JP2009026992A - 積層ウエーハの分割方法 - Google Patents
積層ウエーハの分割方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009026992A JP2009026992A JP2007189260A JP2007189260A JP2009026992A JP 2009026992 A JP2009026992 A JP 2009026992A JP 2007189260 A JP2007189260 A JP 2007189260A JP 2007189260 A JP2007189260 A JP 2007189260A JP 2009026992 A JP2009026992 A JP 2009026992A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cutting
- blade
- wafer
- laminated wafer
- laminated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims abstract description 107
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 104
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract description 2
- 239000012634 fragment Substances 0.000 abstract 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 30
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 14
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 9
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 8
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 3
- WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-pyrazole-3-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=NN1 WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000009429 electrical wiring Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Dicing (AREA)
Abstract
【解決手段】表面に格子状に形成されたストリート201によって複数の領域が区画され、この区画された領域にデバイス202が形成されているウエーハ200を複数枚積層し、この積層ウエーハ20をストリート201に沿って分割する積層ウエーハ20の分割方法であって、チャックテーブル3に保持された積層ウエーハ20を切削する切削ブレード43を径方向に超音波振動せしめる超音波振動付与手段を備えた切削手段を用い、超音波振動付与手段によって切削ブレード43に径方向の超音波振動を付与しつつチャックテーブル3に保持された積層ウエーハ20をストリート201に沿って切断する。
【選択図】図8
Description
チャックテーブルに保持された積層ウエーハを切削する切削ブレードを径方向に超音波振動せしめる超音波振動付与手段を備えた切削手段を用い、該超音波振動付与手段によって該切削ブレードに径方向の超音波振動を付与しつつチャックテーブルに保持された積層ウエーハをストリートに沿って切断する、
ことを特徴とする積層ウエーハの分割方法が提供される。
カセット載置テーブル14上に載置されたカセット15の所定位置に収容されている積層ウエーハ20は、図示しない昇降手段によってカセット載置テーブル14が上下動することにより搬出位置に位置付けられる。次に、搬出手段17が進退作動して搬出位置に位置付けられた積層ウエーハ20を仮置きテーブル16上に搬出する。仮置きテーブル16に搬出された積層ウエーハ20は、第1の搬送手段18の旋回動作によって上記チャックテーブル3上に搬送される。チャックテーブル3上に積層ウエーハ20が載置されたならば、図示しない吸引手段が作動して積層ウエーハ20をチャックテーブル3上に吸引保持する。また、積層ウエーハ20を保護テープTを介して支持する支持フレームFは、上記クランプ33によって固定される。このようにして積層ウエーハ20を保持したチャックテーブル3は、撮像手段12の直下まで移動せしめられる。チャックテーブル3が撮像手段12の直下に位置付けられると、撮像手段12によって積層ウエーハ20を構成する最上層の半導体ウエーハ200の表面200aに形成されているストリート201が検出され、スピンドルユニット4を割り出し方向である矢印Y方向に移動調節してストリート201と切削ブレード43との精密位置合わせ作業が行われる。
切削ブレード :外径52mm、厚さ40μm
切削ブレードの回転速度 :17000rpm
切削送り速度 :30mm/秒
電圧印加手段9による印加電圧 :70V
第1の超音波振動子8aおよび第2の超音波振動子8bに付与する超音波振動の周波数
:55kHz
切削ブレードの振幅 :5μm
また、上述した実施形態においては、切削ブレードを径方向に超音波振動せしめる超音波振動付与手段として切削ブレードを挟持するブレードマウントとブレード挟持フランジに超音波振動子を配設した切削手段を用いてウエーハを切断する例を示したが、切削ブレードを装着する回転スピンドルに超音波振動子を配設する形態の超音波振動付与手段を備えた切削手段を用いてもよい。
2:装置ハウジング
3:チャックテーブ
4:スピンドルユニット
41:スピンドルハウジング
42:回転スピンドル
43:切削ブレード
5:ブレードマウント
51:フランジ部
52:装着部
6:ブレード挟持フランジ
8a:第1の超音波振動子
81a:圧電体
82a、83a:電極板
84a:絶縁体
8b:第1の超音波振動子
81b:圧電体
82b、83b:電極板
84b:絶縁体
9:電圧印加手段
91:受電手段
912:受電コイル
92:給電手段
922:給電コイル
93:交流電源
94:周波数変換器
90:電圧印加手段
97:発電コイル
99:永久磁石
12:アライメント手段
13:表示手段
14:カセット載置テーブル
15:カセット
16:仮置きテーブル
17:搬出手段
18:第1の搬送手段
19:洗浄手段
20:積層ウエーハ
200:半導体ウエーハ
201:ストリート
202:デバイス
F:環状のフレーム
T:保護テープ
Claims (1)
- 表面に格子状に形成されたストリートによって複数の領域が区画され、この区画された領域にデバイスが形成されているウエーハを複数枚積層し、この積層ウエーハをストリーに沿って分割する積層ウエーハの分割方法であって、
チャックテーブルに保持された積層ウエーハを切削する切削ブレードを径方向に超音波振動せしめる超音波振動付与手段を備えた切削手段を用い、該超音波振動付与手段によって該切削ブレードに径方向の超音波振動を付与しつつチャックテーブルに保持された積層ウエーハをストリートに沿って切断する、
ことを特徴とする積層ウエーハの分割方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007189260A JP2009026992A (ja) | 2007-07-20 | 2007-07-20 | 積層ウエーハの分割方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007189260A JP2009026992A (ja) | 2007-07-20 | 2007-07-20 | 積層ウエーハの分割方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009026992A true JP2009026992A (ja) | 2009-02-05 |
Family
ID=40398519
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007189260A Pending JP2009026992A (ja) | 2007-07-20 | 2007-07-20 | 積層ウエーハの分割方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009026992A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8461020B2 (en) | 2011-05-12 | 2013-06-11 | Disco Corporation | Device processing method |
US8524576B2 (en) | 2011-05-12 | 2013-09-03 | Disco Corporation | Wafer processing method |
KR20170020242A (ko) | 2015-08-14 | 2017-02-22 | 가부시기가이샤 디스코 | 웨이퍼의 가공 방법 및 전자 디바이스 |
JP2017143095A (ja) * | 2016-02-08 | 2017-08-17 | 株式会社ディスコ | 積層ウェーハの分割方法 |
CN112658818A (zh) * | 2020-12-19 | 2021-04-16 | 华中科技大学 | 一种用于晶圆超精密加工的超声振动辅助磨削装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006228810A (ja) * | 2005-02-15 | 2006-08-31 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウェーハの分割方法 |
JP2007030114A (ja) * | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Disco Abrasive Syst Ltd | 切削装置 |
-
2007
- 2007-07-20 JP JP2007189260A patent/JP2009026992A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006228810A (ja) * | 2005-02-15 | 2006-08-31 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウェーハの分割方法 |
JP2007030114A (ja) * | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Disco Abrasive Syst Ltd | 切削装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8461020B2 (en) | 2011-05-12 | 2013-06-11 | Disco Corporation | Device processing method |
US8524576B2 (en) | 2011-05-12 | 2013-09-03 | Disco Corporation | Wafer processing method |
KR20170020242A (ko) | 2015-08-14 | 2017-02-22 | 가부시기가이샤 디스코 | 웨이퍼의 가공 방법 및 전자 디바이스 |
US9786490B2 (en) | 2015-08-14 | 2017-10-10 | Disco Corporation | Wafer processing method and electronic device |
JP2017143095A (ja) * | 2016-02-08 | 2017-08-17 | 株式会社ディスコ | 積層ウェーハの分割方法 |
CN112658818A (zh) * | 2020-12-19 | 2021-04-16 | 华中科技大学 | 一种用于晶圆超精密加工的超声振动辅助磨削装置 |
CN112658818B (zh) * | 2020-12-19 | 2022-04-08 | 华中科技大学 | 一种用于晶圆超精密加工的超声振动辅助磨削装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5139720B2 (ja) | 切削装置 | |
JP4658730B2 (ja) | 切削装置 | |
JP4763389B2 (ja) | 切削工具 | |
JP4908143B2 (ja) | 切削ブレードの振幅計測装置 | |
JP2009032726A (ja) | ウエーハの分割方法 | |
WO2006126298A1 (ja) | 円盤状の切断ブレードを備えた切断装置 | |
JP2009026992A (ja) | 積層ウエーハの分割方法 | |
US20220055242A1 (en) | Cutting method | |
JP2008302471A (ja) | 切削ブレード | |
JP4847189B2 (ja) | 切削装置 | |
JP5730127B2 (ja) | 研削方法 | |
JP4847093B2 (ja) | 切削工具 | |
JP4731247B2 (ja) | 切削装置 | |
JP4847069B2 (ja) | 切削装置 | |
JP2007283418A (ja) | 切削工具 | |
JP4917399B2 (ja) | 切削ブレードに付与する超音波振動の周波数設定方法および切削装置 | |
JP2007290046A (ja) | 切削工具 | |
JP2007030102A (ja) | 切削装置 | |
JP2011152605A (ja) | 研削装置 | |
JP4885680B2 (ja) | 超音波振動切削装置 | |
JP4648119B2 (ja) | 切削装置 | |
JP2010171067A (ja) | 切削装置 | |
JP4977428B2 (ja) | 切削装置 | |
JP2008307613A (ja) | 加工装置および加工工具 | |
JP5341564B2 (ja) | 工具取り付けマウントの修正冶具 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100622 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20120517 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120522 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120719 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20120904 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |