JP2005183742A - 電磁波遮蔽シート - Google Patents
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Abstract
【課題】 低コストで簡易な工程で製造でき、高い電磁波遮蔽能を有し、耐久性も良好な電磁波遮蔽シートの提供。
【解決手段】 透明高分子基材と、該透明高分子基材上に形成された導電膜と、該導電膜に電気的に接している電極とを有する電磁波遮蔽シートであって、電極が、超音波はんだ付けにより導電膜上に直接形成されていることを特徴とする電磁波遮蔽シート。
【選択図】 図1
【解決手段】 透明高分子基材と、該透明高分子基材上に形成された導電膜と、該導電膜に電気的に接している電極とを有する電磁波遮蔽シートであって、電極が、超音波はんだ付けにより導電膜上に直接形成されていることを特徴とする電磁波遮蔽シート。
【選択図】 図1
Description
本発明は、プラズマディスプレイパネル(以下、PDPと略す。)等の表示装置の観察者側に設置され、該表示装置から発生する電磁ノイズを遮蔽する電磁波遮蔽能を有する電磁波遮蔽シートに関する。
PDP等の表示装置の前面からは、人体に有害な電磁波が発生している。従来、この電磁波を遮蔽するための光学フィルタとして、PDP等の表示装置の観察者側に、プラスチックフィルム等の透明高分子基材上に導電膜を設けた電磁波遮蔽シートを配置することが行われている。
電磁波遮蔽シートの電磁波遮蔽能は、導電膜のシート抵抗が低いほど高い。電磁波遮蔽シートに要求される電磁波遮蔽能は、適用される表示装置の種類によって異なり、例えば陰極線管(CRT)用として用いられる場合、電磁波遮蔽シートの導電膜のシート抵抗が500Ω以下程度で充分であるのに対し、PDP用として用いられる場合、電磁波遮蔽シートの導電膜のシート抵抗は、3Ω以下程度の低いシート抵抗値が求められている。
電磁波遮蔽シートの電磁波遮蔽能は、導電膜のシート抵抗が低いほど高い。電磁波遮蔽シートに要求される電磁波遮蔽能は、適用される表示装置の種類によって異なり、例えば陰極線管(CRT)用として用いられる場合、電磁波遮蔽シートの導電膜のシート抵抗が500Ω以下程度で充分であるのに対し、PDP用として用いられる場合、電磁波遮蔽シートの導電膜のシート抵抗は、3Ω以下程度の低いシート抵抗値が求められている。
導電膜には、通常、アースを取るための電極が、該導電膜に電気的に接するように設けられている。
図9に、従来の電磁波遮蔽シート101の概略断面図を示す。従来の電磁波遮蔽シート101は、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム等の透明高分子基材102と、該透明高分子基材102上に設けられた導電膜103と、該導電膜103上に設けられた電極104とを備えている。また、電極104には、接点との導通のために、導電性接着層105を介して、アルミテープ等の導電テープ106が接続されている。
導電膜103上には、さらに、色調調整のための着色層107、補強層108、反射防止膜(高屈折率層109、低屈折率層110)等が設けられている。
また、透明高分子基材102上には、さらに、粘着剤層111を介して、ガラス板等の支持基体112が設けられている。
図9に、従来の電磁波遮蔽シート101の概略断面図を示す。従来の電磁波遮蔽シート101は、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム等の透明高分子基材102と、該透明高分子基材102上に設けられた導電膜103と、該導電膜103上に設けられた電極104とを備えている。また、電極104には、接点との導通のために、導電性接着層105を介して、アルミテープ等の導電テープ106が接続されている。
導電膜103上には、さらに、色調調整のための着色層107、補強層108、反射防止膜(高屈折率層109、低屈折率層110)等が設けられている。
また、透明高分子基材102上には、さらに、粘着剤層111を介して、ガラス板等の支持基体112が設けられている。
このような従来の電磁波遮蔽シート101において、電極104は、一般的に、銀ペースト印刷により形成されている(例えば、特許文献1〜2参照)。
しかし、銀ペースト印刷による電極形成は、印刷の版を予め作製したり、高精度の印刷を行う必要があるなど、製造工程が複雑である。
また、電極と導電膜との間の接触抵抗を低くするために、銀ペーストをある程度広い面積で、例えば非表示部全体に印刷する必要があるため、印刷のわずかなずれによっても、表示部にはみ出して銀ペーストが印刷され、外観を損ないやすい。また、銀ペーストも多量に必要となるため、材料費がかかり、コストが高い。
さらに、図9に示すように、電極104は、導電性接着層105を介して導電テープ106に接続されているが、導電テープ106と導電性接着層105の間、あるいは電極104と導電性接着層105との間の接着面は、耐久性が低く、剥がれやすい。これは、電磁波遮蔽シートの電磁波遮蔽能の低下の一因となり、電磁波遮蔽シートの性能を低下させる。
しかし、銀ペースト印刷による電極形成は、印刷の版を予め作製したり、高精度の印刷を行う必要があるなど、製造工程が複雑である。
また、電極と導電膜との間の接触抵抗を低くするために、銀ペーストをある程度広い面積で、例えば非表示部全体に印刷する必要があるため、印刷のわずかなずれによっても、表示部にはみ出して銀ペーストが印刷され、外観を損ないやすい。また、銀ペーストも多量に必要となるため、材料費がかかり、コストが高い。
さらに、図9に示すように、電極104は、導電性接着層105を介して導電テープ106に接続されているが、導電テープ106と導電性接着層105の間、あるいは電極104と導電性接着層105との間の接着面は、耐久性が低く、剥がれやすい。これは、電磁波遮蔽シートの電磁波遮蔽能の低下の一因となり、電磁波遮蔽シートの性能を低下させる。
また、例えば特許文献3には、機能フィルムの導電層をより確実にアース接続可能な機能フィルム付き陰極線管として、陰極線管の表示面上に直接形成された導通電極と、高機能フィルムの導電層とを直接接触させ、高機能フィルムと陰極線管の表示面との間に導通電極の一部を挟み込むように配置した陰極線管が記載されている。しかし、この陰極線管においては、導通電極と導電層との間の抵抗が大きく、電磁波遮蔽能が低い。そのため、例えばPDP用として用いることは困難である。
特開2003−98339号公報
特開2003−58064号公報
特開2002−270117号公報
本発明は、低コストで簡易な工程で製造でき、高い電磁波遮蔽能を有し、耐久性も良好な電磁波遮蔽シートを提供することを目的とする。
本発明者らは、鋭意検討を行った結果、電極を、超音波はんだ付けにより導電膜上に直接形成することで、上記課題が解決されることを見い出し、その知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、透明高分子基材と、該透明高分子基材上に形成された導電膜と、該導電膜に電気的に接している電極とを有する電磁波遮蔽シートであって、
電極が、超音波はんだ付けにより導電膜上に直接形成されていることを特徴とする電磁波遮蔽シートを提供する。
すなわち、本発明は、透明高分子基材と、該透明高分子基材上に形成された導電膜と、該導電膜に電気的に接している電極とを有する電磁波遮蔽シートであって、
電極が、超音波はんだ付けにより導電膜上に直接形成されていることを特徴とする電磁波遮蔽シートを提供する。
本発明の電磁波遮蔽シートは、低コストで簡易な工程で製造でき、高い電磁波遮蔽能を有し、耐久性も良好なものである。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の電磁波遮蔽シートは、透明高分子基材と、該透明高分子基材上に形成された導電膜と、該導電膜に電気的に接している電極とを有する電磁波遮蔽シートである。
本発明の電磁波遮蔽シートは、透明高分子基材と、該透明高分子基材上に形成された導電膜と、該導電膜に電気的に接している電極とを有する電磁波遮蔽シートである。
本発明の電磁波遮蔽シートは、電極が、超音波はんだ付けにより導電膜上に直接形成されていることを特徴とするものである。
本発明の電磁波遮蔽シートのシート抵抗は3Ω以下である。そのため、PDP等の表示装置用として充分な電磁波遮蔽性能を有する。シート抵抗は、0.4〜3Ωが好ましく、0.5〜2.5Ωがより好ましく、さらには0.6〜1.5Ωが好ましい。
また、本発明の電磁波遮蔽シートは、PDP等の表示装置の前面に配置されるものであるため、ディスプレイが見にくくならないように、可視光線透過率が40%以上であることが好ましい。
また、本発明の電磁波遮蔽シートの可視光線反射率は6%未満であることが好ましく、特に3%未満であることが好ましい。
また、本発明の電磁波遮蔽シートの可視光線反射率は6%未満であることが好ましく、特に3%未満であることが好ましい。
<透明高分子基材>
透明高分子基材の材料としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリスチレン(PS)、スチレンメチルメタアクリレート(MS)等の透明プラスチック材料が挙げられる。
透明高分子基材の厚さは、特に限定されないが、50〜250μm程度が好ましい。
透明高分子基材の材料としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリスチレン(PS)、スチレンメチルメタアクリレート(MS)等の透明プラスチック材料が挙げられる。
透明高分子基材の厚さは、特に限定されないが、50〜250μm程度が好ましい。
<導電膜>
導電膜としては、シート抵抗が3Ω未満のものであれば、一般に、PDP等の表示装置用の電磁波遮蔽シートに用いられているものが使用できる。例えば、スパッタ法やイオンプレーティング法などの薄膜形成技術を用いて形成される5〜20nmの金属膜や、該金属膜と金属酸化物からなる酸化物層とを多層に積層した導電性多層膜等の、透光性の導電膜を用いることができる。
導電膜としては、シート抵抗が3Ω未満のものであれば、一般に、PDP等の表示装置用の電磁波遮蔽シートに用いられているものが使用できる。例えば、スパッタ法やイオンプレーティング法などの薄膜形成技術を用いて形成される5〜20nmの金属膜や、該金属膜と金属酸化物からなる酸化物層とを多層に積層した導電性多層膜等の、透光性の導電膜を用いることができる。
透光性の導電膜に用いる金属膜としては、Au、AgおよびCuからなる群から選ばれる1種以上の金属又は該金属を主成分とする層が好ましく、特に、比抵抗が小さく、吸収が小さいことから、Agを主成分とする金属層が好ましい。さらにAgを主成分とする金属層としては、Agの拡散を抑制し、結果として耐湿性が向上することから、Agを主成分としPd、AuまたはCuの少なくとも一つを含む金属層であることが好ましい。Pd、AuまたはCuの少なくとも一つの含有割合は、AgとPd、AuまたはCuの少なくとも一つの含量との総量に対して0.3〜10原子%であることが好ましい。0.3原子%以上であればAgの安定化の効果が得られると共に、10原子%以下とすることで良好な耐湿性を維持しつつ、良好な成膜速度及び可視光透過率が得られる。したがって、以上の観点からは、添加量は5.0原子%以下が適当である。また、添加量が増加するとターゲットコストが著しく増加するので、通常必要な耐湿性を勘案すると、0.5〜2.0原子%程度の範囲となる。単層として透光性の導電層を形成する場合、この金属層の厚さは好ましくは5〜20nm、より好ましくは8〜15nmとされる。この金属層の形成方法は特に限定されないが、透明基板の一方の面側に直接、薄い金属膜を均一に成膜可能なスパッタ法を用いて成膜することが好ましい。
この導電層としては、低いシート抵抗値、低い反射率、高い可視光線透過率が得られることから、透明な合成樹脂フィルムなどの適当な透明基板上に、酸化物層と金属層を交互に積層した多層導電膜、特に、酸化物層、金属層、酸化物層、と交互に計(2n+1)層(nは1以上の整数)積層された多層導電膜が好適に使用される。
酸化物層としては、Bi、Zr、Al、Ti、Sn、InおよびZnからなる群から選ばれる1種以上の金属の酸化物を主成分とする層が挙げられる。好ましくはTi、Sn、InおよびZnからなる群から選ばれる1種以上の金属の酸化物を主成分とする層である。特に、吸収が小さく、屈折率が2前後であることから、ZnOを主成分とする層、屈折率が大きく、好ましい色調を少ない層数で得られやすいことからTiO2を主成分とする層が好ましい。
酸化物層としては、Bi、Zr、Al、Ti、Sn、InおよびZnからなる群から選ばれる1種以上の金属の酸化物を主成分とする層が挙げられる。好ましくはTi、Sn、InおよびZnからなる群から選ばれる1種以上の金属の酸化物を主成分とする層である。特に、吸収が小さく、屈折率が2前後であることから、ZnOを主成分とする層、屈折率が大きく、好ましい色調を少ない層数で得られやすいことからTiO2を主成分とする層が好ましい。
酸化物層は、複数の薄い酸化物層から構成されていてもよい。例えば、ZnOを主成分とする酸化物層に代えて、SnO2を主成分とする層とZnOを主成分とする層とから形成することもできる。
ZnOを主成分とする酸化物層は、Zn以外の1種以上の金属を含有するZnOからなる酸化物層であることが好ましい。含有された前記の1種以上の金属は、酸化物層中では主として酸化物の状態で存在している。1種以上の金属を含有するZnOとしては、Sn、Al、Cr、Ti、Si、B、MgおよびGaからなる群から選ばれる1種以上の金属を含有するZnOが好ましく挙げられる。前記1種以上の金属の含有割合は、得られる導電膜の耐湿性が向上することから、該金属の合計量とZnとの総量に対して1〜10原子%が好ましい。1原子%以上とすれば、充分にZnO膜の内部応力を低減せしめて、良好な耐湿性を得ることができる。また10原子%以下とすれば、ZnOの結晶性が良好に維持されると共に、金属層との相性が低下することがない。安定して再現性よく低内部応力のZnO膜を得ること、およびZnOの結晶性を考慮すると、金属の含有割合は2〜6原子%が好ましい。
ZnOを主成分とする酸化物層は、Zn以外の1種以上の金属を含有するZnOからなる酸化物層であることが好ましい。含有された前記の1種以上の金属は、酸化物層中では主として酸化物の状態で存在している。1種以上の金属を含有するZnOとしては、Sn、Al、Cr、Ti、Si、B、MgおよびGaからなる群から選ばれる1種以上の金属を含有するZnOが好ましく挙げられる。前記1種以上の金属の含有割合は、得られる導電膜の耐湿性が向上することから、該金属の合計量とZnとの総量に対して1〜10原子%が好ましい。1原子%以上とすれば、充分にZnO膜の内部応力を低減せしめて、良好な耐湿性を得ることができる。また10原子%以下とすれば、ZnOの結晶性が良好に維持されると共に、金属層との相性が低下することがない。安定して再現性よく低内部応力のZnO膜を得ること、およびZnOの結晶性を考慮すると、金属の含有割合は2〜6原子%が好ましい。
酸化物層の幾何学的膜厚(以下、単に膜厚という)は、最も透明基板に近い酸化物層および最も透明基板から遠い酸化物層は20〜60nm(特に30〜50nm)、それ以外の酸化物層は40〜120nm(特に40〜100nm)とすることが好ましい。
金属層の合計膜厚は、例えば得られる導電層のシート抵抗値の目標を2.5Ωとした場合、25〜40nm(特に25〜35nm)、シート抵抗値の目標を1.5Ωとした場合、35〜50nm(特に35〜45nm)とすることが好ましい。
酸化物層と金属層との全合計膜厚は、例えば、金属層数が2の場合は150〜220nm(特に160〜200nm)、金属層数が3の場合は230〜330nm(特に250〜300nm)、金属層数が4の場合は270〜370nm(特に310〜350nm)であることが好ましい。
金属層の合計膜厚は、例えば得られる導電層のシート抵抗値の目標を2.5Ωとした場合、25〜40nm(特に25〜35nm)、シート抵抗値の目標を1.5Ωとした場合、35〜50nm(特に35〜45nm)とすることが好ましい。
酸化物層と金属層との全合計膜厚は、例えば、金属層数が2の場合は150〜220nm(特に160〜200nm)、金属層数が3の場合は230〜330nm(特に250〜300nm)、金属層数が4の場合は270〜370nm(特に310〜350nm)であることが好ましい。
上記第1の金属層と第2の酸化物層との間、第2の金属層と第3の酸化物層との間、第3の金属層と第4の酸化物層との間には、酸化物層形成時に、金属層が酸化されることを防止するための別の層(以下、酸化バリア層という。)を設けることができる。
酸化バリア層としては、例えば、金属層、酸化物層、窒化物層が用いられる。具体的には、Al、Ti、Si、GaおよびZnからなる群から選ばれる1種以上の金属、該金属の酸化物、窒化物などである。好ましくは、TiやSiとGaとを含有するZnOを用いる。酸化バリア層の膜厚は1〜7nmが望ましい。1nmより厚いとバリア層としての働きを充分に示す。7nmより薄いと導電膜の可視光線透過率を高くできる。
酸化バリア層としては、例えば、金属層、酸化物層、窒化物層が用いられる。具体的には、Al、Ti、Si、GaおよびZnからなる群から選ばれる1種以上の金属、該金属の酸化物、窒化物などである。好ましくは、TiやSiとGaとを含有するZnOを用いる。酸化バリア層の膜厚は1〜7nmが望ましい。1nmより厚いとバリア層としての働きを充分に示す。7nmより薄いと導電膜の可視光線透過率を高くできる。
<電極>
電極は、導電膜の電磁波遮蔽効果が発揮されるように、導電膜と電気的に接するように設けられる。
本発明は、電極が、超音波はんだ付けにより導電膜上に直接形成されたものであることを特徴とする。超音波はんだ付けにより形成された電極は、導電膜との間の抵抗が、銀ペースト印刷により電極を形成した場合よりも小さい。そのため、見かけの抵抗を容易に3Ω以下とすることができる。
ここで、「見かけの抵抗」とは、導電膜上に形成された電極の、異なる2点間における導電膜を介した抵抗を意味する。
電極は、導電膜の電磁波遮蔽効果が発揮されるように、導電膜と電気的に接するように設けられる。
本発明は、電極が、超音波はんだ付けにより導電膜上に直接形成されたものであることを特徴とする。超音波はんだ付けにより形成された電極は、導電膜との間の抵抗が、銀ペースト印刷により電極を形成した場合よりも小さい。そのため、見かけの抵抗を容易に3Ω以下とすることができる。
ここで、「見かけの抵抗」とは、導電膜上に形成された電極の、異なる2点間における導電膜を介した抵抗を意味する。
超音波はんだ付けに用いられる材料(超音波はんだ材)、すなわち電極を構成する材料は、抵抗が低い方が電磁波遮蔽性能の点で優位となる。好ましいはんだ材料としては、例えばSn−Zn、Sn−In、Sn−Pb等が挙げられる。はんだ材の融点は、導電膜上に超音波はんだ付けを行う際に透明高分子基材を痛めないように、180℃以下であることが好ましく、100〜170℃であることがより好ましく、140〜160℃であることがさらに好ましい。
好ましく用いられる超音波はんだ材としては、例えば黒田テクノ社製の「セラソルザ・エコ♯155」(融点155℃)等が市販されている。
好ましく用いられる超音波はんだ材としては、例えば黒田テクノ社製の「セラソルザ・エコ♯155」(融点155℃)等が市販されている。
超音波はんだ付けにより形成される電極(以下、超音波はんだ電極ということがある)は、超音波はんだ材の種類、導電膜のシート抵抗等を考慮して、はんだにて形成する電極面積を設定する。すなわち、見かけの抵抗が3Ω以下となる面積に設定する。
超音波はんだ電極の形状は、ドット状、点線状、導電膜の周辺全体にわたって連続した線状等の任意の形状であってよい。
電極の配置としては、導電膜の電磁波遮蔽効果を確保するためには、形成する電極面積を、導電膜を介した電極間の抵抗(見かけの抵抗)が3Ω以下となるように、導電膜のシート抵抗を考慮して設定する。また、電極は、導電膜の周辺全体に、連続的にまたは非連続的に施すのが好ましい。
電極の配置としては、導電膜の電磁波遮蔽効果を確保するためには、形成する電極面積を、導電膜を介した電極間の抵抗(見かけの抵抗)が3Ω以下となるように、導電膜のシート抵抗を考慮して設定する。また、電極は、導電膜の周辺全体に、連続的にまたは非連続的に施すのが好ましい。
本発明において、超音波はんだ付けは、導電膜上の電極形成部位とはんだとの接合面に超音波を照射しながら行われる。
超音波はんだ付けに用いられる装置(超音波はんだ付け装置)は、超音波発振部と、超音波はんだこて等を備えたはんだ装置などから構成される。
超音波はんだ付け装置としては、例えば、黒田テクノ(株)製の「サンボンダー」、「ファインボンダー」等が市販されている。「サンボンダー」には、こて先の温度調整のためにヒーターの電力を設定する温度調整ツマミと、超音波振動子によって発生する超音波の強度を調節する超音波強度調節ツマミとが設けられている。
超音波はんだ付けに用いられる装置(超音波はんだ付け装置)は、超音波発振部と、超音波はんだこて等を備えたはんだ装置などから構成される。
超音波はんだ付け装置としては、例えば、黒田テクノ(株)製の「サンボンダー」、「ファインボンダー」等が市販されている。「サンボンダー」には、こて先の温度調整のためにヒーターの電力を設定する温度調整ツマミと、超音波振動子によって発生する超音波の強度を調節する超音波強度調節ツマミとが設けられている。
超音波はんだ付けは、例えば以下のようにして行うことができる。まず、超音波はんだこてのこて先温度が、所定の温度となるように、「サンボンダー」の温度調整ツマミを調節してこれを立ち上げる。こて先温度が所定温度で安定したら、電極形成作業を行う。この電極形成作業時に、はんだを供給したこて先を、導電膜上の電極形成位置にあて、超音波を印加して、はんだを所定部に均一に延ばして電極を形成する。
電力量としては、3.5〜4.5Wが好ましく、3.8〜4.2Wがより好ましい。
超音波の周波数としては、通常、62.2kHzが使用される。
超音波は、はんだを形成している間、常に印加されていることが好ましい。
電力量としては、3.5〜4.5Wが好ましく、3.8〜4.2Wがより好ましい。
超音波の周波数としては、通常、62.2kHzが使用される。
超音波は、はんだを形成している間、常に印加されていることが好ましい。
本発明においては、この電極に、さらに、長尺のアース線が接続された構成としてもよい。アース線としては、例えばアルミテープ、銅テープ等の導電性テープを用いることができる。
一般的に、アルミテープを構成するアルミニウム合金は酸化されやすく、アルミテープの表面には酸化被膜が形成されている。そのため、従来電極と導電性テープの接着に用いられていた導電性接着剤や一般的なはんだが定着しにくく、接着強度が低かった。しかし、本発明で用いる超音波はんだ付けでは、超音波を印加することによって酸化被膜を破壊するので、超音波はんだとアルミテープとの接着面の強度が高く、耐久性も高い。したがって、得られる電磁波遮蔽シートの耐久性が改善される。
一般的に、アルミテープを構成するアルミニウム合金は酸化されやすく、アルミテープの表面には酸化被膜が形成されている。そのため、従来電極と導電性テープの接着に用いられていた導電性接着剤や一般的なはんだが定着しにくく、接着強度が低かった。しかし、本発明で用いる超音波はんだ付けでは、超音波を印加することによって酸化被膜を破壊するので、超音波はんだとアルミテープとの接着面の強度が高く、耐久性も高い。したがって、得られる電磁波遮蔽シートの耐久性が改善される。
<各種樹脂フィルム>
「防湿フィルム」
本発明の電磁波遮蔽シートにおいては、導電膜を水分から保護するために、導電膜上に、防湿用の樹脂フィルム(防湿フィルム)が設けられていることが好ましい。
防湿フィルムとしては、特に制限はなく、一般的に電磁波遮蔽シートに用いられているものが使用でき、例えばPET、ポリ塩化ビニリデン等のプラスチック製のフィルムが挙げられる。
「防湿フィルム」
本発明の電磁波遮蔽シートにおいては、導電膜を水分から保護するために、導電膜上に、防湿用の樹脂フィルム(防湿フィルム)が設けられていることが好ましい。
防湿フィルムとしては、特に制限はなく、一般的に電磁波遮蔽シートに用いられているものが使用でき、例えばPET、ポリ塩化ビニリデン等のプラスチック製のフィルムが挙げられる。
「飛散防止用樹脂フィルム」
本発明の電磁波遮蔽シートにおいては、特に基体としてガラス板を用いる場合に、電磁波遮蔽シートの前面側(観察者側)および/または裏面側(表示装置側)に、飛散防止用樹脂フィルムが設けられていることが好ましい。
飛散防止樹脂用フィルムとしては、特に制限はなく、一般的に電磁波遮蔽シートに用いられているものが使用できる。特に、傷がついたとき自己修復する自己修復性と飛散防止特性とを有するウレタン樹脂系のフィルムを用いると良好な結果が得られる。
本発明の電磁波遮蔽シートにおいては、特に基体としてガラス板を用いる場合に、電磁波遮蔽シートの前面側(観察者側)および/または裏面側(表示装置側)に、飛散防止用樹脂フィルムが設けられていることが好ましい。
飛散防止樹脂用フィルムとしては、特に制限はなく、一般的に電磁波遮蔽シートに用いられているものが使用できる。特に、傷がついたとき自己修復する自己修復性と飛散防止特性とを有するウレタン樹脂系のフィルムを用いると良好な結果が得られる。
「反射防止用樹脂フィルム」
本発明の電磁波遮蔽シートにおいては、電磁波遮蔽シートの前面側(観察者側)および/または裏面側(表示装置側)に、反射防止用樹脂フィルムが設けられていることが好ましい。
反射防止用樹脂フィルムとしては、特に制限はなく、一般的に電磁波遮蔽シートに用いられているものが使用できる。特に、フッ素樹脂系のフィルムを用いると良好な結果が得られる。低屈折率の樹脂フィルムは、色調調整のため、有色のフィルムとすることもできる。
また、電磁波遮蔽シートの前面側(観察者側)および/または裏面側(表示装置側)に、反射防止用樹脂フィルムの代わりに、低屈折率の薄膜を形成してもよい。
反射防止用樹脂フィルムまたは低屈折率の薄膜(反射防止層)は、得られる電磁波遮蔽シートの反射率が低くなり好ましい反射色が得られることから、その反射防止層自身について、可視域での反射率が最低となる波長が500〜600nm、特に530〜590nmであることが好ましい。
本発明の電磁波遮蔽シートにおいては、電磁波遮蔽シートの前面側(観察者側)および/または裏面側(表示装置側)に、反射防止用樹脂フィルムが設けられていることが好ましい。
反射防止用樹脂フィルムとしては、特に制限はなく、一般的に電磁波遮蔽シートに用いられているものが使用できる。特に、フッ素樹脂系のフィルムを用いると良好な結果が得られる。低屈折率の樹脂フィルムは、色調調整のため、有色のフィルムとすることもできる。
また、電磁波遮蔽シートの前面側(観察者側)および/または裏面側(表示装置側)に、反射防止用樹脂フィルムの代わりに、低屈折率の薄膜を形成してもよい。
反射防止用樹脂フィルムまたは低屈折率の薄膜(反射防止層)は、得られる電磁波遮蔽シートの反射率が低くなり好ましい反射色が得られることから、その反射防止層自身について、可視域での反射率が最低となる波長が500〜600nm、特に530〜590nmであることが好ましい。
電磁波遮蔽シート自身の飛散防止および反射防止の観点からは、上述した飛散防止用樹脂フィルムと反射防止用樹脂フィルムの機能を兼ね備えた、飛散防止兼反射防止用樹脂フィルムとして、旭硝子社製のARCTOP(商品名)を用いることが好ましい。ARCTOP(商品名)は、自己修復性と飛散防止特性とを有するポリウレタン系軟質樹脂フィルムの片面に、非結晶性の含フッ素重合体からなる低屈折率の反射防上層を形成して反射防止処理を施したものである。
「近赤外線遮蔽フィルム」
本発明の電磁波遮蔽シートにおいては、電磁波遮蔽シートの前面側(観察者側)および/または裏面側(表示装置側)に、近赤外線遮蔽フィルムが設けられていてもよい。
近赤外線遮蔽フィルムとしては、特に制限はなく、一般的に電磁波遮蔽シートに用いられているものが使用できる。
また、近赤外線遮蔽フィルムの代わりに、近赤外線吸収基体を用いる、近赤外線吸収剤を添加した粘着剤をフィルム積層時に使用する、反射防止樹脂フィルム等に近赤外線吸収剤を添加して近赤外線吸収機能を併せ持たせる、近赤外線反射機能を有する導電膜を用いる、等の方法が可能である。
本発明の電磁波遮蔽シートにおいては、電磁波遮蔽シートの前面側(観察者側)および/または裏面側(表示装置側)に、近赤外線遮蔽フィルムが設けられていてもよい。
近赤外線遮蔽フィルムとしては、特に制限はなく、一般的に電磁波遮蔽シートに用いられているものが使用できる。
また、近赤外線遮蔽フィルムの代わりに、近赤外線吸収基体を用いる、近赤外線吸収剤を添加した粘着剤をフィルム積層時に使用する、反射防止樹脂フィルム等に近赤外線吸収剤を添加して近赤外線吸収機能を併せ持たせる、近赤外線反射機能を有する導電膜を用いる、等の方法が可能である。
本発明のPDP用電磁波遮蔽シートにおいては、防湿フィルム、飛散防止用樹脂フィルム、反射防止用樹脂フィルム等の樹脂フィルムを、適宜、色調調整のため、有色のフィルム(着色層)とすることもできる。
たとえば、導電膜は、膜厚等の膜設計によっては着色して見えることがあるが、樹脂フィルムをその補色のフィルムとすることにより、全体の色調のニュートラル化が可能となる。
たとえば、導電膜は、膜厚等の膜設計によっては着色して見えることがあるが、樹脂フィルムをその補色のフィルムとすることにより、全体の色調のニュートラル化が可能となる。
<支持基体>
本発明の電磁波遮蔽シートは、電磁波遮蔽シートの裏面側(表示装置側)に、前記透明高分子基材よりも剛性の高い、透明な支持基材(以下、単に支持基材という。)が設けられていてもよい。
本発明の電磁波遮蔽シートにおいては、支持基材を設けることにより、透明高分子基材の材料がPET等の耐熱性の低い材料であっても、表示装置側の表面と反対側で生じる温度差により反りが発生することがない。
支持基体の材料としては、ガラス板(風冷強化ガラス、化学強化ガラス等の強化ガラスを含む)、および上述した透明高分子基材の材料と同様の材料等が挙げられる。
本発明の電磁波遮蔽シートは、電磁波遮蔽シートの裏面側(表示装置側)に、前記透明高分子基材よりも剛性の高い、透明な支持基材(以下、単に支持基材という。)が設けられていてもよい。
本発明の電磁波遮蔽シートにおいては、支持基材を設けることにより、透明高分子基材の材料がPET等の耐熱性の低い材料であっても、表示装置側の表面と反対側で生じる温度差により反りが発生することがない。
支持基体の材料としては、ガラス板(風冷強化ガラス、化学強化ガラス等の強化ガラスを含む)、および上述した透明高分子基材の材料と同様の材料等が挙げられる。
各種樹脂フィルムおよび/または支持基体を設ける場合、各種樹脂フィルムおよび/または支持基体は、透明高分子基材上および/または導電膜上に、粘着剤層を介して積層されることが好ましい。
粘着剤層の粘着剤としては、市販されている粘着剤を使用することができ、好ましい具体例としては、アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、酢酸ビニル共重合体、スチレンーアクリル酸共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、スチレンーブタジエン共重合体系ゴム、ブチルゴム、又はシリコーン樹脂等の粘着剤を挙げることができる。特に、良好な耐湿性が得られることから、アクリル酸エステル共重合体、スチレンーアクリル酸共重合体等のアクリル系の粘着剤が好ましく用いられる。
また、この粘着剤層には、紫外線吸収剤などの種々の機能を有する添加剤が配合されてもよい。
なお、樹脂フィルムの積層は、粘着剤や接着剤を用いずに、熱による貼り合わせが可能な場合もある。
粘着剤層の粘着剤としては、市販されている粘着剤を使用することができ、好ましい具体例としては、アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、酢酸ビニル共重合体、スチレンーアクリル酸共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、スチレンーブタジエン共重合体系ゴム、ブチルゴム、又はシリコーン樹脂等の粘着剤を挙げることができる。特に、良好な耐湿性が得られることから、アクリル酸エステル共重合体、スチレンーアクリル酸共重合体等のアクリル系の粘着剤が好ましく用いられる。
また、この粘着剤層には、紫外線吸収剤などの種々の機能を有する添加剤が配合されてもよい。
なお、樹脂フィルムの積層は、粘着剤や接着剤を用いずに、熱による貼り合わせが可能な場合もある。
本発明の電磁波遮蔽シートは、表示装置の観察者側に設置すればよく、その配置位置は特に限定されない。たとえば表示装置表面から離して設置してもよいし、表示装置表面に直接貼り付けてもよい。
本発明の電磁波遮蔽シートが使用される表示装置としては、PDP、CRT、フィールドエミッションディスプレイ(FED)等のディスプレイが挙げられる。特に、本発明の電磁波遮蔽シートは、PDP用として好適である。
本発明の電磁波遮蔽シートが使用される表示装置としては、PDP、CRT、フィールドエミッションディスプレイ(FED)等のディスプレイが挙げられる。特に、本発明の電磁波遮蔽シートは、PDP用として好適である。
<第1実施形態>
以下、本発明の電磁波遮蔽シートの第1実施形態について説明する。
図1に、本実施形態の電磁波遮蔽シート1の模式的概略断面図を示す。電磁波遮蔽シート1は、透明高分子基材2と、該透明高分子基材2の観察者側に設けられた導電膜3と、超音波はんだ付けにより導電膜3上に形成された電極4とを備えている。
また、電極4には、接点との導通のために、導電テープ6が接続されている。
導電膜3上には、さらに、色調調整のための着色層7、補強層8、および反射防止膜(高屈折率層9および低屈折率層10)が設けられている。
また、透明高分子基材2の、導電膜3が形成された面と反対側(表示装置側)の面上には、さらに、粘着剤層11を介して、支持基体12が設けられている。
以下、本発明の電磁波遮蔽シートの第1実施形態について説明する。
図1に、本実施形態の電磁波遮蔽シート1の模式的概略断面図を示す。電磁波遮蔽シート1は、透明高分子基材2と、該透明高分子基材2の観察者側に設けられた導電膜3と、超音波はんだ付けにより導電膜3上に形成された電極4とを備えている。
また、電極4には、接点との導通のために、導電テープ6が接続されている。
導電膜3上には、さらに、色調調整のための着色層7、補強層8、および反射防止膜(高屈折率層9および低屈折率層10)が設けられている。
また、透明高分子基材2の、導電膜3が形成された面と反対側(表示装置側)の面上には、さらに、粘着剤層11を介して、支持基体12が設けられている。
導電テープ6には、予め、孔(図示せず)が形成されており、該導電テープ6の一部を導電膜上に積層した後、該孔の上から超音波はんだ付けを行うことにより、電極4の形成と、該電極4への導電テープ6の接続を同時に行うことができる。
<第2実施形態>
次に、本発明のPDP用電磁波遮蔽シートの第2実施形態について説明する。なお、以下に記載する実施形態において、上記実施形態に対応する構成要素には、同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
図2は、本発明の電磁波遮蔽シートの第2実施形態を示す模式的概略断面図である。本実施形態の電磁波遮蔽シート21は、導電テープ6が、電磁波遮蔽シート21の観察者側の面にまで延長されている点で、第1実施形態と異なっている。
これにより、電極の取り出しを、電磁波遮蔽シート21の表示装置側で行うことができる。
次に、本発明のPDP用電磁波遮蔽シートの第2実施形態について説明する。なお、以下に記載する実施形態において、上記実施形態に対応する構成要素には、同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
図2は、本発明の電磁波遮蔽シートの第2実施形態を示す模式的概略断面図である。本実施形態の電磁波遮蔽シート21は、導電テープ6が、電磁波遮蔽シート21の観察者側の面にまで延長されている点で、第1実施形態と異なっている。
これにより、電極の取り出しを、電磁波遮蔽シート21の表示装置側で行うことができる。
<第3実施形態>
次に、本発明のPDP用電磁波遮蔽シートの第3実施形態について説明する。
図3は、本発明の電磁波遮蔽シートの第3実施形態を示す模式的概略断面図である。本実施形態の電磁波遮蔽シート31は、支持基体12の表示装置側に、粘着剤層11を介して、透明高分子基材2、導電膜3、着色層7、補強層8が順に積層されており、導電膜3上に電極4が形成されている。また、支持基体12の観察者側に、反射防止膜(高屈折率9および低屈折率層10)が設けられている。
このような構成にすると、電極の取り出しを表示装置側で行う場合に、導電テープを設けなくともよい。
次に、本発明のPDP用電磁波遮蔽シートの第3実施形態について説明する。
図3は、本発明の電磁波遮蔽シートの第3実施形態を示す模式的概略断面図である。本実施形態の電磁波遮蔽シート31は、支持基体12の表示装置側に、粘着剤層11を介して、透明高分子基材2、導電膜3、着色層7、補強層8が順に積層されており、導電膜3上に電極4が形成されている。また、支持基体12の観察者側に、反射防止膜(高屈折率9および低屈折率層10)が設けられている。
このような構成にすると、電極の取り出しを表示装置側で行う場合に、導電テープを設けなくともよい。
製造例1(導電フィルムの作製)
以下の手順で、図8に示す構成の導電フィルムを作製した。
基材72として厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)を使用し、スパッタ法により、基材72上に反射防止膜73を以下の手順で形成した。
まず、基材72表面の洗浄を目的としたイオンビームソースによる乾式洗浄を以下のようにして行った。まずArガスに約30%の酸素を混合して、100Wの電力を投入した。イオンビームソースによりイオン化されたArイオンおよび酸素イオンを基材72表面に照射した。
以下の手順で、図8に示す構成の導電フィルムを作製した。
基材72として厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)を使用し、スパッタ法により、基材72上に反射防止膜73を以下の手順で形成した。
まず、基材72表面の洗浄を目的としたイオンビームソースによる乾式洗浄を以下のようにして行った。まずArガスに約30%の酸素を混合して、100Wの電力を投入した。イオンビームソースによりイオン化されたArイオンおよび酸素イオンを基材72表面に照射した。
ついで、乾式洗浄処理された基材72表面の一方の面に、アルミナを5質量%ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに3体積%の酸素ガスを混合して導入し、0.15Paの圧力で、周波数100kHz、電力密度4.4w/cm2、反転パルス幅1μsecのパルススパッタを行い、酸化亜鉛膜74(厚さ38nm)を形成した。
ついで、0.5原子%PdをドープしたAg合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、0.3Paの圧力で、周波数100kHz、電力密度0.29w/cm2、反転パルス幅5μsecのパルススパッタを行い、Ag合金膜75(厚さ9nm)を形成した。
ついで、アルミナを5質量%ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに3体積%の酸素ガスを混合して導入し、0.15Paの圧力で、周波数100kHz、電力密度4.4w/cm2、反転パルス幅1μsecのパルススパッタを行い、酸化亜鉛膜76(厚さ76nm)を形成した。
ついで、1.0原子%PdをドープしたAg合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、0.3Paの圧力で、周波数100kHz、電力密度0.34w/cm2、反転パルス幅5μsecのパルススパッタを行い、Ag合金膜77(厚さ12nm)を形成した。
ついで、アルミナを5質量%ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに3体積%の酸素ガスを混合して導入し、0.15Paの圧力で、周波数100kHz、電力密度4.4w/cm2、反転パルス幅1μsecのパルススパッタを行い、酸化亜鉛膜78(厚さ76nm)を形成した。
ついで、1.0原子%PdをドープしたAg合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、0.3Paの圧力で、周波数100kHz、電力密度0.29w/cm2、反転パルス幅5μsecのパルススパッタを行い、Ag合金膜79(厚さ9nm)を形成した。
ついで、アルミナを5質量%ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに3体積%の酸素ガスを混合して導入し、0.15Paの圧力で、周波数100kHz、電力密度4.4w/cm2、反転パルス幅1μsecのパルススパッタを行い、酸化亜鉛膜80(厚さ28nm)を形成した。
ついで、0.5原子%PdをドープしたAg合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、0.3Paの圧力で、周波数100kHz、電力密度0.29w/cm2、反転パルス幅5μsecのパルススパッタを行い、Ag合金膜75(厚さ9nm)を形成した。
ついで、アルミナを5質量%ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに3体積%の酸素ガスを混合して導入し、0.15Paの圧力で、周波数100kHz、電力密度4.4w/cm2、反転パルス幅1μsecのパルススパッタを行い、酸化亜鉛膜76(厚さ76nm)を形成した。
ついで、1.0原子%PdをドープしたAg合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、0.3Paの圧力で、周波数100kHz、電力密度0.34w/cm2、反転パルス幅5μsecのパルススパッタを行い、Ag合金膜77(厚さ12nm)を形成した。
ついで、アルミナを5質量%ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに3体積%の酸素ガスを混合して導入し、0.15Paの圧力で、周波数100kHz、電力密度4.4w/cm2、反転パルス幅1μsecのパルススパッタを行い、酸化亜鉛膜78(厚さ76nm)を形成した。
ついで、1.0原子%PdをドープしたAg合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、0.3Paの圧力で、周波数100kHz、電力密度0.29w/cm2、反転パルス幅5μsecのパルススパッタを行い、Ag合金膜79(厚さ9nm)を形成した。
ついで、アルミナを5質量%ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに3体積%の酸素ガスを混合して導入し、0.15Paの圧力で、周波数100kHz、電力密度4.4w/cm2、反転パルス幅1μsecのパルススパッタを行い、酸化亜鉛膜80(厚さ28nm)を形成した。
ついで、酸化亜鉛膜80上に、保護膜としてITOターゲット(インジューム:スズ=90:10)を用いて、アルゴンに3体積%の酸素ガスを混合して導入し、0.16Paの圧力で、周波数100kHz、電力密度0.48w/cm2、反転パルス幅1μsecのパルススパッタを行い、ITO膜81(厚さ5nm)を形成して、8層構造の導電膜73を有する導電フィルムを得た。
以下のようにして、本発明をより詳細に説明するための実施例および比較例を行った。
実施例1
以下の手順で、図4に示す構成の電極試験サンプル(電磁波遮蔽シート)40を作製した。図4(a)は電極試験サンプル40の断面図、図4(b)は電極試験サンプル40の正面図である。
まず、100×100mmのガラス板41上に、製造例1で作製した導電フィルム(シート抵抗2.5Ω)42を貼合した。
次いで、幅10mmのアルミテープを長さ97mmに2本切り取り、穴あけパンチを使用して、径6mmの丸穴を各5ヶ所開け、導電テープ43a、43bを作製し、それぞれ、ガラス板41に貼合した導電フィルム42の導電膜上の両端に平行に貼り付けた。
次いで、導電テープの穴43a、43bに、黒田テクノ(株)製の超音波半田付け装置サンボンダーを用い、難はんだ性金属製はんだセラソルザ・エコ#155を流しこみ、導電膜上に、以下のようにはんだ付けしてはんだを盛りつけた。サンボンダーはパワー設定4W、温度調節目盛を0.8に設定した。1点のはんだの面積は、φ6の穴の面積、すなわち28.3mm2となる。
はんだ付けは、まず、2本の導電テープの図4(b)のP1部の位置に行い、2ヶ所のはんだ51a、51bを形成し、はんだ51a、51b間の抵抗(P1)を測定した。はんだ51a、51b間の距離は、82mmとした。
続けて、同様にして、P2部の位置に2ヶ所のはんだ52a、52bを形成し、はんだ52a、52b間の抵抗(P2)を測定した。続けて、P3の位置に2ヶ所のはんだ53a、53bを形成し、はんだ53a、53b間の抵抗(P3)を測定した。続けて、P4の位置に2ヶ所のはんだ54a、54bを形成し、はんだ54a、54b間の抵抗(P4)を測定した。続けて、P5の位置に2ヶ所のはんだ55a、55bを形成し、はんだ55a、55b間の抵抗(P5)を測定した。
その結果、P1、P2、P3、P4、P5の抵抗値はそれぞれ4.98Ω、3.35Ω、2.55Ω、2.19Ω、2.10Ωであった。この結果を図5のグラフに示す。抵抗値は、はんだの数が多くなるほど、つまり、はんだ付け面積が大きくなるほど低い値になった。
実施例1
以下の手順で、図4に示す構成の電極試験サンプル(電磁波遮蔽シート)40を作製した。図4(a)は電極試験サンプル40の断面図、図4(b)は電極試験サンプル40の正面図である。
まず、100×100mmのガラス板41上に、製造例1で作製した導電フィルム(シート抵抗2.5Ω)42を貼合した。
次いで、幅10mmのアルミテープを長さ97mmに2本切り取り、穴あけパンチを使用して、径6mmの丸穴を各5ヶ所開け、導電テープ43a、43bを作製し、それぞれ、ガラス板41に貼合した導電フィルム42の導電膜上の両端に平行に貼り付けた。
次いで、導電テープの穴43a、43bに、黒田テクノ(株)製の超音波半田付け装置サンボンダーを用い、難はんだ性金属製はんだセラソルザ・エコ#155を流しこみ、導電膜上に、以下のようにはんだ付けしてはんだを盛りつけた。サンボンダーはパワー設定4W、温度調節目盛を0.8に設定した。1点のはんだの面積は、φ6の穴の面積、すなわち28.3mm2となる。
はんだ付けは、まず、2本の導電テープの図4(b)のP1部の位置に行い、2ヶ所のはんだ51a、51bを形成し、はんだ51a、51b間の抵抗(P1)を測定した。はんだ51a、51b間の距離は、82mmとした。
続けて、同様にして、P2部の位置に2ヶ所のはんだ52a、52bを形成し、はんだ52a、52b間の抵抗(P2)を測定した。続けて、P3の位置に2ヶ所のはんだ53a、53bを形成し、はんだ53a、53b間の抵抗(P3)を測定した。続けて、P4の位置に2ヶ所のはんだ54a、54bを形成し、はんだ54a、54b間の抵抗(P4)を測定した。続けて、P5の位置に2ヶ所のはんだ55a、55bを形成し、はんだ55a、55b間の抵抗(P5)を測定した。
その結果、P1、P2、P3、P4、P5の抵抗値はそれぞれ4.98Ω、3.35Ω、2.55Ω、2.19Ω、2.10Ωであった。この結果を図5のグラフに示す。抵抗値は、はんだの数が多くなるほど、つまり、はんだ付け面積が大きくなるほど低い値になった。
比較例1
以下の手順で、図6に示す構成の比較サンプル60を作製した。図6(a)は比較サンプル60の断面図、図6(b)は比較サンプル60の正面図である。なお、本比較例においては、電極は、導電膜上に直接形成されたものではなく、ガラス板上に形成されたものであり、電極と導電膜とは単に接触しているのみである。
まず、100×100mmのガラス板61上に、大きさφ6のはんだ63a〜63jを合計10ヶ所、前記電極試験サンプルにおいて導電膜上に形成したのと同じ位置に、超音波はんだ付けにより盛り付けた。P3の位置の2カ所(63e、63f)については、抵抗測定端子用として、穴あけパンチを使用して、径6mmの丸穴を各1カ所開けたアルミテープ64a、64bを、丸穴がそれぞれ63e、63fの位置となるようにガラス板61上に置いた後、電極を超音波はんだにより盛り付けた。
次に、ガラス板61の、はんだ63a〜63jが形成された面上に、製造例1で作製した導電フィルム(100×100mm)62を、導電膜を内側にして、10カ所のはんだ全てに導電膜が接触するように押し付け、比較サンプル60を作成した。
次いで、比較サンプル60上に、1.3kgの重りを1枚ずつのせていき、P3から取り出したアルミテープ64a、64b上で抵抗値を測定した。
その結果を図7のグラフに示す。抵抗値は重りの数を増やすほど低い値となったが、最小でも6.66Ωであり、実施例1の電極試験サンプル40より抵抗値が大きかった。
以下の手順で、図6に示す構成の比較サンプル60を作製した。図6(a)は比較サンプル60の断面図、図6(b)は比較サンプル60の正面図である。なお、本比較例においては、電極は、導電膜上に直接形成されたものではなく、ガラス板上に形成されたものであり、電極と導電膜とは単に接触しているのみである。
まず、100×100mmのガラス板61上に、大きさφ6のはんだ63a〜63jを合計10ヶ所、前記電極試験サンプルにおいて導電膜上に形成したのと同じ位置に、超音波はんだ付けにより盛り付けた。P3の位置の2カ所(63e、63f)については、抵抗測定端子用として、穴あけパンチを使用して、径6mmの丸穴を各1カ所開けたアルミテープ64a、64bを、丸穴がそれぞれ63e、63fの位置となるようにガラス板61上に置いた後、電極を超音波はんだにより盛り付けた。
次に、ガラス板61の、はんだ63a〜63jが形成された面上に、製造例1で作製した導電フィルム(100×100mm)62を、導電膜を内側にして、10カ所のはんだ全てに導電膜が接触するように押し付け、比較サンプル60を作成した。
次いで、比較サンプル60上に、1.3kgの重りを1枚ずつのせていき、P3から取り出したアルミテープ64a、64b上で抵抗値を測定した。
その結果を図7のグラフに示す。抵抗値は重りの数を増やすほど低い値となったが、最小でも6.66Ωであり、実施例1の電極試験サンプル40より抵抗値が大きかった。
なお、実施例1および比較例1にて測定した抵抗値は、本発明における「見かけの抵抗」である。
これらの結果から、電極が超音波はんだ付けにより導電膜上に直接形成された実施例1の電極試験サンプル40の抵抗値は小さかった。したがって、高い電磁波遮蔽能を有していたことは明らかである。
1…電磁波遮蔽シート、2…透明高分子基材、3…導電膜、4…電極、6…導電テープ、7…着色層、8…補強層、9…高屈折率層、10…低屈折率層、11…粘着剤層、12…支持基体、21…電磁波遮蔽シート、31…電磁波遮蔽シート、101…電磁波遮蔽シート、102…透明高分子基材、103…導電膜、104…電極、105…導電性接着層、106…導電テープ、107…着色層、108…補強層、109…高屈折率層、110…低屈折率層、111…粘着剤層、112…支持基体
Claims (2)
- 透明高分子基材と、該透明高分子基材上に形成された導電膜と、該導電膜に電気的に接している電極とを有する電磁波遮蔽シートであって、
電極が、超音波はんだ付けにより導電膜上に直接形成されていることを特徴とする電磁波遮蔽シート。 - ディスプレイ用である請求項1記載の電磁波遮蔽シート。
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Cited By (2)
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JP2008244809A (ja) * | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Audio Technica Corp | リボンマイクロホンユニット、リボンマイクロホン、及びリボンマイクロホンユニットの製造方法 |
JP2009237394A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Kyocera Corp | ディスプレイユニット及び該ディスプレイユニットを具えた携帯端末機器、ディスプレイユニットの組立方法 |
-
2003
- 2003-12-22 JP JP2003423899A patent/JP2005183742A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
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JP2009237394A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Kyocera Corp | ディスプレイユニット及び該ディスプレイユニットを具えた携帯端末機器、ディスプレイユニットの組立方法 |
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Legal Events
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A761 | Written withdrawal of application |
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