JP2009025486A - 光学フィルタ、光学フィルタの製造方法及び光学フィルタを備えたプラズマディスプレイ装置 - Google Patents

Abstract

【課題】視野を狭くすることなく、主成分がフッ素モノマー材料である反射防止層を用いた場合であってもアースを取ることができる光学フィルタ及びそれを備えたプラズマ装置を提供する。
【解決手段】本発明の光学フィルタは、中央領域と中央領域を囲む周辺領域とを有する主表面を有する透明な基板と、中央領域の主表面上に形成される第１の粘着層と、第１の粘着層上に形成される第１の導電層と、第１の導電層上に形成される第２の粘着層と、第２の粘着層上に形成される反射防止層と、周辺領域の表面上にのみ形成され第１の導電層と電気的に接続される第２の導電層とを含むことを特徴とする。
【選択図】図１

Description

本発明は、光学フィルタ、光学フィルタの製造方法及び光学フィルタを備えたプラズマディスプレイ装置に関する。

プラズマディスプレイ装置の前面からは、人体に有害な電磁波が発生している。従来、この電磁波を遮蔽するための光学フィルタとして、装置の観察者側に、プラスチックフィルム等の透明高分子基材上に電磁波遮蔽層を配置することが行われている。通常、電磁波遮蔽層は、アースを取る必要がある。特許文献１の接地部材５００は、特許文献１の図９（ｃ）に示されるように、フィルタ５００の側面だけではなく、フィルタ５００を構成する反射防止層１２０の上面の一部にも形成されている。また、具体的な開示はないが、特許文献１のフィルタ５００は、プラズマディスプレイ装置の筐体と反射防止層１２０の一部上面に形成された接地部材５００とを接触させることにより、アースを取っていると考えられる。

特開２００５−３１０８６７号公報

しかしながら、最上層（例えば、反射防止層）が含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を含有する主表面を有する場合、その主表面に形成した接地部材は主表面との密着性が悪くて剥がれ易く、長期の使用に耐えられないという信頼性の問題点がある。

また、たとえ含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を含有する主表面と接地部材との密着性が良い場合であっても、プラズマディスプレイ装置の筐体と接触する箇所が主表面上である場合、長期の使用によって密着性が劣化して接着部材に亀裂が入ることにより、アースとして機能を得られない場合があるという問題点がある。

また、プラズマディスプレイ装置の筐体と接触する箇所が含フッ素化合物又は含ケイ素化合物からなる主表面上である場合、筐体が最上層の一部を覆うことにより、視野が狭くなるという問題点がある。

本発明の一態様の光学フィルタは、中央領域と中央領域を囲む周辺領域とを有する主表面を有する透明基板と、透明基板の中央領域の主表面上に形成され電磁波を遮蔽する第１の層と、第１の層上に形成され含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を含有する主表面を有する第２の層と、周辺領域の主表面上のみに形成され第１の層と電気的に接続される導電性部材により構成される第３の層とを含むことを特徴とする。

また、本発明の一態様の光学フィルタの製造方法は、中央領域と中央領域を囲む周辺領域とを有する主表面を有する透明基板を準備する工程と、透明基板の主表面上に電磁波を遮蔽するための第１の層を形成する工程と、第１の層上に含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を含有する主表面を有する第２の層を形成する工程と、透明基板の周辺領域の主表面上に形成された第１及び第２の層を除去する工程と、第１及び第２の層が除去された透明基板の周辺領域の主表面上に第１の層と電気的に接続するように導電性部材により構成される第３の層を形成する工程を含むことを特徴とする。

また、本発明の一態様のディスプレイ装置は、中央領域と中央領域を囲む周辺領域とを有する主表面を有する透明基板と、透明基板の中央領域の主表面上に形成され電磁波を遮蔽する第１の層と、第１の層上に形成され含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を含有する主表面を有する第２の層と、周辺領域の主表面上のみに形成され第１の層と電気的に接続される導電性部材により構成される第３の層と含む光学フィルタと、第３の層の上面及び側面と透明基板の側面及び裏面に亘って形成される導電性部材と、透明基板の裏面に形成された導電性部材と接触し、第３の層と電気的に接続される背面キャビネットとを含むことを特徴とする。

本発明によれば、視野を狭くすることなく、最上層が含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を含有する主表面を有する場合であってもアースを取ることができる光学フィルタ及びそれを備えたプラズマ装置を提供することができる。

本発明の実施形態を、添付した図面を参照して以下に詳細に説明する。図では対応する部分は、対応する参照番号で示している。下記の実施形態は、一例として示されたものであり、本発明の精神から逸脱しない範囲で種々の変形をして実施することが可能であることは言うまでもない。

以下、本発明を詳細に説明する。

本発明の光学フィルタは、中央領域と中央領域を囲む周辺領域とを有する主表面を有する透明基板と、中央領域の主表面上に形成される第１の粘着層と、第１の粘着層上に形成される透明高分子基材と、透明高分子基材上に形成される電磁波遮蔽層（第１の層）と、電磁波遮蔽層上に形成される第２の粘着層と、第２の粘着層上に形成される付加機能層（第２の層）と、周辺領域の表面上にのみ形成され電磁波遮蔽層と電気的に接続される電極（第３の層）とを有する。

本発明の光学フィルタのシート抵抗は３Ω／□以下である。そのため、プラズマディスプレイ装置用として充分な電磁波遮蔽性能を有する。シート抵抗は、２．５Ω／□以下が好ましく、１．８Ω／□以下がより好ましく、さらには０．８Ω／□以下が好ましい。

また、本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイ装置の前面に配置されるものであるため、ディスプレイが見にくくならないように、可視光線透過率が３０％以上であることが好ましい。

また、本発明の光学フィルタの可視光線反射率は６％未満であることが好ましく、特に３％未満であることが好ましい。

＜透明基板＞
透明基板の材料としては、ガラス板（風冷強化ガラス、化学強化ガラス等の強化ガラスを含む）、及び上述した透明高分子基材の材料と同様の材料等が挙げられる。透明基板の厚さは、特に限定されないが、１〜１０ｍｍ程度が好ましい。透明基板は、中央領域と中央領域を囲む周辺領域とを有する主表面と、主表面に対向する裏表面とを有する。

＜第１の粘着層＞
第１の粘着層は、市販されている粘着剤を使用することができる。好ましい粘着剤材料の具体例としては、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体系ゴム、ブチルゴム（イソブテン−イソプレン共重合体系ゴム）、又はシリコーン樹脂等の粘着剤を挙げることができる。特に、良好な耐湿性が得られることから、アクリル樹脂の粘着剤が好ましく用いられる。アクリル樹脂としては、１種類のアクリル酸エステル単独の重合体、２種以上のアクリル酸エステルの共重合体、スチレン等アクリル酸（エステル）モノマー以外のモノマーとアクリル酸との共重合体などが挙げられる。また、第２の粘着層にも、紫外線吸収剤や色素などの種々の機能を有する添加剤が配合されてもよい。

＜透明高分子基材＞
透明高分子基材の材料としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン（ＰＳ）、スチレンメチルメタアクリレート（ＭＳ）等の透明プラスチック材料が挙げられる。
透明高分子基材の厚さは、特に限定されないが、５０〜２５０μｍ程度が好ましい。

＜電磁波遮蔽層＞
電磁波遮蔽層としては、単層又は複数層から構成され、シート抵抗が３Ω未満のものであれば、一般に、プラズマディスプレイ装置用の電磁波遮蔽シートに用いられているものが使用できる。例えば、電磁波遮蔽層は、スパッタ法やイオンプレーティング法などの薄膜形成技術を用いて形成される５〜２０ｎｍの金属層や、金属層と金属酸化物からなる酸化物層とを多層に積層した、透光性の導電性積層体を用いることができる。

透光性の導電性積層体に用いる金属層としては、Ａｕ、Ａｇ及びＣｕからなる群から選ばれる１種以上の金属又はその金属を主成分とする層が好ましく、特に、比抵抗が小さく、吸収が小さいことから、Ａｇを主成分とする金属層が好ましい。さらにＡｇを主成分とする金属層としては、Ａｇの拡散を抑制し、結果として耐湿性が向上することから、Ａｇを主成分としＰｄ、Ａｕ又はＣｕの少なくとも一つを含む金属層であることが好ましい。Ｐｄ、Ａｕ又はＣｕの少なくとも一つの含有割合は、ＡｇとＰｄ、Ａｕ又はＣｕの少なくとも一つの含量との総量に対して０．３〜１０原子％であることが好ましい。０．３原子％以上であればＡｇの安定化の効果が得られると共に、１０原子％以下とすることで良好な耐湿性を維持しつつ、良好な成膜速度及び可視光透過率が得られる。したがって、以上の観点からは、添加量は５．０原子％以下が適当である。また、添加量が増加するとターゲットコストが著しく増加するので、通常必要な耐湿性を勘案すると、０．５〜２．０原子％程度の範囲となる。単層として透光性の導電層を形成する場合、この金属層の厚さは好ましくは５〜２０ｎｍ、より好ましくは８〜１５ｎｍとされる。この金属層の形成方法は特に限定されないが、透明基板の一方の面側に直接、薄い金属膜を均一に成膜可能なスパッタ法を用いて成膜することが好ましい。

この導電層としては、低いシート抵抗値、低い反射率、高い可視光線透過率が得られることから、透明な合成樹脂フィルムなどの適当な透明基板上に、酸化物層と金属層を交互に積層した多層導電膜、特に、酸化物層、金属層、酸化物層、と交互に計（２ｎ＋１）層（ｎは１以上の整数）積層された多層導電膜が好適に使用される。

酸化物層としては、Ｂｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｎｂ及びＺｎからなる群から選ばれる１種以上の金属の酸化物を主成分とする層が挙げられる。好ましくはＴｉ、Ｓｎ、Ｉｎ及びＺｎからなる群から選ばれる１種以上の金属の酸化物を主成分とする層である。特に、吸収が小さく、屈折率が２前後であることから、ＺｎＯを主成分とする層、屈折率が大きく、好ましい色調を少ない層数で得られやすいことからＴｉＯ_２を主成分とする層が好ましい。

酸化物層は、複数の薄い酸化物層から構成されていてもよい。例えば、ＺｎＯを主成分とする酸化物層に代えて、ＳｎＯ_２を主成分とする層とＺｎＯを主成分とする層とから形成することもできる。

ＺｎＯを主成分とする酸化物層は、Ｚｎ以外の１種以上の金属を含有するＺｎＯからなる酸化物層であることが好ましい。含有された１種以上の金属は、酸化物層中では主として酸化物の状態で存在している。１種以上の金属を含有するＺｎＯとしては、Ｓｎ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｂ、Ｍｇ及びＧａからなる群から選ばれる１種以上の金属を含有するＺｎＯが好ましく挙げられる。１種以上の金属の含有割合は、得られる導電膜の耐湿性が向上することから、金属の合計量とＺｎとの総量に対して１〜１０原子％が好ましい。１原子％以上とすれば、充分にＺｎＯ膜の内部応力を低減せしめて、良好な耐湿性を得ることができる。また１０原子％以下とすれば、ＺｎＯの結晶性が良好に維持されると共に、金属層との相性が低下することがない。安定して再現性よく低内部応力のＺｎＯ膜を得ること、及びＺｎＯの結晶性を考慮すると、Ｚｎ以外の金属の含有割合は２〜６原子％が好ましい。

酸化物層の幾何学的膜厚（以下、単に膜厚という）は、最も透明基板に近い酸化物層及び最も透明基板から遠い酸化物層は２０〜６０ｎｍ（特に３０〜５０ｎｍ）、それ以外の酸化物層は４０〜１２０ｎｍ（特に４０〜１００ｎｍ）とすることが好ましい。

金属層の合計膜厚は、例えば得られる導電層のシート抵抗値の目標を２．５Ω／□とした場合、２５〜４０ｎｍ（特に２５〜３５ｎｍ）、シート抵抗値の目標を１．５Ω／□とした場合、３５〜５０ｎｍ（特に３５〜４５ｎｍ）とすることが好ましい。

酸化物層と金属層との全合計膜厚は、例えば、金属層数が２の場合は１５０〜２２０ｎｍ（特に１６０〜２００ｎｍ）、金属層数が３の場合は２３０〜３３０ｎｍ（特に２５０〜３００ｎｍ）、金属層数が４の場合は２７０〜３７０ｎｍ（特に３１０〜３５０ｎｍ）であることが好ましい。

例えば、電磁波遮蔽層を、下から、酸化物層・金属層・酸化物層・金属層・酸化物層・金属層・酸化物層と積層して構成した場合、２層目の金属層と３層目の酸化物層との間、４層目の金属層と５層目の酸化物層との間、６層目の金属層と７層目の酸化物層との間に、酸化物層形成時に、酸化バリア層を設けてもよい。この酸化バリア層は、金属層が酸化されることを防止するために形成される。酸化バリア層としては、例えば、金属層、酸化物層、窒化物層が用いられる。具体的には、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｇａ及びＺｎからなる群から選ばれる１種以上の金属、その金属の酸化物、窒化物などである。好ましくは、ＴｉやＳｉとＧａとを含有するＺｎＯを用いる。酸化バリア層の膜厚は１〜７ｎｍが望ましい。１ｎｍより厚いとバリア層としての働きを充分に示す。７ｎｍより薄いと導電膜の可視光線透過率を高くできる。

また、電磁波遮蔽層を導電性メッシュフィルムで構成することもできる。導電性メッシュフィルムは、透明高分子基材の上に接着層を介して、幾何学模様の開口部を複数有する導電性薄膜で形成される。導電性薄膜は、銅、アルミニウム、ニッケル、銀が用いられる。導電性薄膜の厚みは、３〜４０μｍが望ましい。幾何学模様は、四角形等の多角形が好ましく、各幾何学模様のライン幅は３０μｍ以下が望ましい。接着層は、エポキシ系粘着材が望ましい。ここで、幾何学模様は、フォトリソグラフィーを適用したケミカルエッチングプロセスや銀塩写真法などを用いて形成される。

＜第２の粘着層＞
第２の粘着層は、第１の粘着層と同じように、市販されている粘着剤を使用することができる。好ましい粘着剤材料の具体例としては、第１の粘着層と同様に、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体系ゴム、ブチルゴム（イソブテン−イソプレン共重合体系ゴム）、又はシリコーン樹脂等の粘着剤を挙げることができる。特に、良好な耐湿性が得られることから、アクリル樹脂の粘着剤が好ましく用いられる。アクリル樹脂としては、１種類のアクリル酸エステル単独の重合体、２種以上のアクリル酸エステルの共重合体、スチレン等アクリル酸（エステル）モノマー以外のモノマーとアクリル酸との共重合体などが挙げられる。また、第２の粘着層にも、紫外線吸収剤や色素などの種々の機能を有する添加剤が配合されてもよい。

＜付加機能層＞
付加機能層は、含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を含有する主表面を有する。含フッ素化合物は含フッ素重合体が好ましく、含ケイ素化合物は含ケイ素重合体が好ましい。例えば、付加機能層として、反射防止層や防汚層が挙げられる。
反射防止層は、屈折率が異なる層を積層して、該層を通過する光の干渉性を利用して、可視領域における反射率の低減を図るものである。反射防止層の各層の厚みは、下記式を満足する光学膜厚となるように設定すると、効果が最も高くなるので好ましい。
ｄ＝０．２５×λ／ｎ
上記の式において、ｄは層厚み（ｎｍ）、λは光の波長（５５０ｎｍ）、ｎは層構成物質の屈折率を表す。
なお、反射防止層として、屈折率１．４９以下、好ましくは１．３５〜１．４９を示す低屈折率材料、１層のみからなる層であってもよい。低屈折率材料として、含フッ素重合体が好ましい。含フッ素重合体として、含フッ素アクリル樹脂が好ましい。
防汚層は、反射防止層の保護膜的な効果を狙うもので、外的要因により汚れた表面を清掃することで反射防止効果を常に保つことができるものである。この層の形成材料としては、透明性を有し、反射防止特性を損なわないものが必要である。例えば、フルオロアルキル基含有樹脂やフルオロカーボンやフルオロシランやパーフルオロポリエーテル等、あるいはこれらの化合物等が好ましい。また指紋拭き取り性には、メチル基を導入した化合物も適している。防汚層の形成方法としては適用材料に応じて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法、プラズマ重合やロールコート法、スプレーコート法、ディップコート法等各種コーティング法を用いることができる。防汚層は反射防止特性を損なうことが無いよう、通常膜厚は３０ｎｍ以下で形成される。

＜電極＞
本発明において、電極は、電磁波遮蔽層の側面と電気的に接続することが好ましく、導電性テープではなく導電性ペーストを用いるほうが好ましい。例えば、銀や銅などの導電性微粒子を含有した導電性ペーストをスクリーン印刷や、ディスペンスなどの手法を施すことにより形成することができる。導電性ペースト中の金属微粒子の大きさは任意でかまわないが、大小２種類の径を有する導電性微粒子を用いることが好ましい。また、微粒子は導電性を有すればよく、カーボン等の非金属の材料を用いることもできる。導電性ペーストの代わりに黒田テクノ社製セラソルザ等のガラス用はんだを用いてもよい。

＜各種樹脂フィルム＞
「飛散防止用樹脂フィルム」
本発明の光学フィルタにおいては、特に基体としてガラス板を用いる場合に、光学フィルタの前面側（観察者側）及び／又は裏面側（表示装置側）に、飛散防止用樹脂フィルムが設けられていることが好ましい。飛散防止用樹脂フィルムとしては、特に制限はなく、一般的に光学フィルタに用いられているもの、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン（ＰＳ）、スチレンメチルメタアクリレート（ＭＳ）等が使用できる。

「近赤外線遮蔽フィルム」
本発明の光学フィルタにおいては、光学フィルタの前面側（観察者側）及び／又は裏面側（表示装置側）に、近赤外線遮蔽フィルムが設けられていてもよい。
近赤外線遮蔽フィルムとしては、特に制限はなく、一般的に光学フィルタに用いられているものが使用できる。
また、近赤外線遮蔽フィルムの代わりに、近赤外線吸収基体を用いる、近赤外線吸収剤を添加した粘着剤をフィルム積層時に使用する、反射防止樹脂フィルム等に近赤外線吸収剤を添加して近赤外線吸収機能を併せ持たせる、近赤外線反射機能を有する導電膜を用いる、等の方法が可能である。
本発明の光学フィルタにおいては、防止用樹脂フィルム等の樹脂フィルムを、適宜、色調調整のため、有色のフィルム（着色層）とすることもできる。たとえば、第１の導電層は、厚みによっては着色して見えることがあるが、樹脂フィルムをその補色のフィルムとすることにより、全体の色調のニュートラル化が可能となる。

＜第１の実施形態＞
以下、図面を用いて、本発明の第１の実施形態に係る光学フィルタについて説明する。図１は、本発明の第１の実施形態に係る光学フィルタの構成を示す断面図である。図２は、図１の矢印Ａ方向から見た光学フィルタの上面図である。

本発明の第１の実施形態に係る光学フィルタは、透明基板１００と、粘着層１１０と、透明高分子基材１２０と、電磁波遮蔽層１３０と、粘着層１４０と、付加機能層１５０と、電極１６０とを有する。

透明基板１００は、ガラス基板である。透明基板１００は、中央領域２００と中央領域２００を囲む周辺領域２１０とを有する主表面１０１を有する。

粘着層１１０は、透明基板１００の中央領域２００に形成されたアクリル系の粘着剤である。

透明高分子基材１２０は、粘着層１１０上に形成されたＰＥＴフィルムである。

電磁波遮蔽層１３０は、透明高分子基材１２０上に形成された導電性積層体である。以下、図面を用いて、電磁波遮蔽層１３０の構成について説明する。図３は、透明高分子基材１２０上に形成された電磁波遮蔽層１３０の構成を示す断面図である。本発明の第１の実施形態に係る電磁波遮蔽層１３０は、５層の積層体３００〜３４０により構成される。各積層体はすべて同じ構成なので、積層体３００を用いて各積層体の構成について説明する。積層体３００は、酸化物層３０１と、金属層３０２と、酸化物層３０３と、酸化物層３０４とにより構成される。酸化物層３０１、３０４は、酸化亜鉛及び酸化チタンを用いて形成される。金属層３０２は、金と銀の合金を用いて形成される。酸化物層３０４は、酸化亜鉛及び酸化アルミニウムを用いて形成される。

なお、電磁波遮蔽層１３０の他の構成として、導電性積層体ではなく、導電性メッシュフィルムがある。図４は、透明高分子基材１２０上に形成された電磁波遮蔽層１３０の他の構成を示す斜視図である。図４に示すように、他の電磁波遮蔽層１３０は、透明高分子基材１２０上に接着層４１０を介して、導電性メッシュフィルム４００が設けられている。ここで、導電性メッシュフィルム４００は、上面から見たとき、複数の四角形の開口部を有している。

粘着層１４０は、電磁波遮蔽層１３０上に形成されたアクリル系の粘着剤である。

付加機能層１５０は、反射防止層として、粘着層１４０上に形成された反射防止フィルム（日本油脂社製、反射防止フィルム、商品名：リアルック）である。

電極１６０は、透明基板１００の周辺領域２１０上に、銀や銅などの導電性微粒子を含有した導電性ペーストをスクリーン印刷やディスペンスなどの手法を施すことにより得られた電極である。ここで、電極１６０は、透明基板１００の周辺領域２１０上にのみ形成され、中央領域２００上に形成された付加機能層１５０上には形成されていない。また、電極１６０は、粘着層１１０と透明高分子基材１２０と電磁波遮蔽層１３０と粘着層１４０と付加機能層１５０との側面に沿って形成され、電磁波遮蔽層１３０とは電気的に接続されている。ここで、電極１６０の上面は、付加機能層１５０より突出していない。言い換えると、透明基板１００の主表面１０１から電極１６０の上面までの距離は、透明基板１００の主表面１０１から付加機能層１５０の表面までの距離よりも短い。電極１６０の上面は、プラズマディスプレイ装置の筐体と接触する面となる。

＜第２の実施形態＞
以下、図面を用いて、本発明の第２の実施形態に係る光学フィルタについて説明する。図５及び図６は、本発明の第２の実施形態に係る光学フィルタの構成を示す上面図である。図５及び図６は、図１の矢印Ａ方向から見た光学フィルタの上面図である。なお、以下に記載する実施形態において、第１の実施形態に対応する構成要素には、同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。

第２の実施形態に係る光学フィルタは、辺の長さが長くなるように、単なる一直線の形状ではなく、ジグザク形状としている点で、第１の実施形態と異なっている。例えば、図５の辺２２０を用いて説明すると、辺２２０の端点若しくは端部（以下、端点と称する）５００から端点５１０までの長さＡは、端点５００から端点５１０までを結ぶ仮想直線の長さをａとした場合に、1＜（Ａ／ａ）≦１０という関係を満たす。（Ａ／ａ）≧３が好ましく、（Ａ／ａ）≧６であると特に好ましい。

これにより、電磁波遮蔽層と電極の接触面積が大きくなり、電気的な接続が良好となる。さらに、密着性に優れるという効果を奏する。

なお、第２の実施形態に係る光学フィルタは、ジグザク形状の凸部の先端が鋭角であるが、例えばアルファベットのＵ字のように先端が丸みを帯びていても良く、又は先端が水平であってもよい。

＜プラズマディスプレイ装置＞
以下、図面を用いて、本発明の第１若しくは第２の実施形態に係る光学フィルタを用いたプラズマディスプレイ装置について説明する。図７及び図８は、本発明の第１若しくは第２の実施形態に係る光学フィルタを用いたプラズマディスプレイ装置の構成を示す一部拡大した断面図である。図７に示されるプラズマディスプレイ装置は、光学フィルタの前面方向（人側）から光学フィルタと電気的に接続されている。一方、図８に示されるプラズマディスプレイ装置は、光学フィルタの後面方向（パネル側）から光学フィルタと電気的に接続されている。なお、以下に記載する実施形態において、第１若しくは第２の実施形態に対応する構成要素には、同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。

図７に示されるプラズマディスプレイ装置は、パネルを収容するための筐体を構成する前面キャビネット７００と、前面キャビネット７００の先端に設けられ電極１６０と電気的に接続される導電性ガスケット７１０と、光学フィルタを背面から押さえる押え部材７２０とを有する。よって、本発明の第１及び第２の実施形態に係る光学フィルタは、透明な基板１００の周辺領域のみに形成された電極１６０の上面と前面キャビネット７００が電気的に接触することにより、接地されている。それにより、図７に示されるプラズマディスプレイ装置は、接触抵抗が低くなり電磁波遮蔽能力が向上するという効果を奏する。

また、図８に示されるプラズマディスプレイ装置は、パネルを収容するための筐体を構成し光学フィルタを前面から押える押え部材８００と、背面キャビネット８１０と、背面キャビネット８１０の先端に設けられ電極１６０と電気的に接続される導電性ガスケット８２０とを有する。なお、この場合、光学フィルタは、裏面から接地をするために、電極１６０の上面から側面及び透明基板１００の側面及び裏面に亘って形成される導電性テープ８３０を有する。よって、本発明の第１及び第２の実施形態に係る光学フィルタは、透明基板１００の周辺領域のみに形成された電極１６０の上面と背面キャビネット８１０が電気的に接触することにより、接地されている。それにより、図８に示されるプラズマディスプレイ装置は、フラット化という効果を奏する。

例１〜例５は実施例であり、例６〜例７は比較例である。

（例１）
以下、図面を用いて、本発明の例１に係る光学フィルタの製造方法について説明する。図９、図１０及び図１１は、本発明の例１に係る光学フィルタの製造過程における構成を示す断面図である。図１１は、図１０の矢印Ｂ方向から見た光学フィルタの上面図である。

＜電磁波遮蔽層１３０の作製＞
以下の手順で、図３に示す構成の電磁波遮蔽層１３０を作製した。

初めに、透明高分子基材１２０として厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を準備した。

次に、透明高分子基材１２０の表面に対し、イオンビームソースによる乾式洗浄を行った。具体的には、Ａｒガスに約３０％の酸素を混合して、１００Ｗの電力を投入し、イオン化されたＡｒイオン及び酸素イオンを生成した。イオンビームソースによりイオン化されたＡｒイオン及び酸素イオンを透明高分子基材１２０の表面に照射した。次に、乾式洗浄処理された透明高分子基材１２０の表面に、酸化亜鉛及び酸化チタン（混合比、酸化亜鉛：酸化チタン＝９０．０：１０．０（質量比））ターゲットを用いてアルゴンガスに３体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で、周波数５０ｋＨｚ、電力密度３．８ｗ／ｃｍ^２、反転パルス幅２μｓｅｃのパルススパッタを行い、透明高分子基材１２０上に、厚さ３７ｎｍの酸化物層３０１を形成した。次に、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で、周波数５０ｋＨｚ、電力密度３．８ｗｗ／ｃｍ^２、反転パルス幅１０μｓｅｃのパルススパッタを行い、酸化物層３０１上に、厚さ１３ｎｍの金属層３０２を形成した。次に、酸化亜鉛及び酸化アルミニウム（混合比、酸化亜鉛：酸化アルミニウム＝９５：５（質量比））ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で、周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．５ｗ／ｃｍ^２、反転パルス幅２μｓｅｃのパルススパッタを行い、金属層３０２上に、厚さ１ｎｍの酸化物層３０３を形成した。次に、酸化物層３０１と同じ方法で、酸化物層３０３上に、厚さ３７ｎｍの酸化物層３０４を形成し、積層体３００を得た。

以下、同様な工程を４回繰り返し、５層の積層体３００〜３４０で構成される電磁波遮蔽層１３０を得た。なお、積層体５００の最上層となる酸化物層３０４と、直上に形成される積層体３１０の最下層の酸化物層とを同時に形成するようにしてもよいことは言うまでもない。

この導電層のシート抵抗を非接触式シート抵抗測定器（ＮＡＧＹ社製ＳＲＭ−１２）を用いて測定すると０．７Ω/□であった。

＜貼合＞
以下の手順で、図９に示す構成の光学フィルタを作製した。
初めに、透明基板１００として、１辺の長さ１００ｍｍ、厚み２ｍｍの正方形のガラス基板を準備した。次に、ガラス基板上に、粘着層１１０として、シート状のアクリル系の粘着剤を用いた。次に、粘着剤上に、透明高分子基材１２０及び電磁波遮蔽層１３０を圧着した。次に、電磁波遮蔽層１３０上に、粘着層１４０として、シート状のアクリル系の粘着剤を用いた。次に、粘着層１４０上に、反射防止層１５０として、含フッ素アクリル樹脂層とＰＥＴフィルムとから構成される、日本油脂社製 反射防止フィルム（商品名：リアルック７８００）を形成し、光学フィルタを作製した。

＜形状加工＞
以下の手順で、図１０及び図１１に示す構成の光学フィルタを作製した。
上記のように作製された光学フィルタを図１１に示すように、一辺が６０ｍｍの正方形の形状となるように、ガラス基板上に形成された粘着層１１０、透明高分子基材１２０、電磁波遮蔽層１３０、粘着層１４０及び反射防止層１５０の一部をカッターを用いて切り取った。

＜電極１６０の形成＞
以下の手順で、図１及び図２に示す構成の光学フィルタを作製した。
上記のように加工された光学フィルタのガラス基板の周辺領域上に、Agペーストをディスペンサーを用いて塗布した後、焼成を行い、電極１６０を形成した。電極１６０のパターンは、線幅５ｍｍ、長さ６０ｍｍとし、中央領域２００の対向する２辺２２０、２３０に形成した。ここで、電極１６０のパターンは、ガラス基板の中央領域２００上に形成された粘着層１１０、透明高分子基材１２０、電磁波遮蔽層１３０、粘着層１４０及び反射防止層１５０の側面及びガラス基板の周辺領域２１０に接触し、かつ、反射防止層１５０の上面には形成されないようにした。なお、電極１６０のパターンの密着性が満たされるのであれば、印刷パターンが電磁波遮蔽層１３０と電気的に接続すればよいのであって、必ずしも粘着層１１０等のすべての側面に接触する必要はないことは言うまでもない。

（例２）
辺２２０、２３０の長さが１００ｍｍとなるように、辺をギザギザに形状に加工した以外、例１と同様に作製した。

（例３）
辺２２０、２３０の長さが３００ｍｍとなるように、辺をギザギザに形状に加工した以外、例１と同様に作製した。

（例４）
導電層として導電性メッシュフィルム（大日本印刷製）を用いた以外、例１と同様に作製した。

（例５）
導電層としてメッシュフィルムを用い、メッシュ面の裏側に反射防止層をコーティングしたフィルムをガラス基板に貼合した以外、例１と同様に作製した。

（例６）
中央領域２００の対向する２辺２２０、２３０において、粘着層１１０、透明高分子基材１２０、電磁波遮蔽層１３０、粘着層１４０及び反射防止層１５０の側面及びガラス基板の周辺領域２１０に接触し、かつ、反射防止層１５０の上面には接触しないように導電性Ａｌテープを形成した以外、例１と同様に作製した。

（例７）
中央領域２００の対向する２辺２２０、２３０において、粘着層１１０、透明高分子基材１２０、電磁波遮蔽層１３０、粘着層１４０及び反射防止層１５０の側面及びガラス基板の周辺領域２１０に接触し、かつ、反射防止層１５０の上面にも接触するようにＡｇペーストからなる導電層を形成した以外、例１と同様に作製した。

以上のように形成した例１〜例７の光学フィルタについて、下記のように、抵抗を測定し、密着性試験を行った。

＜抵抗測定＞
抵抗測定には、ＨＩＯＫＩ社製抵抗計（３５４１ ＲＥＳＩＳＴＡＮＣＥ ＨｉＴＥＳＴＥＲ）を用いた。端子を当てる部分は、辺２２０の中点と辺２３０の中点であり、端子間距離が約６０ｍｍとなる点とした。◎◎は接続抵抗が０．１Ω以下であることを示し、◎は０．１以上〜０．２Ω未満であることを示し、○は０．２以上〜０．３Ω未満であることを示し、×は０．３Ω以上であることを示す。

＜密着性試験＞
ＪＩＳ Ｋ−５４００に従い、Ａｇペーストにより形成した電極１６０上に１辺が１ｍｍの碁盤の目の切り込みを形成し、ニチバン社製 セロテープ（登録商標）（商品名）で剥離試験を行った。１００個の升目の剥離の有無をカウントして、全く剥離のないものは、１００／１００とし、すべての升目がセロテープ（登録商標）にくっついて剥離した場合を０／１００とした。○は１００／１００を示し、△は９９〜１／１００を示し、×は０／１００を示す。なお、例６については、導電性Ａｌテープを用いたためデータが得られなかった。

＜試験結果＞
試験結果を表１に示す。

本発明の第１の実施形態に係る光学フィルタの構成を示す断面図である。 図１の矢印Ａ方向から見た光学フィルタの上面図である。 透明高分子基材１２０上に形成された電磁波遮蔽層１３０の構成を示す断面図である。 透明高分子基材１２０上に形成された電磁波遮蔽層１３０の他の構成を示す斜視図である。 本発明の第２の実施形態に係る光学フィルタの構成を示す上面図である。 本発明の第２の実施形態に係る光学フィルタの他の構成を示す上面図である。 本発明の第１若しくは第２の実施形態に係る光学フィルタを用いたプラズマディスプレイ装置の構成を示す一部拡大した断面図である。 本発明の第１若しくは第２の実施形態に係る光学フィルタを用いたプラズマディスプレイ装置の他の構成を示す一部拡大した断面図である。 本発明の光学フィルタの製造過程における構成を示す断面図である。 本発明の光学フィルタの製造過程における構成を示す断面図である。 本発明の光学フィルタの製造過程における構成を示す上面図である。

符号の説明

１００：透明基板
１１０：粘着層
１２０：透明高分子基材
１３０：電磁波遮蔽層
１４０：粘着層
１５０：付加機能層
１６０：電極
７００：前面キャビネット
７１０、８２０：導電性ガスケット
８１０：背面キャビネット
８３０：導電性テープ

Claims (7)

1. 中央領域と前記中央領域を囲む周辺領域とを有する主表面を有する透明基板と、
   前記透明基板の前記中央領域の前記主表面上に形成され、電磁波を遮蔽する第１の層と、
   前記第１の層上に形成され、含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を含有する主表面を有する第２の層と、
   前記周辺領域の前記主表面上のみに形成され、前記第１の層と電気的に接続される導電性部材により構成される第３の層とを含むことを特徴とする光学フィルタ。
2. 前記第２の層は、含フッ素重合体又は含ケイ素重合体を含有する主表面を有することを特徴とする請求項１に記載の光学フィルタ。
3. 前記第２の層と前記第３の層とは互いに接触しないことを特徴とする請求項１又は２に記載の光学フィルタ。
4. 前記第１および第２の層の側面の第１端部から第２端部までの長さＡは、前記第１端部と前記第２端部を結ぶ仮想直線の長さをａとした場合に、
   1＜（Ａ／ａ）≦１０
   という関係を満たすことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の光学フィルタ。
5. 中央領域と前記中央領域を囲む周辺領域とを有する主表面を有する透明基板を準備する工程と、
   前記透明基板の前記主表面上に、電磁波を遮蔽するための第１の層を形成する工程と、
   前記第１の層上に、含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を含有する主表面を有する第２の層を形成する工程と、
   前記透明基板の前記周辺領域の前記主表面上に形成された前記第１及び第２の層を除去する工程と、
   前記第１及び第２の層が除去された前記透明基板の前記周辺領域の前記主表面上に、前記第１の層と電気的に接続するように導電性部材により構成される第３の層を形成する工程とを有する光学フィルタの製造方法。
6. 中央領域と前記中央領域を囲む周辺領域とを有する主表面を有する透明基板と、前記透明基板の前記中央領域の前記主表面上に形成され電磁波を遮蔽する第１の層と、前記第１の層上に形成され含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を含有する主表面を有する第２の層と、前記周辺領域の前記主表面上のみに形成され前記第１の層と電気的に接続される導電性部材により構成される第３の層と含む光学フィルタと、
   前記第３の層上に形成される導電性部材と、
   前記導電性弾性材と接触し、前記第３の層と電気的に接続される前面キャビネットとを備えたことを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
7. 中央領域と前記中央領域を囲む周辺領域とを有する主表面を有する透明基板と、前記透明基板の前記中央領域の前記主表面上に形成され電磁波を遮蔽する第１の層と、前記第１の層上に形成され含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を含有する主表面を有する第２の層と、前記周辺領域の前記主表面上のみに形成され前記第１の層と電気的に接続される導電性部材により構成される第３の層と含む光学フィルタと、
   前記第３の層の上面及び側面と前記透明基板の側面及び裏面に亘って形成される導電性部材と、
   前記透明基板の前記裏面に形成された前記導電性部材と接触し、前記第３の層と電気的に接続される背面キャビネットとを備えたことを特徴とするプラズマディスプレイ装置。

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