JP2009032956A - 半導体装置、およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ビアの径を調節するスペーサ膜と、ビア間絶縁膜上に形成されたエッチングストッパ膜を有し、スペーサ膜とエッチングストッパ膜の界面におけるリーク電流の発生を抑えた半導体装置、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施の形態による半導体装置は、表面に半導体素子を有する半導体基板と、前記半導体基板上に形成された配線と、前記配線の下側に接続されるビアと、前記ビアと同じ層に形成された第1の絶縁膜と、前記第1の絶縁膜と前記配線との間、および前記第1の絶縁膜と前記ビアとの間に一体に形成された第2の絶縁膜と、を有する。
【選択図】図1
【解決手段】本発明の実施の形態による半導体装置は、表面に半導体素子を有する半導体基板と、前記半導体基板上に形成された配線と、前記配線の下側に接続されるビアと、前記ビアと同じ層に形成された第1の絶縁膜と、前記第1の絶縁膜と前記配線との間、および前記第1の絶縁膜と前記ビアとの間に一体に形成された第2の絶縁膜と、を有する。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体装置、およびその製造方法に関する。
半導体装置の配線構造において、ダマシン配線を形成するための配線溝の深さを揃え、且つ下層のビア間絶縁膜を保護するためにエッチングストッパ膜が一般に用いられている。また、一方で上下配線を接続するビアの径を縮小するために、ビア溝の内側壁にスペーサ膜が形成されることがある(例えば、特許文献1参照)。
特許文献1に記載の技術によれば、エッチングストッパ膜とスペーサ膜がともに形成され、それぞれの役割を果たす。しかし、ビア間絶縁膜上のエッチングストッパ膜とビア溝の内側壁のスペーサ膜が別工程で形成されるため、これらの界面においてリーク電流が発生するおそれがある。これは、界面に多く存在する欠陥に電子がトラップされる等の原因による。
一方、コンタクト内壁と、コンタクトと隣接する層間絶縁膜の上に一体にスペーサ膜を形成する技術がある(例えば、特許文献2参照)。しかし、特許文献2に記載の技術によれば、スペーサ膜はコンタクトとゲートとの間の短絡を防止することを目的として形成されるものであり、上下配線を接続するビアの径を縮小する目的に用いることができない。また、スペーサ膜はストッパ膜として用いることを目的としていない。
特開平9−167795号公報
特開平11−274099号公報
本発明の目的は、ビアの径を調節するスペーサ膜と、ビア間絶縁膜上に形成されたエッチングストッパ膜を有し、スペーサ膜とエッチングストッパ膜の界面におけるリーク電流の発生を抑えた半導体装置、およびその製造方法を提供することにある。
本発明の一態様は、表面に半導体素子を有する半導体基板と、前記半導体基板上に形成された配線と、前記配線の下側に接続されるビアと、前記ビアと同じ層に形成された第1の絶縁膜と、前記第1の絶縁膜と前記配線との間、および前記第1の絶縁膜と前記ビアとの間に一体に形成された第2の絶縁膜と、を有することを特徴とする半導体装置を提供する。
また、本発明の他の態様は、表面に半導体素子が形成された半導体基板上に第1の絶縁膜を形成する工程と、前記第1の絶縁膜中にビアホールを形成する工程と、前記第1の絶縁膜上、および前記ビアホールの内面に第2の絶縁膜を形成する工程と、前記ビアホールの底面に形成された前記第2の絶縁膜の少なくとも一部を除去する工程と、前記ビアホールの底面に形成された前記第2の絶縁膜の少なくとも一部を除去した後、前記ビアホールにビアを形成する工程と、前記ビアを形成した後、前記第2の絶縁膜および前記ビア上に第3の絶縁膜を形成する工程と、前記第3の絶縁膜を加工して、前記第3の絶縁膜中に配線溝を形成する工程と、前記配線溝中に配線を形成する工程と、を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法を提供する。
本発明によれば、ビアの径を調節するスペーサ膜と、ビア間絶縁膜上に形成されたエッチングストッパ膜を有し、スペーサ膜とエッチングストッパ膜の界面におけるリーク電流の発生を抑えた半導体装置、およびその製造方法を提供することができる。
〔実施の形態〕
(半導体装置の構成)
図1は、本発明の実施の形態に係る半導体装置の断面図である。
(半導体装置の構成)
図1は、本発明の実施の形態に係る半導体装置の断面図である。
半導体装置1は、表面に半導体素子を有する半導体基板(図示しない)と、半導体基板上に積層された多層配線構造を有する。図1は、この多層配線構造の一部を示す断面図である。
半導体装置1は、第1の配線3と、第1の配線3と同じ層に形成された第1の配線間絶縁膜2と、第1の配線3の上層に形成された第2の配線8と、第2の配線8と同じ層に形成された第2の配線間絶縁膜7と、第1の配線3と第2の配線8を電気的に接続するビア6と、ビア6と同じ層に形成されたビア間絶縁膜4と、ビア間絶縁膜4と第1の配線3との間、およびビア間絶縁膜4とビア6との間に一体に形成された絶縁膜5と、を有する。なお、第1および第2の配線3、8、およびビア6等の配置は図1に示したものに限られない。
第1および第2の配線3、8は、例えば、Cu等の導電性材料からなる。なお、第1および第2の配線3、8は、内部の金属の拡散を防ぐバリアメタルを表面に有する構造であってもよい。バリアメタルは、例えば、Ta、Ti、W、Ru、Co等の金属あるいはこれらの金属の化合物からなる。
ビア6は、例えば、W、Cu等の導電性材料からなる。なお、ビア6は、第1および第2の配線3、8と同様に、内部の金属の拡散を防ぐバリアメタルを表面に有する構造であってもよい。
ビア間絶縁膜4は、例えば、200nm程度の厚さを有する絶縁材料からなる。この絶縁材料としては、例えば、SiO2や、これにCを添加したSiOC、Nを添加したSiON、Fを添加したSiOF、B、Pを添加したBPSG、等のSi酸化物を用いることができる。
第1および第2の配線間絶縁膜2、7は、ビア間絶縁膜4と同様の材料を用いることができる。また、SiOCH、ポリメチルシロキサン、ポリアリーレン、ベンゾオキサゾール等の有機絶縁材料を用いてもよい。また、第1および第2の配線間絶縁膜2、7は、例えば、100nm程度の厚さを有する。
絶縁膜5は、SiN、SiC、SiOC、SiCN等の絶縁材料からなり、例えば、20nm程度の厚さを有する。また、絶縁膜5は、第2の配線間絶縁膜7のエッチング加工時に、エッチングストッパとして働くため、第2の配線間絶縁膜7とのエッチング選択比が高い材料であることが好ましい。また、絶縁膜5は、ビア6を埋め込むビア溝の内側壁にも形成され、その厚さを調節することにより、ビア6の径を制御するスペーサとしての機能を有する。
(半導体装置の製造方法)
図2A(a)〜(d)、図2B(e)〜(h)は、本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造方法を示す断面図である。
図2A(a)〜(d)、図2B(e)〜(h)は、本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造方法を示す断面図である。
まず、図2A(a)に示すように、図示しない半導体基板上に第1の配線3、配線間絶縁膜4aを形成し、その上に、例えば、CVD(Chemical Vapor Deposition)法もしくはPVD(Physical Vapor Deposition)法によりビア間絶縁膜4を堆積する。
次に、図2A(b)に示すように、例えば、フォトリソグラフィ法とRIE(Reactive Ion Etching)法により、ビア間絶縁膜4を加工し、ビア間絶縁膜4中にビア溝9を形成する。
次に、図2A(c)に示すように、例えば、CVD法もしくはPVD法により、ビア間絶縁膜4上、およびビア溝9の内面に絶縁膜5を形成する。ここで、絶縁膜5の厚さを調節することにより、ビア溝9の内径を任意に変更することがでる。これにより、後の工程において形成されるビア6の径を制御することができる。
次に、図2A(d)に示すように、絶縁膜5のビア溝9の底に位置する領域を選択的に除去し、第1の配線3の上面を露出させる。以下に、絶縁膜5のビア溝9の底に位置する部分を選択的に除去する方法の具体例を挙げる。
1つの方法として、以下のようなものがある。まず、図2A(c)に示したビア間絶縁膜4上、およびビア溝9の内面に絶縁膜5を形成する工程において、熱CVD法等を用いて、被覆性の良い条件で絶縁膜5を形成する。これにより、絶縁膜5のビア溝9の底に形成された部分と、ビア間絶縁膜4上に形成された部分の厚さはほぼ等しくなる。ここで、絶縁膜5にAr等を用いたスパッタエッチングを施すと、ビア間絶縁膜4上では、Arにより削られた塵状の絶縁膜5が再び降り積もるため、絶縁膜5の厚さはあまり変化しない。一方、ビア溝9の底では、Arにより削られた塵状の絶縁膜5が、ビア溝9の内壁等に付着してほとんど戻ってこないため、絶縁膜5の厚さが薄くなり易い。これにより、絶縁膜5のビア溝9の底に位置する部分を選択的に除去することができる。
また、他の方法として、以下のようなものがある。まず、図2A(c)に示したビア間絶縁膜4上、およびビア溝9の内面に絶縁膜5を形成する工程において、熱CVD法等を用いて、被覆性の良い条件で絶縁膜5を形成する。これにより、絶縁膜5のビア溝9の底に形成された部分と、ビア間絶縁膜4上に形成された部分の厚さはほぼ等しくなる。次に、CHF3ガス等の絶縁膜5をエッチングするガスと、COガス等の絶縁膜5を堆積させるガスを混合したガスを用いて、絶縁膜5にプラズマエッチングを施す。このとき、ビア溝9の底とビア間絶縁膜4上では、プラズマ中の上記2種のガスの混合比が異なる。具体的には、ビア溝9の底では、ビア間絶縁膜4上と比較して、絶縁膜5をエッチングするガスの比率が大きくなる。これにより、絶縁膜5のビア溝9の底に位置する部分を選択的に除去することができる。
また、他の方法として、以下のようなものがある。まず、図2A(c)に示したビア間絶縁膜4上、およびビア溝9の内面に絶縁膜5を形成する工程において、プラズマCVD法等を用いて、敢えて被覆性の悪い条件で絶縁膜5を形成する。これにより、絶縁膜5のビア溝9の底に形成された部分の厚さは、ビア間絶縁膜4上に形成された部分の厚さと比較して薄くなる。そのため、絶縁膜5にRIE等によるエッチングを施すと、ビア溝9の底に形成された部分が初めに完全に除去される。その時点でエッチングを止めれば、絶縁膜5のビア溝9の底に位置する部分を選択的に除去することができる。
また、他の方法として、以下のようなものがある。フォトリソグラフィ法によりビア溝9の外の絶縁膜5上にエッチングマスクを形成し、RIE法により絶縁膜5のビア溝9の底に位置する部分を除去する。
次に、図2B(e)に示すように、ビア溝9内にビア6を形成する。ビア6は、例えば、以下のような方法で形成される。
まず、ビア溝9内を埋めるようにビア6の材料膜を堆積させる。次に、ビア間絶縁膜4上の絶縁膜5をストッパとして、この材料膜にCMP(Chemical Mechanical Polishing)等の平坦化処理を施す。これにより、図2B(e)に示すようなビア6が形成される。
次に、図2B(f)に示すように、例えば、CVD法もしくはPVD法により、絶縁膜5、およびビア6上に第2の配線間絶縁膜7を形成する。
次に、図2B(g)に示すように、例えば、フォトリソグラフィ法とRIE法により、第2の配線間絶縁膜7を加工し、第2の配線間絶縁膜7中に配線溝10を形成する。
次に、図2B(h)に示すように、配線溝10内に第2の配線8を形成する。第2の配線8は、例えば、配線溝10内を埋めるようにCu等の膜を堆積させた後、この膜に平坦化処理を施すことにより形成される。なお、この平坦化処理の際にストッパとなる膜を第2の配線間絶縁膜7上に予め用意しておいてもよい。
(実施の形態の効果)
本発明の実施の形態によれば、絶縁膜5をビア溝9の内壁とビア間絶縁膜4上に一体に形成することにより、ビア6の径を調節するスペーサ膜と、配線溝10の深さを揃えるエッチングストッパ膜を備え、且つスペーサ膜とエッチングストッパ膜の界面におけるリーク電流の発生を抑えることができる。
本発明の実施の形態によれば、絶縁膜5をビア溝9の内壁とビア間絶縁膜4上に一体に形成することにより、ビア6の径を調節するスペーサ膜と、配線溝10の深さを揃えるエッチングストッパ膜を備え、且つスペーサ膜とエッチングストッパ膜の界面におけるリーク電流の発生を抑えることができる。
また、ビア6をWにより形成する場合は、通常ビア溝9の内面にTiN膜を形成した後に、WF6ガス等の前駆ガスを用いたCVDによりTiN膜上にビア6の材料膜を堆積させる。このとき、絶縁膜5が形成されていることにより、前駆ガスがTiNに孔を開けてビア間絶縁膜4に達し、ビア間絶縁膜4に損傷を与えることを防ぐことができる。
〔他の実施の形態〕
なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、発明の主旨を逸脱しない範囲内において種々変形実施が可能である。例えば、上記実施の形態において、ビア6は第1の配線3と第2の配線8を接続するものとして説明したが、実際にはこのような構成に限られず、例えば、トランジスタのゲートやソース・ドレイン領域と配線を接続するものであってもよい。
なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、発明の主旨を逸脱しない範囲内において種々変形実施が可能である。例えば、上記実施の形態において、ビア6は第1の配線3と第2の配線8を接続するものとして説明したが、実際にはこのような構成に限られず、例えば、トランジスタのゲートやソース・ドレイン領域と配線を接続するものであってもよい。
また、絶縁膜5は、ビア6内の金属のビア間絶縁膜4への拡散を防ぐ拡散バリア膜として用いられてもよい。なお、この場合、ビア6の径を制御するスペーサとしての機能を必ずしも有する必要はない。
また、発明の主旨を逸脱しない範囲内において上記各実施の形態の構成要素を任意に組み合わせることができる。
1 半導体装置。4 ビア間絶縁膜。5 絶縁膜。6 ビア。8 第2の配線。9 ビア溝。10 配線溝。
Claims (5)
- 表面に半導体素子を有する半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された配線と、
前記配線の下側に接続されるビアと、
前記ビアと同じ層に形成された第1の絶縁膜と、
前記第1の絶縁膜と前記配線との間、および前記第1の絶縁膜と前記ビアとの間に一体に形成された第2の絶縁膜と、
を有することを特徴とする半導体装置。 - 前記第2の絶縁膜は、SiN、SiC、SiOC、SiCNのうち、少なくともいずれか1つを含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 表面に半導体素子が形成された半導体基板上に第1の絶縁膜を形成する工程と、
前記第1の絶縁膜中にビアホールを形成する工程と、
前記第1の絶縁膜上、および前記ビアホールの内面に第2の絶縁膜を形成する工程と、
前記ビアホールの底面に形成された前記第2の絶縁膜の少なくとも一部を除去する工程と、
前記ビアホールの底面に形成された前記第2の絶縁膜の少なくとも一部を除去した後、前記ビアホールにビアを形成する工程と、
前記ビアを形成した後、前記第2の絶縁膜および前記ビア上に第3の絶縁膜を形成する工程と、
前記第3の絶縁膜を加工して、前記第3の絶縁膜中に配線溝を形成する工程と、
前記配線溝中に配線を形成する工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記配線溝の形成は、前記第2の絶縁膜をエッチングストッパとして用いて前記第3の絶縁膜にエッチングを施すことにより行われることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の絶縁膜の形成は、前記ビアホールの径を制御するために前記第2の絶縁膜の厚さを調節して行われることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置の製造方法。
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Cited By (1)
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CN108807142A (zh) * | 2017-04-27 | 2018-11-13 | 株式会社日立国际电气 | 半导体器件的制造方法、衬底处理装置及记录介质 |
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JP2018186226A (ja) * | 2017-04-27 | 2018-11-22 | 株式会社Kokusai Electric | 半導体装置の製造方法、基板処理装置、プログラムおよび記録媒体 |
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