JP2009034808A - 研磨パッド - Google Patents
研磨パッド Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009034808A JP2009034808A JP2008121407A JP2008121407A JP2009034808A JP 2009034808 A JP2009034808 A JP 2009034808A JP 2008121407 A JP2008121407 A JP 2008121407A JP 2008121407 A JP2008121407 A JP 2008121407A JP 2009034808 A JP2009034808 A JP 2009034808A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- polyurethane foam
- weight
- polishing pad
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
【解決手段】 基材層上に研磨層が設けられている研磨パッドにおいて、前記研磨層は、略球状の連続気泡を有する熱硬化性ポリウレタン発泡体からなり、かつ前記基材層に自己接着しており、前記熱硬化性ポリウレタン発泡体は、重量平均分子量1000以下の成分を10重量%以下かつ重量平均分子量9000以上の成分を30重量%以下の割合で含むシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とする研磨パッド。
【選択図】 図1
Description
(シリコン系界面活性剤に含まれる重量平均分子量1000以下の成分、及び重量平均分子量9000以上の成分の割合の測定)
GPC(ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィ)にて各成分の重量平均分子量を測定し、標準ポリプロピレングリコールにより換算した。得られた結果から重量平均分子量1000以下の成分、及び重量平均分子量9000以上の成分の割合を算出した。
GPC装置:島津製作所製、LC−10A
カラム:Polymer Laboratories社製、(PLgel、5μm、500Å)、(PLgel、5μm、100Å)、及び(PLgel、5μm、50Å)の3つのカラムを連結して使用
流量:1.0ml/min
濃度:1.0g/l
注入量:40μl
カラム温度:40℃
溶離液:テトラヒドロフラン
アルキルシロキサンとポリエーテルアルキルシロキサンの共重合体であるシリコン系界面活性剤のアルキルシロキサンとポリエーテルアルキルシロキサンのモル比はNMRにより測定した。測定装置としてFT−NMR DPX400S(BURKER社製)を使用し、シリコン系界面活性剤を重クロロホルムに溶かした2重量%溶液をサンプルとした。測定条件は、積算回数64回、パルス角度30°、パルス待ち時間1.0秒とした。アルキルシロキサンとポリエーテルアルキルシロキサンのモル比は、次式にて算出される。
アルキルシロキサン:ポリエーテルアルキルシロキサン={〔P3−3(P5/2)〕/6}:(P5/2)
ここで、P3、P5は下記構造式における次のHに帰属する。
P3:CH3−Si−CH3基、及びCH3−Si−X基におけるSi−CH3基のH(0ppm付近)の積分値
P5:Si−X基におけるSi−CH2−基のH(0.45ppm付近)の積分値
アルキルシロキサンとポリエーテルアルキルシロキサンの共重合体であるシリコン系界面活性剤のポリエーテル基中のエチレンオキサイド(EO)とプロピレンオキサイド(PO)のモル比(EO/PO)はNMRにより測定した。測定装置としてFT−NMR DPX400S(BURKER社製)を使用し、シリコン系界面活性剤を重クロロホルムに溶かした2重量%溶液をサンプルとした。測定条件は、積算回数64回、パルス角度30°、パルス待ち時間1.0秒とした。EO/POは、次式にて算出される。
EO/PO=〔(P1−P2−P5)/4〕/(P2/3)
ここで、P1、P2、P5は下記構造式における次のHに帰属する。
P1:−OCH2−基、及び−OCH−基のH(3.0〜4.0ppm)の積分値
P2:C−CH3基のH(1.1ppm付近)の積分値
P5:Si−X基におけるSi−CH2−基のH(0.45ppm付近)の積分値
作製したポリウレタン発泡体を厚み1mm以下になるべく薄くカミソリ刃で平行に切り出したものをサンプルとした。サンプルをスライドガラス上に固定し、SEM(S−3500N、日立サイエンスシステムズ(株))を用いて100倍で観察した。得られた画像を画像解析ソフト(WinRoof、三谷商事(株))を用いて、任意範囲の全気泡径を測定し、平均気泡径を算出した。ただし、楕円球状の気泡の場合は、その面積を円の面積に換算し、円相当径を気泡径とした。
JIS Z8807−1976に準拠して行った。作製したポリウレタン発泡体を4cm×8.5cmの短冊状(厚み:任意)に切り出したものをサンプルとし、温度23℃±2℃、湿度50%±5%の環境で16時間静置した。測定には比重計(ザルトリウス社製)を用い、比重を測定した。
JIS K−7312に準拠して行った。作製したポリウレタン発泡体を5cm×5cm(厚み:任意)の大きさに切り出したものをサンプルとし、温度23℃±2℃、湿度50%±5%の環境で16時間静置した。測定時には、サンプルを重ね合わせ、厚み10mm以上とした。硬度計(高分子計器社製、アスカーC型硬度計、加圧面高さ:3mm)を用い、加圧面を接触させてから60秒後の硬度を測定した。
作製した研磨パッドを150mm×25mmの大きさに切り出してサンプルを得た。そして、接着面積が50mm×25mmになるように基材層から研磨層を剥離した。その後、サンプルを温度23±2℃、湿度50±5%の環境下で16時間静置した。その後、インストロン4301型試験機(インストロンジャパン社製)を用い、剥離速度50mm/min及び剥離角度180°の条件で基材層から研磨層を剥離し、そのときの接着強度(N/25mm)を測定した。
また、研磨装置としてSPP600S(岡本工作機械社製)を用い、作製した研磨パッドでガラス板を所定枚数(100枚、300枚、500枚)研磨し、その後前記と同様の方法で接着強度(N/25mm)を測定した。測定結果を表1に示す。なお、研磨条件は以下の通りである。
ガラス板:6インチφ、厚さ1.1mm(光学ガラス、BK7)
スラリー:セリアスラリー(昭和電工GPL C1010)
スラリー量:100ml/min
研磨加工圧力:10kPa
研磨定盤回転数:55rpm
ガラス板回転数:50rpm
研磨時間:10min/枚
本発明においては、ガラス板を500枚研磨した後の接着強度が10(N/25mm)以上であることが好ましい。
容器に、数平均分子量650のポリテトラメチレンエーテルグリコール(三菱化学製、水酸基価:173mgKOH/g)20重量部、PCL205(ダイセル化学(株)製、ポリエステルポリオール、水酸基価:208mgKOH/g)38重量部、PCL305(ダイセル化学(株)製、ポリエステルポリオール、水酸基価:305mgKOH/g)40重量部、トリメチロールプロパン(水酸基価:1255mgKOH/g)2重量部、シリコン系界面活性剤(Goldschmidt社製、B−8465)6重量部、及び触媒(No.25、花王製)0.07重量部を入れて混合した。そして、撹拌翼を用いて、回転数900rpmで反応系内に気泡を取り込むように約4分間激しく撹拌を行った。その後、ミリオネートMTL(日本ポリウレタン工業製)72重量部を添加し、約1分間撹拌して気泡分散ウレタン組成物を調製した。
2:研磨定盤
3:研磨剤(スラリー)
4:研磨対象物(半導体ウエハ、レンズ、ガラス板)
5:支持台(ポリシングヘッド)
6、7:回転軸
Claims (7)
- 基材層上に研磨層が設けられている研磨パッドにおいて、前記研磨層は、略球状の連続気泡を有する熱硬化性ポリウレタン発泡体からなり、かつ前記基材層に自己接着しており、前記熱硬化性ポリウレタン発泡体は、重量平均分子量1000以下の成分を10重量%以下かつ重量平均分子量9000以上の成分を30重量%以下の割合で含むシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とする研磨パッド。
- シリコン系界面活性剤は、ポリアルキルシロキサン、又はアルキルシロキサンとポリエーテルアルキルシロキサンの共重合体である請求項1記載の研磨パッド。
- シリコン系界面活性剤は、アルキルシロキサンとポリエーテルアルキルシロキサンの共重合体であり、該共重合体中のポリエーテルアルキルシロキサンのモル%が20モル%以下である請求項1記載の研磨パッド。
- ポリエーテルアルキルシロキサンのポリエーテル基中のエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドのモル比が85/15〜50/50(前者/後者)である請求項2又は3記載の研磨パッド。
- 熱硬化性ポリウレタン発泡体は、シリコン系界面活性剤を0.1〜10重量%含有する請求項1〜4のいずれかに記載の研磨パッド。
- 熱硬化性ポリウレタン発泡体は、平均気泡径が35〜300μmである請求項1〜5のいずれかに記載の研磨パッド。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の研磨パッドを用いて半導体ウエハの表面を研磨する工程を含む半導体デバイスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008121407A JP5184200B2 (ja) | 2007-07-06 | 2008-05-07 | 研磨パッド |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007178812 | 2007-07-06 | ||
JP2007178812 | 2007-07-06 | ||
JP2008121407A JP5184200B2 (ja) | 2007-07-06 | 2008-05-07 | 研磨パッド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009034808A true JP2009034808A (ja) | 2009-02-19 |
JP5184200B2 JP5184200B2 (ja) | 2013-04-17 |
Family
ID=40437200
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008121407A Active JP5184200B2 (ja) | 2007-07-06 | 2008-05-07 | 研磨パッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5184200B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015059199A (ja) * | 2013-09-20 | 2015-03-30 | Dic株式会社 | ウレタン組成物及び研磨材 |
CN113814886A (zh) * | 2020-06-19 | 2021-12-21 | Skc索密思株式会社 | 研磨片、其制造方法以及利用其的半导体器件的制造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04502783A (ja) * | 1989-11-14 | 1992-05-21 | ユニオン・カーバイド・ケミカルズ・アンド・プラスチツクス・カンパニー・インコーポレーテツド | 柔軟性ポリウレタンフオームの製造方法 |
JPH10265540A (ja) * | 1997-03-26 | 1998-10-06 | Nippon Polyurethane Ind Co Ltd | 硬質ポリウレタンフォーム用組成物、及び該組成物を用いた硬質ポリウレタンフォームの製造方法 |
JP2004043768A (ja) * | 2001-12-07 | 2004-02-12 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | 研磨パッド |
JP2004209580A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Zenjiro Koyaizu | ポリ尿素弾性研削材及びその製造方法 |
JP2005120253A (ja) * | 2003-10-17 | 2005-05-12 | Toray Ind Inc | 発泡ポリウレタンおよびその製造方法 |
JP2006303432A (ja) * | 2005-03-22 | 2006-11-02 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | 研磨パッド及びその製造方法 |
JP2007061929A (ja) * | 2005-08-30 | 2007-03-15 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | 積層研磨パッドの製造方法 |
-
2008
- 2008-05-07 JP JP2008121407A patent/JP5184200B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04502783A (ja) * | 1989-11-14 | 1992-05-21 | ユニオン・カーバイド・ケミカルズ・アンド・プラスチツクス・カンパニー・インコーポレーテツド | 柔軟性ポリウレタンフオームの製造方法 |
JPH10265540A (ja) * | 1997-03-26 | 1998-10-06 | Nippon Polyurethane Ind Co Ltd | 硬質ポリウレタンフォーム用組成物、及び該組成物を用いた硬質ポリウレタンフォームの製造方法 |
JP2004043768A (ja) * | 2001-12-07 | 2004-02-12 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | 研磨パッド |
JP2004209580A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Zenjiro Koyaizu | ポリ尿素弾性研削材及びその製造方法 |
JP2005120253A (ja) * | 2003-10-17 | 2005-05-12 | Toray Ind Inc | 発泡ポリウレタンおよびその製造方法 |
JP2006303432A (ja) * | 2005-03-22 | 2006-11-02 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | 研磨パッド及びその製造方法 |
JP2007061929A (ja) * | 2005-08-30 | 2007-03-15 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | 積層研磨パッドの製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015059199A (ja) * | 2013-09-20 | 2015-03-30 | Dic株式会社 | ウレタン組成物及び研磨材 |
CN113814886A (zh) * | 2020-06-19 | 2021-12-21 | Skc索密思株式会社 | 研磨片、其制造方法以及利用其的半导体器件的制造方法 |
CN113814886B (zh) * | 2020-06-19 | 2023-12-15 | Sk恩普士有限公司 | 研磨片、其制造方法以及利用其的半导体器件的制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5184200B2 (ja) | 2013-04-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5393434B2 (ja) | 研磨パッド及びその製造方法 | |
JP5248152B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP4593643B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP4261586B2 (ja) | 研磨パッドの製造方法 | |
JP2008290244A (ja) | 研磨パッド | |
JP4986129B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP2009241224A (ja) | 研磨パッド作製用積層シート | |
JP5306677B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP5528169B2 (ja) | 研磨パッドおよびその製造方法、ならびに半導体デバイスの製造方法 | |
JP5230227B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP5377909B2 (ja) | 研磨パッド及びその製造方法 | |
WO2011122386A1 (ja) | 研磨パッドおよびその製造方法、ならびに半導体デバイスの製造方法 | |
JP5393040B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP4237800B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP4465376B2 (ja) | 研磨パッドの製造方法 | |
JP4775897B2 (ja) | 積層シートの製造方法及び積層シート | |
JP5242427B2 (ja) | 研磨パッド及びその製造方法 | |
JP5184200B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP2009214220A (ja) | 研磨パッド | |
JP5132369B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP2011235426A (ja) | 研磨パッド | |
JP4465368B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP4970963B2 (ja) | 研磨パッドの製造方法 | |
JP5105461B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP5738729B2 (ja) | 研磨パッド |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100312 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120315 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120328 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120523 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121019 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130108 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130116 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5184200 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160125 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D02 |