methacrylate, trifluoroethyl Mete chestnut rate, urethane acrylate and the like and mixtures thereof.

親水性マトリックス成分の固形分としての含有量(WMA)と疎水性マトリックス成分の固形分としての含有量(WMB)との含有量の比(WMA)/(WMB)が0.01〜1、さらには0.05〜0.5の範囲にあることが好ましい。 The content of the solid content of the hydrophilic matrix components (W MA) and the content of the solid content of the hydrophobic matrix components (W MB) and the ratio of the content of (W MA) / (W MB ) 0.01 It is preferable to be in the range of ˜1, more preferably 0.05 to 0.5.

(WMA)/(WMB)が小さい場合、親水性マトリックス形成成分が少なく、実質的に疎水性マトリックス形成成分のみに近くなり、表面処理した低屈折率微粒子(A)(上部)と
表面処理した高屈折率微粒子(B)(下部)とに分離した透明被膜が得られない場合がある
。(WMA)/(WMB)が大きいと、親水性マトリックス成分が多く表面電荷量の高い表面処理した高屈折率微粒子(B)が基材に密着した形で下層にのみ偏在しない場合がある。
When (W MA ) / (W MB ) is small, there are few hydrophilic matrix-forming components and it is close to only hydrophobic matrix-forming components, and surface-treated low refractive index fine particles (A) (top) and surface treatment In some cases, a transparent coating separated into the high refractive index fine particles (B) (lower part) cannot be obtained. When (W MA ) / (W MB ) is large, the surface-treated high refractive index fine particles (B) having a large amount of hydrophilic matrix components and a high surface charge amount may not be unevenly distributed only in the lower layer. .

透明被膜中のマトリックス成分の含有量(WMA)は25〜94重量%、さらには30〜90重量%の範囲にあることが好ましい。
透明被膜中のマトリックス成分の含有量(WMA)が少ないと、膜中の粒子の割合が多すぎて表面処理した低屈折率微粒子(A)と表面処理した高屈折率微粒子(B)とが分離した透明被膜が得られないため反射防止性能、防弦性能が不充分となったり透明被膜の強度、耐擦傷性が不充分となることがある。透明被膜中のマトリックス成分の含有量(WMA)が多いと、粒子の量が少ないために本願発明の効果、すなわち反射防止性能、防弦性能、場合によっては帯電防止性能等が不充分となる場合がある。
The content (W MA ) of the matrix component in the transparent film is preferably in the range of 25 to 94% by weight, more preferably 30 to 90% by weight.
If the content of the matrix component (W MA ) in the transparent film is small, the ratio of the particles in the film is too high, and the surface-treated low refractive index fine particles (A) and the surface treated high refractive index fine particles (B) Since a separated transparent film cannot be obtained, the antireflection performance and stringproof performance may be insufficient, and the strength and scratch resistance of the transparent film may be insufficient. When the content of the matrix component (W MA ) in the transparent coating is large, the amount of particles is small, so that the effects of the present invention, that is, the antireflection performance, the stringproof performance, and in some cases, the antistatic performance are insufficient. There is a case.

本発明に係る透明被膜の膜厚は透明被膜の平均膜厚が1〜10μm、さらには2〜8μmの範囲にあることが好ましい。ここで、平均膜厚とは透明被膜の凸部の平均高さ(T)と凹部の平均高さ(T)との平均値をいう。 As for the film thickness of the transparent film according to the present invention, the average film thickness of the transparent film is preferably in the range of 1 to 10 μm, more preferably 2 to 8 μm. Here, the average film thickness refers to the average value of the average height of convex portions (T convex ) and the average height of concave portions (T concave ) of the transparent coating.

透明被膜の平均膜厚が1μm未満の場合は、2層に分離し且つ後述する凹凸を有する透明被膜の形成が困難であり、透明被膜の平均膜厚が10μmを超えると、透明被膜にクラックを生じたり、基材がプラスチック等の場合はカーリング(湾曲あるいは反り)を生じる場合がある。   When the average film thickness of the transparent film is less than 1 μm, it is difficult to form a transparent film having two layers and having irregularities described later. When the average film thickness of the transparent film exceeds 10 μm, the transparent film is cracked. When the substrate is made of plastic or the like, curling (curving or warping) may occur.

また、透明被膜の凸部の平均高さ(T)と凹部の平均高さ(T)との差(T)−(T)が30〜1500nm、さらには50〜1000nmの範囲にあることが好まし
い。
Further, the difference (T convex ) − (T concave ) between the average height of convex portions (T convex ) and the average height of concave portions (T concave ) of the transparent coating is in the range of 30 to 1500 nm, and further 50 to 1000 nm. Preferably there is.

(T)−(T)が小さいと、充分な防弦性が得られない場合がある。(T)−(T)が大きすぎても光の表面散乱が大きく白っぽく見える場合がある。
さらに、透明被膜の上部に偏在する表面処理した低屈折率微粒子(A)の層の厚さは、概ね
10〜500nm、さらには20〜300nm、特に50〜200nmの範囲にあることが好ましい。
If (T- convex )-(T- concave ) is small, sufficient string resistance may not be obtained. Even if (T- convex )-(T- concave ) is too large, the surface scattering of light may appear large and whitish.
Furthermore, the thickness of the surface-treated low refractive index fine particles (A) unevenly distributed on the transparent film is preferably in the range of about 10 to 500 nm, more preferably 20 to 300 nm, and particularly preferably 50 to 200 nm.

低屈折率微粒子(A)の層の厚さが小さい場合は、反射防止性能が不充分となることがあ
る。低屈折率微粒子(A)の層の厚さが厚すぎると、フレネルの原理から外れた厚さとなる
場合があり、反射防止性能が不充分となったり、明室コントラストが低下し、このため画面が白味を帯びることがある。
[実施例]
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
透明被膜形成用塗料(A-1)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノ−ル 粒子屈折率1.30)を用いた。このゾル100gにパーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン10g(東レダウコーニング(株)製:AY43−158E、SiO2成分26.6重量%)を混合し超純水を10g添加し40℃で5時間攪拌して表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルを得た(固形分19.3%)。この表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルの表面電荷量を測定したところ8.3μeq/gであった。高屈折率成分として酸化チタン粒子(触媒化成工業(株)製:チタンマイクロビード、平均粒子径3μm、粒子屈折率2.40)を用いた。エチルアルコール79.5gの中に、この酸化チタン粒子20.5gを入れ、γ-アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン2.52g(信越化学(株)製:KBM−5103、SiO2成分81.2%)を混合し超純水を10g添加し50℃で5時間攪拌して表面処理をした酸化チタン粒子分散液を得た(固形分20.0%)。この表面処理した酸化チタン粒子分散液の表面電荷量を測定したところ30.0μeq/gであった。表面処理したシリカ系中空微粒子分散液7.7gと表面処理した酸化チタン粒子分散液30g、疎水性マトリックスとしてヘキサエリスリトールトリペンタアクリレート(日本化薬(株):KAYARAD DPHA)24.3gと親水性マトリックスとして2−ヒドロキ−3アクリロイロキシプロピルメタクレート(共栄社化学(株)製:ライトエステルG−201P)2.7gに、光開始剤(チバスプシャリティ(株)製イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)0.35gおよび溶剤としてイソプロパノ−ル13.2g、メチルイソブチルケトン8.0g、プロピレングリコールモノメチルエーテル6.0gとを充分に混合して透明被膜形成用塗料(A-1)を調製した。
When the thickness of the layer of the low refractive index fine particles (A) is small, the antireflection performance may be insufficient. If the layer of the low refractive index fine particles (A) is too thick, the thickness may deviate from the Fresnel principle, resulting in inadequate antireflection performance or reduced bright room contrast. May be white.
[Example]
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these Examples.
[Example 1]
Preparation of paint for forming transparent film (A-1) Silica hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5 wt%, dispersion medium as low refractive index component : Isopropanol (particle refractive index: 1.30). 100 g of this sol was mixed with 10 g of perfluorooctylethyltriethoxysilane (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd .: AY43-158E, SiO 2 component 26.6 wt%), 10 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 5 hours. Thus, a silica-based hollow fine particle-dispersed sol which was surface-treated was obtained (solid content 19.3%). The surface charge amount of this surface-treated silica-based hollow fine particle dispersed sol was measured and found to be 8.3 μeq / g. Titanium oxide particles (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd .: titanium microbeads, average particle diameter of 3 μm, particle refractive index of 2.40) were used as the high refractive index component. 20.5 g of this titanium oxide particle is put in 79.5 g of ethyl alcohol, and 2.52 g of γ-acryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-5103, SiO 2 component 81.2%). ), 10 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 5 hours to obtain a surface-treated titanium oxide particle dispersion (solid content: 20.0%). The surface charge amount of this surface-treated titanium oxide particle dispersion was measured and found to be 30.0 μeq / g. Surface-treated silica-based hollow fine particle dispersion 7.7 g, surface-treated titanium oxide particle dispersion 30 g, 24.3 g of hexaerythritol tripentaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA) as a hydrophobic matrix and a hydrophilic matrix As 2.7 g of 2-hydroxy-3acryloyloxypropyl methacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: light ester G-201P), dissolved in photoinitiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd., IPA), solid 10%) (partial concentration: 10%) and 13.2 g of isopropanol, 8.0 g of methyl isobutyl ketone, and 6.0 g of propylene glycol monomethyl ether as a solvent were mixed thoroughly to form a coating material for forming a transparent film (A-1). Prepared.

透明被膜付基材(1)の調製
透明被膜形成用塗布液(A-1)をPETフィルム(厚さ100μm、屈折率1.65、基
材透過率88.0%、Haze1.0%、反射率5.1%)にバ−コ−タ−で塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて透明被膜付基材(1)を調製した。透明被膜の一部を縦方向に垂直に切断し、断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部にシリカ系中空微粒子が厚さ約100nmの層をなしており、下部は酸化チタン粒子の存在が認められた。得られた透明被膜付基材(1)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長550nmの光線の反射率を測定し、結果を表に示す。
Preparation of transparent film-coated substrate (1) Transparent film-forming coating solution (A-1) was coated with a PET film (thickness 100 μm, refractive index 1.65, substrate transmittance 88.0%, haze 1.0%, reflection) After coating with a bar coater at a rate of 5.1% and drying at 70 ° C. for 1 minute, the substrate was coated with a transparent film by irradiating with a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) for 1 minute to cure (1) Was prepared. A part of the transparent coating was cut perpendicularly in the vertical direction, and the cross section was observed with a transmission electron microscope. Silica hollow fine particles formed a layer with a thickness of about 100 nm on the top, and the presence of titanium oxide particles on the bottom. Was recognized. The total light transmittance, haze, and reflectance of light having a wavelength of 550 nm of the obtained substrate (1) with a transparent coating were measured, and the results are shown in the table.

全光線透過率およびヘ−ズはヘ−ズメ−タ−(日本電色(株)製:NDH2000)により、反射率は分光光度計(日本分光社製:Ubest−55)により夫々測定した。
また、防眩性、密着性、鉛筆硬度を以下の方法および評価基準で評価し、結果を表に示した。
防眩性
ハードコート機能付き反射防止膜付基材(1)の防眩性を基材の裏面を黒スプレーで均一
に塗り、30Wの蛍光灯から2mはなれ蛍光灯の映り込みを目視に確認し防眩性を評価し
た。結果を表に示す。
The total light transmittance and haze were measured with a haze meter (Nippon Denshoku Co., Ltd .: NDH2000), and the reflectance was measured with a spectrophotometer (Nippon Bunko Co., Ltd .: Ubest-55).
Moreover, anti-glare property, adhesiveness, and pencil hardness were evaluated by the following methods and evaluation criteria, and the results are shown in the table.
Anti-glare base material with anti-glare coating with hard coat function (1) The anti-glare property of the base material is uniformly applied with black spray on the back side of the base material. Antiglare property was evaluated. The results are shown in the table.

蛍光灯が全く見えない :◎
蛍光灯がわずかに見える :○
蛍光灯は見えるが輪郭がぼける :△
蛍光灯がはっきり見える :×
密着性
ハードコート機能付き反射防止膜付基材(1)の表面にナイフで縦横1mmの間隔で1
1本の平行な傷を付け100個の升目を作り、これにセロハンテ−プを接着し、ついで、セロハンテ−プを剥離したときに被膜が剥離せず残存している升目の数を、以下の4段階に分類することにより密着性を評価した。結果を表に示す。
I can't see any fluorescent lights: ◎
Fluorescent light is slightly visible: ○
Fluorescent lamp is visible but outline is blurred: △
Fluorescent light is clearly visible: ×
Adhesion 1 on the surface of the base material with anti-reflective coating with hard coat function (1) with 1mm vertical and horizontal intervals with a knife
One parallel scratch was made to make 100 squares, cellophane tape was adhered to this, and when the cellophane tape was peeled off, the number of squares remaining after the coating was not peeled The adhesion was evaluated by classifying into 4 stages. The results are shown in the table.

残存升目の数100個 :◎
残存升目の数90〜99個 :○
残存升目の数85〜89個 :△
残存升目の数84個以下 :×
鉛筆硬度
JIS−K−5400に準じて鉛筆硬度試験器により測定した。
Number of remaining squares: ◎
Number of remaining squares 90-99: ○
Number of remaining squares: 85 to 89: Δ
Number of remaining squares: 84 or less: ×
Pencil hardness It measured with the pencil hardness tester according to JIS-K-5400.

透明被膜付基材(1)の膜を一部剥離し透明被膜の平均膜厚、凸部の高さ(T)と凹部
の高さ(T)との差をレーザー顕微鏡(キーエンス株式会社製:VE-3000)を用いて
測定し表に示す。
A part of the film of the substrate with transparent film (1) is peeled off, and the difference between the average film thickness of the transparent film and the height of the convex part (T 1 ) and the height of the concave part (T 2 ) is measured with a laser microscope (KEYENCE CORPORATION Measured using VE-3000) and shown in the table.

[実施例2]
透明被膜形成用塗料(A-2)の調製
実施例1において、表面処理したシリカ系中空微粒子分散液7.7gと表面処理した酸化チタン粒子分散液45gとを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗料(A-2)を調製
した。
[Example 2]
Preparation of paint for forming transparent film (A-2) In Example 1, the same procedure was followed except that 7.7 g of the surface-treated silica-based hollow fine particle dispersion and 45 g of the surface-treated titanium oxide particle dispersion were used. A forming paint (A-2) was prepared.

透明被膜付基材(2)の調製
実施例1において透明被膜形成用塗布液(A-2)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(2)を調製した。透明被膜の断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部に
シリカ系中空微粒子が厚さ約100nmの層をなしており、下部は酸化チタン粒子の存在が認められた。
Preparation of substrate with transparent film (2) A substrate with transparent film (2) was prepared in the same manner as in Example 1, except that the coating liquid for forming a transparent film (A-2) was used. When the cross section of the transparent film was observed with a transmission electron microscope, the silica-based hollow fine particles formed a layer having a thickness of about 100 nm on the upper part, and the presence of titanium oxide particles was observed on the lower part.

得られた透明被膜付基材(2)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長550nmの光線の反射率
を測定し、結果を表に示す。また、透明被膜の平均膜厚、凸部の高さ(T)と凹部の高さ(T)との差、防眩性、密着性、鉛筆硬度を評価し、結果を表に示した。
[実施例3]
透明被膜形成用塗料(A-3)の調製
実施例1において、表面処理したシリカ系中空微粒子分散液7.7gと表面処理した酸化チタン粒子分散液10gとを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗料(A-3)を調製
した。
The total light transmittance, haze, and reflectance of light having a wavelength of 550 nm of the obtained substrate (2) with a transparent coating were measured, and the results are shown in the table. Moreover, the average film thickness of the transparent film, the difference between the height (T 1 ) of the convex portion and the height (T 2 ) of the concave portion, antiglare property, adhesion, and pencil hardness were evaluated, and the results are shown in the table. .
[Example 3]
Preparation of paint for forming transparent film (A-3) Transparent film was prepared in the same manner as in Example 1, except that 7.7 g of the surface-treated silica-based hollow fine particle dispersion and 10 g of the surface-treated titanium oxide particle dispersion were used. A forming paint (A-3) was prepared.

透明被膜付基材(3)の調製
実施例1において透明被膜形成用塗布液(A-3)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(3)を調製した。透明被膜の断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部に
シリカ系中空微粒子が厚さ約100nmの層をなしており、下部は酸化チタン粒子の存在が認められた。
得られた透明被膜付基材(3)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長550nmの光線の反射率を
測定し、結果を表に示す。また、透明被膜の平均膜厚、凸部の高さ(T)と凹部の高さ(T)との差、防眩性、密着性、鉛筆硬度を評価し、結果を表に示した。
[実施例4]
透明被膜形成用塗料(A-4)の調製
実施例1において、高屈折率成分として酸化チタン粒子(触媒化成工業(株)製:チタンマイクロビード、平均粒子径4.5μm、粒子屈折率2.40)を用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗料(A-4)を調製した。
Preparation of substrate with transparent film (3) A substrate with transparent film (3) was prepared in the same manner as in Example 1, except that the coating liquid for forming a transparent film (A-3) was used. When the cross section of the transparent film was observed with a transmission electron microscope, the silica-based hollow fine particles formed a layer having a thickness of about 100 nm on the upper part, and the presence of titanium oxide particles was observed on the lower part.
The total light transmittance, haze, and reflectance of light having a wavelength of 550 nm of the obtained substrate (3) with a transparent coating were measured, and the results are shown in the table. Moreover, the average film thickness of the transparent film, the difference between the height (T 1 ) of the convex portion and the height (T 2 ) of the concave portion, antiglare property, adhesion, and pencil hardness were evaluated, and the results are shown in the table. .
[Example 4]
Preparation of Transparent Film Forming Coating Material (A-4) In Example 1, titanium oxide particles (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: titanium microbead, average particle diameter 4.5 μm, particle refractive index 2. A transparent film-forming paint (A-4) was prepared in the same manner except that 40) was used.

透明被膜付基材(4)の調製
実施例1において透明被膜形成用塗布液(A-4)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(4)を調製した。透明被膜の断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部に
シリカ系中空微粒子が厚さ約100nmの層をなしており、下部は酸化チタン粒子の存在が認められた。
Preparation of substrate with transparent film (4) A substrate with transparent film (4) was prepared in the same manner as in Example 1, except that the coating liquid for forming a transparent film (A-4) was used. When the cross section of the transparent film was observed with a transmission electron microscope, the silica-based hollow fine particles formed a layer having a thickness of about 100 nm on the upper part, and the presence of titanium oxide particles was observed on the lower part.

得られた透明被膜付基材(4)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長550nmの光線の反射率
を測定し、結果を表に示す。また、透明被膜の平均膜厚、凸部の高さ(T)と凹部の高さ(T)との差、防眩性、密着性、鉛筆硬度を評価し、結果を表に示した。
[実施例5]
透明被膜形成用塗料(A-5)の調製
実施例1において、高屈折率成分として酸化チタン粒子(触媒化成工業(株)製:チタンマイクロビード、平均粒子径1μm、粒子屈折率2.40)を用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗料(A-5)を調製した。
The total light transmittance, haze, and reflectance of light having a wavelength of 550 nm of the obtained substrate (4) with a transparent coating were measured, and the results are shown in the table. Moreover, the average film thickness of the transparent film, the difference between the height (T 1 ) of the convex portion and the height (T 2 ) of the concave portion, antiglare property, adhesion, and pencil hardness were evaluated, and the results are shown in the table. .
[Example 5]
Preparation of paint for forming transparent film (A-5) In Example 1, titanium oxide particles (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: titanium microbead, average particle diameter 1 μm, particle refractive index 2.40) as a high refractive index component A transparent film-forming paint (A-5) was prepared in the same manner except that was used.

透明被膜付基材(5)の調製
実施例1において透明被膜形成用塗布液(A-5)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(5)を調製した。透明被膜の断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部に
シリカ系中空微粒子が厚さ約100nmの層をなしており、下部は酸化チタン粒子の存在が認められた。
Preparation of substrate with transparent coating (5)
A substrate with a transparent film (5) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming a transparent film (A-5) was used. When the cross section of the transparent film was observed with a transmission electron microscope, the silica-based hollow fine particles formed a layer having a thickness of about 100 nm on the upper part, and the presence of titanium oxide particles was observed on the lower part.

得られた透明被膜付基材(5)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長550nmの光線の反射率
を測定し、結果を表に示す。また、透明被膜の平均膜厚、凸部の高さ(T)と凹部の高さ(T)との差、防眩性、密着性、鉛筆硬度を評価し、結果を表に示した。
[実施例6]
透明被膜形成用塗料(A-6)の調製
実施例1において、表面処理したシリカ系中空微粒子分散液15.5gと表面処理した酸化チタン粒子分散液30gとを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗料(A-6)を調
製した。
The total light transmittance, haze, and reflectance of light with a wavelength of 550 nm of the obtained substrate (5) with a transparent coating were measured, and the results are shown in the table. Moreover, the average film thickness of the transparent film, the difference between the height (T 1 ) of the convex portion and the height (T 2 ) of the concave portion, antiglare property, adhesion, and pencil hardness were evaluated, and the results are shown in the table. .
[Example 6]
Preparation of paint for forming transparent film (A-6) In Example 1, the same procedure was followed except that 15.5 g of the surface-treated silica-based hollow fine particle dispersion and 30 g of the surface-treated titanium oxide particle dispersion were used. A forming paint (A-6) was prepared.

透明被膜付基材(6)の調製
実施例1において透明被膜形成用塗布液(A-6)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(6)を調製した。透明被膜の断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部に
シリカ系中空微粒子が厚さ約200nmの層をなしており、下部は酸化チタン粒子の存在が認められた。得られた透明被膜付基材(6)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長550nmの
光線の反射率を測定し、結果を表に示す。また、透明被膜の平均膜厚、凸部の高さ(T)と凹部の高さ(T)との差、防眩性、密着性、鉛筆硬度を評価し、結果を表に示した
Preparation of substrate with transparent film (6) A substrate with transparent film (6) was prepared in the same manner as in Example 1, except that the coating liquid for forming a transparent film (A-6) was used. When the cross section of the transparent coating was observed with a transmission electron microscope, the silica-based hollow fine particles formed a layer having a thickness of about 200 nm on the top, and the presence of titanium oxide particles was observed on the bottom. The total light transmittance, haze, and reflectance of light having a wavelength of 550 nm of the obtained substrate (6) with a transparent coating were measured, and the results are shown in the table. Moreover, the average film thickness of the transparent film, the difference between the height (T 1 ) of the convex portion and the height (T 2 ) of the concave portion, antiglare property, adhesion, and pencil hardness were evaluated, and the results are shown in the table. .

[実施例7]
透明被膜形成用塗料(A-7)の調製
実施例1において、表面処理したシリカ系中空微粒子分散液5gと表面処理した酸化チタン粒子分散液30gとを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗料(A-7)を調製した
[Example 7]
Preparation of Transparent Film Forming Coating Material (A-7) In Example 1, except for using 5 g of surface-treated silica-based hollow fine particle dispersion and 30 g of surface-treated titanium oxide particle dispersion, A paint (A-7) was prepared.

透明被膜付基材(7)の調製
実施例1において透明被膜形成用塗布液(A-7)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(7)を調製した。透明被膜の断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部に
シリカ系中空微粒子が厚さ約70nmの層をなしており、下部は酸化チタン粒子の存在が認められた。
得られた透明被膜付基材(7)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長550nmの光線の反射率を
測定し、結果を表に示す。また、透明被膜の平均膜厚、凸部の高さ(T)と凹部の高さ(T)との差、防眩性、密着性、鉛筆硬度を評価し、結果を表に示した。
[実施例8]
透明被膜形成用塗料(A-8)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノ−ル 粒子屈折率1.30)を用いた。このゾル100gにトリデシルメタクリレート5.12g(共栄社化学製 ライトエステルTD)を混合し50℃で24時間攪拌し表面処理したシリ
カ系中空微粒子分散ゾルを得た(固形分24.4%)。この表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルの表面電荷量を測定したところ6.0μeq/gであった。
Preparation of substrate with transparent film (7) A substrate with transparent film (7) was prepared in the same manner as in Example 1, except that the coating liquid for forming a transparent film (A-7) was used. When the cross section of the transparent coating was observed with a transmission electron microscope, the silica-based hollow fine particles formed a layer having a thickness of about 70 nm on the top, and the presence of titanium oxide particles was observed on the bottom.
The total light transmittance, haze, and reflectance of light having a wavelength of 550 nm of the obtained transparent film-coated substrate (7) were measured, and the results are shown in the table. Moreover, the average film thickness of the transparent film, the difference between the height (T 1 ) of the convex portion and the height (T 2 ) of the concave portion, antiglare property, adhesion, and pencil hardness were evaluated, and the results are shown in the table. .
[Example 8]
Preparation of paint for forming transparent film (A-8) Silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5% by weight, dispersion medium as low refractive index component : Isopropanol (particle refractive index: 1.30). To 100 g of this sol, 5.12 g of tridecyl methacrylate (Light Ester TD manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) was mixed and stirred at 50 ° C. for 24 hours to obtain a silica-based hollow fine particle dispersed sol (solid content: 24.4%). The surface charge amount of the surface-treated silica-based hollow fine particle dispersed sol was measured and found to be 6.0 μeq / g.

高屈折率成分として酸化チタン粒子(触媒化成工業(株)製:チタンマイクロビード、平均粒子径3μm、粒子屈折率2.40)を用いた。エチルアルコール79.5gの中に、この酸化チタン粒子20.5gを入れ、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン2.52g(信越化学(株)製:KBM−503、SiO2成分81.9重量%)を混合し超純水を10g添加し50℃で5時間攪拌して表面処理をした酸化チタン粒子分散液を得た(固形分20.0重量%)。この表面処理した酸化チタン粒子分散液の表面電荷量を測定したところ39.2μeq/gであった。表面処理したシリカ系中空微粒子分散液7.7gと表面処理した酸化チタン粒子分散液30g、疎水性マトリックスとしてヘキサエリスリトールトリペンタアクリレート(日本化薬(株):KAYARAD DPHA)24.3gと親水性マトリックスとして2−ヒドロキ−3アクリロイロキシプロピルメタクレート(共栄社化学(株)製:ライトエステルG−201P)2.7gに、光開始剤(チバスプシャリティ(株)製イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10重量%)0.35gおよび溶剤としてイソプロパノ−ル20.95g、メチルイソブチルケトン8.0g、プロピレングリコールモノメチルエーテル6.0gとを充分に混合して透明被膜形成用塗料(A-8)を調製した。 Titanium oxide particles (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd .: titanium microbeads, average particle diameter of 3 μm, particle refractive index of 2.40) were used as the high refractive index component. 20.5 g of this titanium oxide particle is put in 79.5 g of ethyl alcohol, and 2.52 g of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-503, SiO 2 component 81.9% by weight). ), 10 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 5 hours to obtain a surface-treated titanium oxide particle dispersion (solid content: 20.0 wt%). The surface charge amount of this surface-treated titanium oxide particle dispersion was measured and found to be 39.2 μeq / g. Surface-treated silica-based hollow fine particle dispersion 7.7 g, surface-treated titanium oxide particle dispersion 30 g, 24.3 g of hexaerythritol tripentaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA) as a hydrophobic matrix and a hydrophilic matrix As 2.7 g of 2-hydroxy-3acryloyloxypropyl methacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: light ester G-201P), dissolved in photoinitiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd., IPA), solid 0.35 g (concentration concentration 10% by weight) and 20.95 g of isopropanol, 8.0 g of methyl isobutyl ketone, and 6.0 g of propylene glycol monomethyl ether as a solvent were mixed thoroughly to form a coating material for forming a transparent film (A-8) Was prepared.

透明被膜付基材(8)の調製
実施例1において透明被膜形成用塗布液(A-8)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(8)を調製した。透明被膜の断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部に
シリカ系中空微粒子が厚さ約100nmの層をなしており、下部は酸化チタン粒子の存在が認められた。
Preparation of substrate with transparent film (8) A substrate with transparent film (8) was prepared in the same manner as in Example 1, except that the coating liquid for forming a transparent film (A-8) was used. When the cross section of the transparent film was observed with a transmission electron microscope, the silica-based hollow fine particles formed a layer having a thickness of about 100 nm on the upper part, and the presence of titanium oxide particles was observed on the lower part.

得られた透明被膜付基材(8)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長550nmの光線の反射率
を測定し、結果を表に示す。また、透明被膜の平均膜厚、凸部の高さ(T)と凹部の高さ(T)との差、防眩性、密着性、鉛筆硬度を評価し、結果を表に示した。
[実施例9]
透明被膜形成用塗料(A-9)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径120nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノ−ル 粒子屈折率1.20)を用いた。このゾル100gにパーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン10g(東レダウコーニング製 AY43−158E 100%)を混合し超純水を10g添加し40℃で5時間攪拌して表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルを得た(固形分19.3%)。この表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルの表面電荷量を測定したところ7.7μeq/gであった。高屈折率成分として酸化チタン粒子(触媒化成工業(株)製:チタンマイクロビード、平均粒子径3μm、粒子屈折率2.40)を用いた。エチルアルコール79.5gの中に、この酸化チタン粒子20.5gを入れ、γ-アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン2.52g(信越化学(株)製:KBM−5103 SiO2成分81.2%)を混合し超純水を10g添加し50℃で5時間攪拌して表面処理をした酸化チタン粒子分散液を得た(固形分20.0重量%)。この表面処理した酸化チタン粒子分散液の表面電荷量を測定したところ30.0μeq/gであった。表面処理したシリカ系中空微粒子分散液7.7gと表面処理した酸化チタン粒子分散液30g、疎水性マトリックスとしてヘキサエリスリトールトリペンタアクリレート(日本化薬(株):KAYARAD DPHA)24.3gと親水性マトリックスとして2−ヒドロキ−3アクリロイロキシプロピルメタクレート(共栄社化学(株)製:ライトエステルG−201P)2.7gに、光開始剤(チバスプシャリティ(株)製イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10重量%)0.35gおよび溶剤としてイソプロパノ−ル20.95g、メチルイソブチルケトン8.0g、プロピレングリコールモノメチルエーテル6.0gとを充分に混合して透明被膜形成用塗料(A-9)を調製した。
The total light transmittance, haze, and reflectance of light with a wavelength of 550 nm of the obtained substrate (8) with a transparent coating were measured, and the results are shown in the table. Moreover, the average film thickness of the transparent film, the difference between the height (T 1 ) of the convex portion and the height (T 2 ) of the concave portion, antiglare property, adhesion, and pencil hardness were evaluated, and the results are shown in the table. .
[Example 9]
Preparation of paint for forming transparent film (A-9) Silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 120 nm, concentration 20.5 wt%, dispersion medium as low refractive index component : Isopropanol (particle refractive index: 1.20). Silica-based hollow fine particle dispersion sol in which 10 g of perfluorooctylethyltriethoxysilane (AY43-158E 100% manufactured by Toray Dow Corning) was mixed with 100 g of this sol, 10 g of ultrapure water was added, and the surface treatment was performed by stirring at 40 ° C. for 5 hours. (Solid content 19.3%) was obtained. The surface charge amount of the surface-treated silica-based hollow fine particle dispersed sol was measured and found to be 7.7 μeq / g. Titanium oxide particles (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd .: titanium microbeads, average particle diameter of 3 μm, particle refractive index of 2.40) were used as the high refractive index component. 20.5 g of this titanium oxide particle is put in 79.5 g of ethyl alcohol, and 2.52 g of γ-acryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-5103 SiO 2 component 81.2%) is added. After mixing, 10 g of ultrapure water was added and the mixture was stirred at 50 ° C. for 5 hours to obtain a surface-treated titanium oxide particle dispersion (solid content: 20.0 wt%). The surface charge amount of this surface-treated titanium oxide particle dispersion was measured and found to be 30.0 μeq / g. Surface-treated silica-based hollow fine particle dispersion 7.7 g, surface-treated titanium oxide particle dispersion 30 g, 24.3 g of hexaerythritol tripentaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA) as a hydrophobic matrix and a hydrophilic matrix As 2.7 g of 2-hydroxy-3acryloyloxypropyl methacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: light ester G-201P), dissolved in photoinitiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd., IPA), solid 0.35 g (concentration of 10% by weight) and 20.95 g of isopropanol, 8.0 g of methyl isobutyl ketone, and 6.0 g of propylene glycol monomethyl ether as a solvent were mixed thoroughly to form a transparent film-forming paint (A-9) Was prepared.

透明被膜付基材(9)の調製
実施例1において透明被膜形成用塗布液(A-9)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(9)を調製した。透明被膜の断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部に
シリカ系中空微粒子が厚さ約130nmの層をなしており、下部は酸化チタン粒子の存在が認められた。
Preparation of substrate with transparent film (9) A substrate with transparent film (9) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming a transparent film (A-9) was used. When the cross section of the transparent film was observed with a transmission electron microscope, silica-based hollow fine particles formed a layer having a thickness of about 130 nm on the upper part, and presence of titanium oxide particles was observed on the lower part.

得られた透明被膜付基材(9)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長550nmの光線の反射率
を測定し、結果を表に示す。また、透明被膜の平均膜厚、凸部の高さ(T)と凹部の高さ(T)との差、防眩性、密着性、鉛筆硬度を評価し、結果を表に示した。
[実施例10]
透明被膜形成用塗料(A-10)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノ−ル 粒子屈折率1.30)を用いた。このゾル100gにパーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン10g(東レダウコーニング製 AY43−158E 100%)を混合し超純水を10g添加し40℃で5時間攪拌して表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルを得た(固形分19.3%)。この表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルの表面電荷量を測定したところ8.3μeq/gであった。高屈折率成分としてシリカジルコニア粒子(触媒化成工業(株)製:シリカマイクロビードP−500K1.52C、平均粒子径3μm、粒子屈折率1.52)を用いた。エチルアルコール79.5gの中に、このシリカジルコニア粒子20.5gを入れ、γ-アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン2.52g(信越シリコ−ン(株)製:KBM−5103、SiO2成分81.2重量%)を混合し超純水を10g添加し50℃で5時間攪拌して表面処理をしたシリカジルコニア粒子分散液を得た(固形分20.0%)。この表面処理したシリカジルコニア粒子分散液の表面電荷量を測定したところ41.3μeq/gであった。表面処理したシリカ系中空微粒子分散液15.5gと表面処理したシリカジルコニア粒子分散液30g、疎水性マトリックスとしてヘキサエリスリトールトリペンタアクリレート(日本化薬(株):KAYARAD DPHA)24.3gと親水性マトリックスとして2−ヒドロキ−3アクリロイロキシプロピルメタクレート(共栄社化学(株)製:ライトエステルG−201P)2.7gに、光開始剤(チバスプシャリティ(株)製イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10重量%)0.35gおよび溶剤としてイソプロパノ−ル20.95g、メチルイソブチルケトン8.0g、プロピレングリコールモノメチルエーテル6.0gとを充分に混合して透明被膜形成用塗料(A-10)を調製した。
The total light transmittance, haze, and reflectance of light with a wavelength of 550 nm of the obtained substrate (9) with a transparent coating were measured, and the results are shown in the table. Moreover, the average film thickness of the transparent film, the difference between the height (T 1 ) of the convex portion and the height (T 2 ) of the concave portion, antiglare property, adhesion, and pencil hardness were evaluated, and the results are shown in the table. .
[Example 10]
Preparation of coating film for forming transparent film (A-10) Silica hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5 wt%, dispersion medium as low refractive index component : Isopropanol (particle refractive index: 1.30). Silica-based hollow fine particle dispersion sol in which 10 g of perfluorooctylethyltriethoxysilane (AY43-158E 100% manufactured by Toray Dow Corning) was mixed with 100 g of this sol, 10 g of ultrapure water was added, and the surface treatment was performed by stirring at 40 ° C. for 5 hours. (Solid content 19.3%) was obtained. The surface charge amount of this surface-treated silica-based hollow fine particle dispersed sol was measured and found to be 8.3 μeq / g. Silica zirconia particles (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd .: silica microbead P-500K1.52C, average particle diameter 3 μm, particle refractive index 1.52) were used as the high refractive index component. 20.5 g of the silica zirconia particles are put in 79.5 g of ethyl alcohol, and 2.52 g of γ-acryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicon Co., Ltd .: KBM-5103, SiO 2 component 81. 2 wt%), 10 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 5 hours to obtain a surface-treated silica zirconia particle dispersion (solid content: 20.0%). The surface charge amount of the surface-treated silica zirconia particle dispersion was measured and found to be 41.3 μeq / g. Surface-treated silica-based hollow fine particle dispersion 15.5 g, surface-treated silica zirconia particle dispersion 30 g, 24.3 g of hexaerythritol tripentaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA) as a hydrophobic matrix and hydrophilic matrix As 2.7 g of 2-hydroxy-3acryloyloxypropyl methacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: light ester G-201P), dissolved in photoinitiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd., IPA), solid (10% by weight concentration) 0.35 g and 20-95 g of isopropanol as a solvent, 8.0 g of methyl isobutyl ketone, and 6.0 g of propylene glycol monomethyl ether Was prepared.

透明被膜付基材(10)の調製
実施例1において透明被膜形成用塗布液(A-10)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(10)を調製した。透明被膜の断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部にシリカ系中空微粒子が厚さ約100nmの層をなしており、下部はシリカジルコニア粒子の存在が認められた。
Preparation of substrate with transparent coating (10) A substrate with transparent coating (10) was prepared in the same manner as in Example 1, except that the coating solution for forming a transparent coating (A-10) was used. When the cross section of the transparent film was observed with a transmission electron microscope, the silica-based hollow fine particles formed a layer having a thickness of about 100 nm on the top, and the presence of silica zirconia particles was observed on the bottom.

得られた透明被膜付基材(10)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長550nmの光線の反射率を測定し、結果を表に示す。また、透明被膜の平均膜厚、凸部の高さ(T)と凹部の高さ(T)との差、防眩性、密着性、鉛筆硬度を評価し、結果を表に示した。
[実施例11]
透明被膜付基材(11)の調製
実施例1と同様にして調製した透明被膜形成用塗料(A-1)をTACフィルム(厚さ80
μm、屈折率1.48、基材透過率88.0%、Haze0.1%、反射率4.8%)にバ−コ−タ−で塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照
射して硬化させて透明被膜付基材(11)を調製した。透明被膜の断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部にシリカ系中空微粒子が厚さ約100nmの層をなしており、下部は酸化チタン粒子の存在が認められた。
The total light transmittance, haze, and reflectance of light with a wavelength of 550 nm of the obtained substrate (10) with a transparent coating were measured, and the results are shown in the table. Moreover, the average film thickness of the transparent film, the difference between the height (T 1 ) of the convex portion and the height (T 2 ) of the concave portion, antiglare property, adhesion, and pencil hardness were evaluated, and the results are shown in the table. .
[Example 11]
Preparation of substrate (11) with transparent coating A transparent coating-forming coating material (A-1) prepared in the same manner as in Example 1 was applied to a TAC film (thickness 80
μm, refractive index 1.48, substrate transmittance 88.0%, Haze 0.1%, reflectivity 4.8%) with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then high pressure A substrate with a transparent coating (11) was prepared by curing by irradiation with a mercury lamp (80 W / cm) for 1 minute. When the cross section of the transparent film was observed with a transmission electron microscope, the silica-based hollow fine particles formed a layer having a thickness of about 100 nm on the upper part, and the presence of titanium oxide particles was observed on the lower part.

得られた透明被膜付基材(11)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長550nmの光線の反射率を測定し、結果を表に示す。また、透明被膜の平均膜厚、凸部の高さ(T)と凹部の高さ(T)との差、防眩性、密着性、鉛筆硬度を評価し、結果を表に示した。
[比較例1]
反射防止層形成用塗布液(AR1)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノ−ル 粒子屈折率1.30)を用いた。このゾル100gにパーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン10g(東レダウコーニング製:AY43−158E、100重量%)を混合し超純水を10g添加し40℃で5時間攪拌して表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルを得た(固形分19.3重量%)。この表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルの表面電荷量を測定したところ8.3μeq/gであった。
The total light transmittance, haze, and reflectance of light having a wavelength of 550 nm of the obtained substrate with transparent coating (11) were measured, and the results are shown in the table. Moreover, the average film thickness of the transparent film, the difference between the height (T 1 ) of the convex portion and the height (T 2 ) of the concave portion, antiglare property, adhesion, and pencil hardness were evaluated, and the results are shown in the table. .
[Comparative Example 1]
Preparation of coating solution (AR1) for forming an antireflection layer As a low refractive index component, silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5 wt%, dispersion medium : Isopropanol (particle refractive index: 1.30). Silica-based hollow surface-treated by mixing 10 g of perfluorooctylethyltriethoxysilane (manufactured by Toray Dow Corning: AY43-158E, 100 wt%) with 100 g of this sol, adding 10 g of ultrapure water, and stirring at 40 ° C. for 5 hours. A fine particle dispersed sol was obtained (solid content 19.3% by weight). The surface charge amount of this surface-treated silica-based hollow fine particle dispersed sol was measured and found to be 8.3 μeq / g.

表面処理したシリカ系中空微粒子分散液7.7gと疎水性マトリックスとしてヘキサエリスリトールトリペンタアクリレート(日本化薬(株):KAYARAD DPHA)24.3gに、
光開始剤(チバスプシャリティ(株)製イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10重量%)0.35gおよび溶剤としてイソプロパノ−ル419g、メチルイソブチルケトン160g、プロピレングリコールモノメチルエーテル120gとを充分に混合して反射防止層形成用塗布液(RR1)を調製した。
高屈折率層形成用塗布液(AG1)の調製
高屈折率成分として酸化チタン粒子(触媒化成工業(株)製:チタンマイクロビード、平均粒子径3μm、粒子屈折率2.40)を用いた。エチルアルコール79.5gの中に、この酸化チタン粒子20.5gを入れ、γ-アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン2.52g(信越シリコ−ン(株)製:KBM−5103、SiO2成分81.2重量%)を混合し超純水を10g添加し50℃で5時間攪拌して表面処理をした酸化チタン粒子分散液を得た(固形分20.0重量%)。この表面処理した酸化チタン粒子分散液の表面電荷量を測定したところ30.0μeq/gであった。表面処理した酸化チタン粒子分散液30g、疎水性マトリックスとしてヘキサエリスリトールトリペンタアクリレート(日本化薬(株):KAYARAD DPHA)24.3gと親水性マトリックスとして2−ヒドロキ−3アクリロイロキシプロピルメタクレート(共栄社化学(株)製:ライトエステルG−201P)2.7gに、光開始剤(チバスプシャリティ(株)製イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10重量%)0.35gおよび溶剤としてイソプロパノ−ル13.2g、メチルイソブチルケトン8.0g、プロピレングリコールモノメチルエーテル6.0gとを充分に混合して高屈折率層形成用塗布液(AG1)を調製した。
The surface-treated silica-based hollow fine particle dispersion 7.7 g and the hydrophobic matrix hexaerythritol tripentaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA) 24.3 g
0.35 g of photoinitiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd., dissolved in IPA, solid content concentration 10% by weight) and 419 g of isopropanol, 160 g of methyl isobutyl ketone, and 120 g of propylene glycol monomethyl ether as a solvent By mixing, an antireflection layer-forming coating solution (RR1) was prepared.
Preparation of coating solution (AG1) for forming a high refractive index layer Titanium oxide particles (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd .: titanium microbead, average particle diameter of 3 μm, particle refractive index of 2.40) were used as a high refractive index component. 20.5 g of this titanium oxide particle was put into 79.5 g of ethyl alcohol, and 2.52 g of γ-acryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicon Co., Ltd .: KBM-5103, SiO 2 component 81. 2 wt%) was added, 10 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 5 hours to obtain a surface-treated titanium oxide particle dispersion (solid content: 20.0 wt%). The surface charge amount of this surface-treated titanium oxide particle dispersion was measured and found to be 30.0 μeq / g. 30 g of the surface-treated titanium oxide particle dispersion, 24.3 g of hexaerythritol tripentaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA) as the hydrophobic matrix and 2-hydroxy-3acryloyloxypropyl methacrylate (as the hydrophilic matrix) 2.7 g of Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Ester G-201P) 0.35 g of photoinitiator (Irgacure 184, Ciba Specialty Co., Ltd., dissolved in IPA, solid content concentration 10 wt%) and isopropano as solvent -A coating solution (AG1) for forming a high refractive index layer was prepared by sufficiently mixing 13.2 g of methyl, 8.0 g of methyl isobutyl ketone, and 6.0 g of propylene glycol monomethyl ether.

透明被膜付基材(R1)の調製
高屈折率層形成用塗布液(AG1)をPETフィルム(厚さ100μm、屈折率1.65、
基材透過率88.0%、Haze1.0%、反射率5.1%)にバ−コ−タ−で塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて高屈折
率層を形成した。高屈折率層の平均膜厚は4.5μm、凸部の高さ(T)と凹部の高さ(T)との差は20nmであった。
ついで、高屈折率層上に反射防止層形成用塗布液(RR1)をバ−コ−タ−で塗布し、70℃
で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて反射防止層を
形成して透明被膜付基材(R1)を調製した。
Preparation of substrate with transparent film (R1) A coating solution (AG1) for forming a high refractive index layer was prepared from a PET film (thickness 100 μm, refractive index 1.65,
The substrate transmittance was 88.0%, the haze was 1.0%, and the reflectance was 5.1%. After coating with a bar coater and drying at 70 ° C. for 1 minute, a high pressure mercury lamp (80 W / cm) was applied. The high refractive index layer was formed by irradiating for a minute and curing. The average film thickness of the high refractive index layer was 4.5 μm, and the difference between the height of the protrusion (T 1 ) and the height of the recess (T 2 ) was 20 nm.
Next, a coating solution (RR1) for forming an antireflection layer was applied onto the high refractive index layer with a bar coater, and the temperature was 70 ° C.
After drying for 1 minute, a high pressure mercury lamp (80 W / cm) was irradiated for 1 minute to cure and form an antireflection layer to prepare a transparent coated substrate (R1).

得られた透明被膜付基材(R1)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長550nmの光線の反射率を測定し、結果を表に示す。また、透明被膜の平均膜厚、凸部の高さ(T)と凹部の高さ(T)との差、防眩性、密着性、鉛筆硬度を評価し、結果を表に示した。
[比較例2]
透明被膜形成用塗料(R2)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノ−ル 粒子屈折率1.30)を用いた。このゾル100gにビニルシラン5g(信越化学(株)製
KBE−1003、SiO2成分62.7重量%)を混合し超純水を10g添加し40℃で5時間攪拌し表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルを得た(固形分20.6重量%)。この表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルの表面電荷量を測定したところ3.3μeq/gであった。高屈折率成分として酸化チタン粒子(触媒化成工業(株)製:チタンマイクロビード、平均粒子径3μm、粒子屈折率2.40)を用いた。イソプロパノ−ル79.5gの中に、この酸化チタン粒子20.5gを入れ、ビニルシラン2.52g(信越化学(株)製:KBM−1003 SiO2成分62.7%)を混合し超純水を10g添加し40℃で5時間攪拌して表面処理をした酸化チタン粒子分散液を得た(固形分20.0%)。この表面処理した酸化チタン粒子分散液の表面電荷量を測定したところ4.0μeq/gであった。表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾル10.54gと表面処理した酸化チタン粒子分散液30g、ペンタエリスリトールトリアセテート(共栄社化学(株):PE-3A)24g、とジエチルアミノエチルメタクリレート(共栄社化学(株):ライトエステルDE)3gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)0.42gおよびイソプロパノ−ルとメチルイソブチルケトンの1/1(重量比)混合溶媒62.04gとを充分に混合して透明被膜形成用塗料(R2)を調製した。
透明被膜付基材(R2)の調製
透明被膜形成用塗料(R2)をPETフィルム(厚さ100μm、屈折率1.65、基材透過率88.0% Haze1.0% 反射率5.1%)にバ−コ−タ−で塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて透明被膜付基
材(R2)を調製した。透明被膜の一部を縦方向に垂直に切断し、断面を透過型電子顕微鏡に
よって観察したところ、シリカ系中空微粒子と、酸化チタン粒子が膜中で混在し単分散した形で存在していた。
得られた透明被膜付基材(R2)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長550nmの光線の反射率を測定し、結果を表に示す。また、透明被膜の平均膜厚、凸部の高さ(T)と凹部の高さ(T)との差、防眩性、密着性、鉛筆硬度を評価し、結果を表に示した。
[比較例3]
透明被膜形成用塗料(R3)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、表面電荷量30μeq/g、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノ−ル 粒子屈折率1.30)7.7gと、高屈折率成分として酸化チタン粒子(触媒化成工業(株)製:チタンマイクロビード、平均粒子径3μm、粒子屈折率2.40、表面電荷量105μeq/g)のメタノール分散液(固形分濃度20重量%)30g、疎水性マトリックスとしてヘキサエリスリトールトリペンタアクリレート(日本化薬(株):KAYARAD DPHA)24.3gと親水性マトリックスとして2−ヒドロキ−3アクリロイロキシプロピルメタクレート(共栄社化学(株)製:ライトエステルG−201P)2.7gに、光開始剤(チバスプシャリティ(株)製イルガキュア184、IPAで溶解、固形分濃度10%)0.35gおよび溶剤としてイソプロパノ−ル20.95g、メチルイソブチルケトン8.0g、プロピレングリコールモノメチルエーテル6.0gとを充分に混合して透明被膜形成用塗料(R3)を調製した。
透明被膜付基材(R3)の調製
実施例1において透明被膜形成用塗布液(R3)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R3)を調製した。透明被膜の断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、シリカ系中空微粒子と、酸化チタン粒子が凝集した形で存在していた。
The total light transmittance, haze, and reflectance of light having a wavelength of 550 nm of the obtained transparent film-coated substrate (R1) were measured, and the results are shown in the table. Moreover, the average film thickness of the transparent film, the difference between the height (T 1 ) of the convex portion and the height (T 2 ) of the concave portion, antiglare property, adhesion, and pencil hardness were evaluated, and the results are shown in the table. .
[Comparative Example 2]
Preparation of Transparent Film Forming Paint (R2) As a low refractive index component, silica-based hollow fine particle dispersed sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: Thruria 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5% by weight, dispersion medium: isopropano The particle refractive index 1.30) was used. Silica-based hollow fine particles prepared by mixing 5 g of vinyl silane (KBE-1003 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., 62.7% by weight of SiO 2 component) with 10 g of this sol, adding 10 g of ultrapure water, stirring the mixture at 40 ° C. for 5 hours, and then surface-treating. A dispersion sol was obtained (solid content 20.6% by weight). The surface charge amount of the surface-treated silica-based hollow fine particle dispersed sol was measured and found to be 3.3 μeq / g. Titanium oxide particles (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd .: titanium microbeads, average particle diameter of 3 μm, particle refractive index of 2.40) were used as the high refractive index component. 20.5 g of this titanium oxide particle is put in 79.5 g of isopropanol, 2.52 g of vinylsilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-1003 SiO2 component 62.7%) is mixed, and 10 g of ultrapure water is mixed. The titanium oxide particle dispersion was added and stirred for 5 hours at 40 ° C. to obtain a surface-treated titanium oxide particle dispersion (solid content: 20.0%). The surface charge amount of the surface-treated titanium oxide particle dispersion was measured and found to be 4.0 μeq / g. Surface treated silica-based hollow fine particle dispersion sol 10.54 g, surface treated titanium oxide particle dispersion 30 g, pentaerythritol triacetate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: PE-3A) 24 g, and diethylaminoethyl methacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.): 3 g of light ester DE) 0.42 g of photoinitiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd., dissolved in IPA, solid content concentration 10%) and 1/1 (weight ratio) mixing of isopropanol and methyl isobutyl ketone A transparent film-forming paint (R2) was prepared by thoroughly mixing 62.04 g of the solvent.
Preparation of substrate (R2) with a transparent coating A coating (R2) for forming a transparent coating was formed by using a PET film (thickness 100 μm, refractive index 1.65, substrate transmittance 88.0%, Haze 1.0%, reflectance 5.1%). ) Was coated with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then irradiated with a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) for 1 minute to cure, thereby preparing a substrate (R2) with a transparent coating. When a part of the transparent coating was cut perpendicularly in the longitudinal direction and the cross section was observed with a transmission electron microscope, silica-based hollow fine particles and titanium oxide particles were present in the film in a monodispersed form.
The total light transmittance, haze, and reflectance of light having a wavelength of 550 nm of the obtained substrate with transparent coating (R2) were measured, and the results are shown in the table. Moreover, the average film thickness of the transparent film, the difference between the height (T 1 ) of the convex portion and the height (T 2 ) of the concave portion, antiglare property, adhesion, and pencil hardness were evaluated, and the results are shown in the table. .
[Comparative Example 3]
Preparation of paint for forming transparent film (R3) Silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 60 nm, surface charge 30 μeq / g, concentration 20.5 as low refractive index component % By weight, dispersion medium: 7.7 g of isopropanol particle refractive index 1.30), titanium oxide particles (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd .: titanium microbead, average particle diameter 3 μm, particle refractive index as a high refractive index component) 2.40, methanol dispersion (solid content concentration 20% by weight) 30 g of surface charge 105 μeq / g), 24.3 g of hexaerythritol tripentaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA) as a hydrophobic matrix and hydrophilic 2-hydroxy-3acryloyloxypropyl methacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Ester G-201P) as a functional matrix 7 g, 0.35 g of a photoinitiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd., dissolved in IPA, solid content concentration 10%) and 20.95 g of isopropanol as a solvent, 8.0 g of methyl isobutyl ketone, propylene glycol monomethyl A transparent film-forming paint (R3) was prepared by thoroughly mixing 6.0 g of ether.
Preparation of transparent film-coated substrate (R3) A transparent film-coated substrate (R3) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the transparent film-forming coating solution (R3) was used. When the cross section of the transparent film was observed with a transmission electron microscope, the hollow silica fine particles and the titanium oxide particles were present in an aggregated form.

得られた透明被膜付基材(R3)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長550nmの光線の反射率を測定し、結果を表に示す。また、透明被膜の平均膜厚、凸部の高さ(T)と凹部の高さ(T)との差、防眩性、密着性、鉛筆硬度を評価し、結果を表に示した。 The total light transmittance, haze, and reflectance of light having a wavelength of 550 nm of the obtained transparent film-coated substrate (R3) were measured, and the results are shown in the table. Moreover, the average film thickness of the transparent film, the difference between the height (T 1 ) of the convex portion and the height (T 2 ) of the concave portion, antiglare property, adhesion, and pencil hardness were evaluated, and the results are shown in the table. .

Figure 2008163205
Figure 2008163205

本発明の透明被膜付基材の一態様例を模式的に示す。The example of 1 aspect of the base material with a transparent film of this invention is shown typically. 本発明の透明被膜付基材の別の一態様例を模式的に示す。The other example of 1 aspect of the base material with a transparent film of this invention is shown typically. 本発明の透明被膜付基材のさらに別の一態様例を模式的に示す。The further another example of 1 aspect of the base material with a transparent film of this invention is shown typically.

Claims (11)

マトリックス形成成分との親和性が互いに異なる低屈折率微粒子と高屈折率微粒子と、マトリックス形成成分と、重合開始剤と、溶媒とからなる透明被膜形成塗料であって、
低屈折率微粒子および高屈折率微粒子がともにシランカップリング剤で表面処理されてなり、表面処理された低屈折率微粒子(A)の屈折率(nA)が1.20〜1.45の範囲にあ
り、平均粒子径が5〜200nmの範囲にあり、表面電荷量(QA)が5〜80μeq/gの範囲にあり、
表面処理された高屈率微粒子(B)の屈折率(nB)が(nA)よりも高く、平均粒子径が0.5
〜5μmの範囲にあり、表面電荷量(QB)が25〜100μeq/gの範囲にあり、低屈折率微粒子(A)の濃度が固形分として0.1〜10重量%の範囲にあり、高屈折率微粒子(B)の濃度が固形分として0.1〜10重量%の範囲にあり、マトリックス形成成分の固形分としての濃度が1〜30重量%の範囲にあることを特徴とする透明被膜形成塗料。
A transparent film-forming paint comprising a low-refractive index fine particle and a high-refractive index fine particle having different affinity to the matrix-forming component, a matrix-forming component, a polymerization initiator, and a solvent,
Both low refractive index fine particles and high refractive index fine particles are surface treated with a silane coupling agent, and the refractive index (n A ) of the surface treated low refractive index fine particles ( A ) is in the range of 1.20 to 1.45. The average particle diameter is in the range of 5 to 200 nm, the surface charge (Q A ) is in the range of 5 to 80 μeq / g,
The refractive index (n B ) of the surface-treated high refractive index fine particles (B) is higher than (n A ), and the average particle size is 0.5
In the range of -5 μm, the surface charge (Q B ) is in the range of 25-100 μeq / g, and the concentration of the low refractive index fine particles (A) is in the range of 0.1-10 wt% as the solid content, Transparent, characterized in that the concentration of the high refractive index fine particles (B) is in the range of 0.1 to 10% by weight as the solid content, and the concentration of the matrix forming component as the solid content is in the range of 1 to 30% by weight. Film-forming paint.
前記低屈折率微粒子(A)の表面電荷量(QA)と前記高屈率微粒子(B)の表面電荷量(QB)との差(QB)−(QA)が20〜95μeq/gの範囲にあることを特徴とする請求項1に記載の透明被膜形成塗料。 The difference between the surface charge of the low-refractive index fine particles (A) (Q A) and the surface charge amount of the high屈率fine particles (B) (Q B) ( Q B) - (Q A) is 20~95Myueq / The transparent film-forming paint according to claim 1, which is in the range of g. 前記マトリックス形成成分が親水性マトリックス形成成分と疎水性マトリックス形成成分とからなり、親水性マトリックス形成成分の固形分としての濃度(CMA)と疎水性マトリ
ックス形成成分の固形分としての濃度(CMB)との濃度比(CMA)/(CMB)が0.01〜1の範
囲にあることを特徴とする請求項1または2に記載の透明被膜形成塗料。
The matrix-forming component comprises a hydrophilic matrix-forming component and a hydrophobic matrix-forming component, and the concentration of the hydrophilic matrix-forming component as a solid content (C MA ) and the concentration of the hydrophobic matrix-forming component as a solid content (C MB The transparent film-forming paint according to claim 1 or 2, wherein the concentration ratio (C MA ) / (C MB ) is in the range of 0.01 to 1.
前記親水性マトリックス形成成分が、下記式(1)で表される有機珪素化合物またはこれ
らの加水分解物、加水分解重縮合物および/または親水性官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂であり、
SiX4 (1)
(但し、式中、Xは炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素を示す。)
前記疎水性マトリックス形成成分が、下記式(2)で表される有機珪素化合物またはこれ
らの加水分解物、加水分解重縮合物および/または疎水性官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂であることを特徴とする請求項3に記載の透明被膜形成用塗料。Rn−SiX4-n (2)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、n:1〜3の整数)
The hydrophilic matrix-forming component is an organosilicon compound represented by the following formula (1) or a hydrolyzate thereof, a hydrolyzed polycondensate and / or a polyfunctional (meth) acrylate resin having a hydrophilic functional group And
SiX 4 (1)
(However, in the formula, X represents an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a silanol group, halogen, or hydrogen.)
Polyfunctional (meth) acrylic ester resin in which the hydrophobic matrix forming component has an organosilicon compound represented by the following formula (2) or a hydrolyzate, hydrolyzed polycondensate and / or a hydrophobic functional group thereof The paint for forming a transparent film according to claim 3, wherein R n -SiX 4-n (2 )
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a silanol group) , Halogen, hydrogen, n: an integer of 1 to 3)
前記親水性官能基が水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基、グリシジル基から選ばれる1種以上であり、前記疎水性官能基が、(メタ)アクリロイル基、アルキル基、
フェニル基、ウレタン基、CF2基から選ばれる1種以上であることを特徴とする請求項
3または4に記載の透明被膜形成用塗料。
The hydrophilic functional group is one or more selected from a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a sulfo group, and a glycidyl group, and the hydrophobic functional group is a (meth) acryloyl group, an alkyl group,
Phenyl group, a urethane group, transparent film-forming coating material according to claim 3 or 4, wherein the at least one selected from CF 2 group.
前記溶媒が50〜100℃に沸点有する溶媒(A)と、100℃を越えて〜200℃に沸
点を有する溶媒(B)との混合溶媒であり、混合溶媒中の溶媒(A)の割合が50〜90重量%の範囲にあり、溶媒(B)の割合が10〜50重量%の範囲にあることを特徴とする請求項
1〜5のいずれかに記載の透明被膜形成用塗料。
The solvent is a mixed solvent of a solvent (A) having a boiling point of 50 to 100 ° C. and a solvent (B) having a boiling point of more than 100 ° C. and to 200 ° C., and the ratio of the solvent (A) in the mixed solvent is The paint for forming a transparent film according to any one of claims 1 to 5, wherein the paint is in the range of 50 to 90% by weight and the ratio of the solvent (B) is in the range of 10 to 50% by weight.
基材上に、表面に凹凸を有する透明被膜が形成された透明被膜付基材であって、透明被膜が表面処理された低屈折率微粒子(A)と表面処理された高屈率微粒子(B)とマトリックス成分とからなり、表面処理した低屈折率微粒子(A)が透明被膜の上部に層をなして偏在し
、表面処理した高屈率微粒子(B) が透明被膜の下部に偏在し、透明被膜の平均膜厚が1〜10μmの範囲にあり、
透明被膜の凸部の平均高さ(T)と凹部の平均高さ(T)との差(T)−(T)が30〜1500nmの範囲にあることを特徴とする透明被膜付基材。
A substrate with a transparent coating, on which a transparent coating having irregularities on the surface is formed, a low refractive index fine particle (A) whose surface is treated with a transparent coating and a high refractive index fine particle (B ) And a matrix component, the surface-treated low refractive index fine particles (A) are unevenly distributed in the upper part of the transparent film, and the surface-treated high refractive index fine particles (B) are unevenly distributed in the lower part of the transparent film, The average film thickness of the transparent coating is in the range of 1 to 10 μm,
The difference in the average height of the projections of the transparent film and (T convex) average height of the recess and (T concave) (T convex) - transparent film (T concave) is characterized in that in the range of 30~1500nm Attached base material.
透明被膜中の表面処理した低屈折率微粒子(A)の屈折率(nA)が1.20〜1.45の範囲にあり、平均粒子径が5〜200nmの範囲にあり、表面処理した高屈率微粒子(B)の
屈折率(nB)が(nA)よりも高く、平均粒子径が0.5〜5μmの範囲にあり、表面処理した低屈折率微粒子(A)の含有量が固形分として1〜30重量%の範囲にあり、表面処理し
た高屈折率微粒子(B)の含有量が固形分として5〜70重量%の範囲にあることを特徴と
する請求項7に記載の透明被膜付基材。
The surface-treated low refractive index fine particles (A) in the transparent film have a refractive index (n A ) in the range of 1.20 to 1.45, an average particle diameter in the range of 5 to 200 nm, and the surface treated high the refractive index of屈率particles (B) (n B) is higher than (n a), the range of average particle diameter of 0.5 to 5 [mu] m, the content of low refractive index particles (a) obtained by surface treatment The solid content is in the range of 1 to 30% by weight, and the content of the surface-treated high refractive index fine particles (B) is in the range of 5 to 70% by weight as the solid content. A substrate with a transparent coating.
前記マトリックス成分が親水性マトリックス成分と疎水性マトリックス成分とからなり、親水性マトリックス成分の固形分としての含有量(WMA)と疎水性マトリックス成分の固形分としての含有量(WMB)との濃度比(WMA)/(WMB)が0.01〜1の範囲にあることを特徴とする請求項7または8に記載の透明被膜付基材。 The matrix component is composed of a hydrophilic matrix component and a hydrophobic matrix component. The content of the hydrophilic matrix component as a solid (W MA ) and the content of the hydrophobic matrix component as a solid (W MB ) The substrate with a transparent coating according to claim 7 or 8, wherein the concentration ratio (W MA ) / (W MB ) is in the range of 0.01 to 1. 前記親水性マトリックス成分が、下記式(1)で表される有機珪素化合物の加水分解重縮
合物および/または親水性官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂であり、
SiX4 (3)
(但し、式中、Xは炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素)
前記疎水性マトリックス成分が、下記式(4)で表される有機珪素化合物の加水分解重
縮合物および/または疎水性官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂であることを特徴とする請求項7〜9のいずれかに記載の透明被膜付基材。
n-SiX4-n (4)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、n:1〜3の整数)
The hydrophilic matrix component is a polyfunctional (meth) acrylate resin having a hydrolytic polycondensate of an organosilicon compound represented by the following formula (1) and / or a hydrophilic functional group,
SiX 4 (3)
(Where X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, silanol group, halogen, hydrogen)
The hydrophobic matrix component is a polyfunctional (meth) acrylic ester resin having a hydrolytic polycondensate of an organosilicon compound represented by the following formula (4) and / or a hydrophobic functional group. The base material with a transparent film in any one of Claims 7-9.
R n -SiX 4-n (4)
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a silanol group) , Halogen, hydrogen, n: an integer of 1 to 3)
前記親水性官能基が水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基、グリシジル基から選ばれる1種以上であり、前記疎水性官能基が、(メタ)アクリロイル基、アルキル基、
フェニル基、ウレタン基、CF2基から選ばれる1種以上であることを特徴とする請求項
7〜10のいずれかに記載の透明被膜付基材。
The hydrophilic functional group is one or more selected from a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a sulfo group, and a glycidyl group, and the hydrophobic functional group is a (meth) acryloyl group, an alkyl group,
Phenyl group, a urethane group, with a transparent film substrate according to any one of claims 7 to 10, characterized in that at least one selected from CF 2 group.
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