JP2009239044A - 光学フィルタ及びそれを用いたプラズマディスプレイ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】主面及び主面に対向する裏面を有する透明基板と、透明基板の主面上に設けられる電極と、透明基板の主面上及び電極上に設けられる粘着層と、粘着層上に設けられ電極と電気的に接続される導電性金属膜と、透明基板の裏面に設けられる反射防止層とを備え、粘着層に対向する電極の主面には凹凸により幾何学図形を設け、電極上に設けられる粘着層の厚みを25μm以下とする。
【選択図】 図1
Description
透明基板の材料としては、ガラス板(風冷強化ガラス、化学強化ガラス等の強化ガラスを含む)、及び後述する透明高分子基材の材料と同様の材料等が挙げられる。透明基板の厚さは、特に限定されないが、1〜10mm程度が好ましい。透明基板は、六面を有する直方体であり、主面と、主面に対向する裏面と、主面及び裏面と接する4つの側面とを有する。ここで、主面は、第1及び第2の周辺領域と、第1及び第2の周辺領域とに挟まれる中央領域とを有する。
電極は、透明基板の主面の第1及び第2の周辺領域に、主面を構成する辺に沿って設けられる。電極の表面は、平坦である。なお、粘着層との密着や導電性金属膜との電気的接続を考慮して、電極の表面に幾何学図形の凹凸が形成されているのが好ましい。ここで、幾何学図形とは、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの四角形、(正)六角形、(正)八角形、(正)十二角形、(正)二十角形などの(正)n角形(nは正の整数)、円、だ円、星型などを組み合わせた模様であり、これらの単位の単独の繰り返し、あるいは2種類以上組み合わせで使うことも可能である。ここで、凹部を構成する底面から凸部の先端までの最短距離は、粘着層の厚みを考慮すると、20μm以上であることが好ましい。粘着層との密着力を考慮すると、1mm以下が好ましい。また、凸部の先端の幅は、密着力を考慮すると、40μm以下が好ましい。
粘着層は、電極の一部を露出するように、透明基板の主面の第1及び第2の周辺領域及び中央領域に設けられる。電極上に設けられる粘着層の厚さは、電極との密着及び電気的接続を考慮すると、25μm以下が好ましい。また、粘着層が薄すぎると、電極の凹部内に粘着層が満たされず、導電性金属膜との密着力が低下してしまう。そのため、粘着層の厚さは、電極の凹部内に粘着層が満たされる程度の厚さがあることが好ましい。なお、粘着層のゲル分率は、70〜10%であり、好ましくは68〜15%、より好ましくは65〜29%である。また、粘着剤の弾性率は、1×103〜1×107Paである。粘着剤が柔から過ぎたり硬すぎたりすると導電性金属膜との密着性を損なうため、1×104〜1×106Paが好ましい。
電磁波遮蔽フィルムは、PDP装置から発する電磁波を遮蔽する部材であり、粘着層上に設けられ、透明基板上の電極と電気的に接続されている。電磁波遮蔽フィルムは、導電性金属膜と、透明高分子基材とを有する。
<導電性金属膜>
導電性金属膜は、複数の貫通孔を有するメッシュタイプや、透明導電性薄膜を積層する積層タイプがある。
透明高分子基材及び透明高分子基体の材料としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリスチレン(PS)、スチレンメチルメタアクリレート(MS)等の透明プラスチック材料が挙げられる。
メッシュタイプの導電性金属膜を選択した場合、導電性金属膜と透明高分子基材とを接合するために、接着剤が必要となる。接着方法としては、積層(ラミネート)法とドライラミネート法がある。積層法は、接着剤又は粘着剤の樹脂、又はこれらの混合物を、加熱熔融物、未架橋重合物、ラテックス、水分散液、又は有機溶媒液等の流動体として、スクリーン印刷、グラビア印刷、コンマコート、ロールコートなどの公知の印刷又はコーティング法で、印刷又は塗布し、必要に応じて乾燥した後に、他方の材料と重ねて加圧した後、接着剤(粘着剤層)を固化すれば良い。接着層の膜厚としては、0.1〜20μm(乾燥状態)程度、好ましくは1〜10μmが好ましい。ドライラミネート法とは、溶媒へ分散または溶解した接着剤を、乾燥後の膜厚が0.1〜20μm(乾燥状態)程度、好ましくは1〜10μmとなるように、例えば、ロールコーティング、リバースロールコーティング、グラビアコーティングなどのコーティング法で塗布し、溶剤などを乾燥して、接着層を形成したら直ちに、貼り合せ基材を積層した後に、30〜80℃で数時間〜数日間のエージングで接着剤を硬化させることで、2種の材料を積層させる方法である。ドライラミネーション法で用いる接着層としては、熱、または紫外線や電子線などの電離放射線で硬化する接着剤が適用できる。熱硬化接着剤としては、具体的には、トリレンジイソシアネートやヘキサメチレンジイソシアネート等の多官能イソシアネートと、ポリエーテル系ポリオール、ポリアクリレートポリオール等のヒドロキシル基含有化合物との反応により得られる2液硬化型ウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、ゴム系接着剤などが適用できるが、2液硬化型ウレタン系接着剤が好適である。
反射防止層は、屈折率が異なる層を積層して、層を通過する光の干渉性を利用して、可視領域における反射率の低減を図るものである。反射防止層は、乾式法(スパッタリング法等)や湿式法により形成され、単層や少なくとも各々1層以上である高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層されている。この積層構造は、高屈折率層と低屈折率層の2層構造であってもよく、高屈折率層の両側に低屈折率層を設けたサンドイッチ構造の3層構造であってもよく、複数の高屈折率層と複数の低屈折率層を交互に積層した4層以上の積層構造であってもよい。但し、積層構造の最も視認側に位置する層は、低屈折率層であることが好ましい。積層させる層数は、必要に応じて適宜選択することができるが、好ましい層数は2〜7である。積層構造の総数が2〜7であると、反射防止特性に優れており、かつ生産性にも優れている。これらの層はそれぞれ、優れた反射防止特性を得るため、後述する所定の膜厚(屈折率n×層厚d)を構成するのが好ましい。
上記の式において、dは層厚み(nm)、λは光の波長(550nm)、nは層構成物質の屈折率を表す。
透明基板若しくは透明高分子基材の表面に塗布される反射防止用のコート剤は、有機化合物を含む重合性配合物、無機酸化物微粒子とバインダー、ゾルーゲル反応物の溶液である。有機化合物としては、含フッ素化合物が挙げられる。この中で、低屈折率と硬度のため、不飽和基を持つ含フッ素化合物が好ましい。なお、屈折率の調整等のために、無機化合物を混合しても良い。無機化合物としては、フッ化マグネシウム、酸化珪素、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化トリウムの微粒子が挙げられる。好ましくは、フッ化マグネシウムである。
光学フィルタは、付加機能層を備えてもよい。付加機能層は、含フッ素化合物または含ケイ素化合物を含有する主面を有する。含フッ素化合物は含フッ素重合体が好ましく、含ケイ素化合物は含ケイ素重合体が好ましい。例えば、付加機能層として、防汚層が挙げられる。
「飛散防止用樹脂フィルム」
本発明の光学フィルタにおいては、特に基体としてガラス板を用いる場合に、光学フィルタの前面側(観察者側)及び/又は裏面側(表示装置側)に、飛散防止用樹脂フィルムが設けられていることが好ましい。飛散防止用樹脂フィルムとしては、特に制限はなく、一般的に光学フィルタに用いられているもの、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリスチレン(PS)、スチレンメチルメタアクリレート(MS)等が使用できる。
本発明の光学フィルタにおいては、光学フィルタの前面側(観察者側)及び/又は裏面側(表示装置側)に、近赤外線遮蔽フィルムが設けられていてもよい。
プラズマディスプレイ装置は、電極が形成された主面を有する透明基板と、透明基板の主面及び電極上に設けられ電極上に設けられる厚さが25μm以下である粘着層と、粘着層上に設けられ電極と電気的に接続される導電性金属膜とを含む光学フィルタを備える。
以下、図面を用いて、本発明の第1の実施形態に係る光学フィルタについて説明する。図1は、本発明の第1の実施形態に係る光学フィルタの構成を示す上面図である。図2は、図1の光学フィルタをA−A線で切断したときの断面図である。ここで、図1の光学フィルタは、図2のB側から見た上面図である。図2において、B側はデバイス側であり、C側は人側である。図3は、図2の光学フィルタの一部200を拡大した部分断面図である。
以下、図面を用いて、本発明の第2の実施形態に係る光学フィルタについて説明する。図4は、図1の光学フィルタをA−A線で切断したときの断面図である。なお、以下に記載する実施形態において、第1の実施形態に対応する構成要素には、同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
以下、図面を用いて、本発明の第3の実施形態に係る光学フィルタについて説明する。図5は、図1の光学フィルタをA−A線で切断したときの断面図である。なお、以下に記載する実施形態において、第1及び第2の実施形態に対応する構成要素には、同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
以下、図面を用いて、本発明の第4の実施形態に係る光学フィルタについて説明する。図6は、光学フィルタの断面図である。図6は図1の光学フィルタとは構成要件の配置の向きが異なるが、図1の光学フィルタをA−A線で切断したときの断面図とみなしても良い。なお、以下に記載する実施形態において、第1〜3の実施形態に対応する構成要素には、同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
以下、図面を用いて、本発明のプラズマディスプレイ装置について説明する。図7は、本発明のプラズマディスプレイ装置の断面図である。なお、以下に記載する実施形態において、第1〜4の実施形態に対応する構成要素には、同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
図2に示す構成の光学フィルタを、以下の手順で作製した。
厚さ17mm幅、厚さ0.15mmの逆エンボス型金属箔テープ(3M社製、商品名:3245)を用いた以外は実施例1と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを作成した。
粘着層の厚みを50μmとした以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを作成した。
電磁波遮蔽効果を評価するために、ディスプレイ用光学フィルタをプラズマディスプレイ(松下電器産業(株)製のプラズマディスプレイテレビ TH―42PZ700の前面光学フィルタを取り外したもの)に取り付け、筐体の外部電極と導通が取れるように組み立てた。電磁波遮蔽体の放射電界強度は、情報処理装置等電波障害自主規制協議会(以下、VCCIという。)の技術基準に規定された方法に準じて測定した。
電磁波遮蔽フィルムの導電性メッシュと電極間の導電性を評価するため、ディスプレイ用光学フィルタの該当部を剥離し、光学顕微鏡で接触点を観察した。
110 電極
120 粘着層
130 電磁波遮蔽フィルム
300 導電性金属膜
310 接着剤
320 透明高分子基材
Claims (5)
- 主面を有する透明基板と、前記透明基板の前記主面上に設けられる電極と、前記透明基板の前記主面上及び前記電極上に設けられる粘着層と、前記粘着層上に設けられ前記電極と電気的に接続される導電性金属膜とを備えた光学フィルタであって、
前記電極上に設けられる前記粘着層の厚みは25μm以下であることを特徴とする光学フィルタ。 - 前記粘着層に対向する前記電極の主面には凹凸により幾何学図形が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルタ。
- 前記透明基板は前記主面に対向する裏面を有し、
前記透明基板の前記裏面上に設けられる反射防止層を備えたことを特徴とする請求項1または2に記載の光学フィルタ。 - 主面及び前記主面に対向する裏面を有し、前記裏面が前記導電性金属膜に対向するように、前記導電性金属膜上に設けられる透明高分子基材と、
前記透明高分子基材の前記主面上に設けられる反射防止層を備えたことを特徴とする請求項1または2に記載の光学フィルタ。 - 電極が形成された主面を有する透明基板と、前記透明基板の前記主面上及び前記電極上に設けられ、前記電極上に設けられる厚さが25μm以下である粘着層と、前記粘着層上に設けられ前記電極と電気的に接続される導電性金属膜とを含む光学フィルタを備えたプラズマディスプレイ装置。
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JP2008083655A JP2009239044A (ja) | 2008-03-27 | 2008-03-27 | 光学フィルタ及びそれを用いたプラズマディスプレイ装置 |
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2008
- 2008-03-27 JP JP2008083655A patent/JP2009239044A/ja not_active Withdrawn
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