JP2009010118A - 半導体パッケージ - Google Patents
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Abstract
【課題】接地用導体層の面積を十分に確保でき、信号用端子電極および信号用配線から接地用導体層への信号電流のリークを防止でき、信号品質に優れる半導体パッケージを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の半導体パッケージは、半導体チップとパッケージ基板2とを備え、パッケージ基板2は、半導体チップ搭載面6と、信号用端子電極7および接地用端子電極8がアレイ状に配設された端子電極形成面9を有し、半導体チップ搭載面6には、第1信号用配線11および接地用配線12と、接地用導体層13とが設けられ、端子電極形成面9に、第2信号用配線14と、接地用微小配線15とが設けられ、第1信号用配線11と第2信号用配線14、接地用配線12と接地用微小配線15とは、パッケージ基板2に貫通して設けられた導体16a、17aを介して接続されている。
【選択図】図2
Description
本発明は、半導体パッケージに関し、特に、BGA(Ball Grid Array)方式の半導体パッケージに関する。
半導体パッケージは、例えば、パッケージ基板上に半導体チップが搭載され、該半導体チップをモールド樹脂で覆ってなるものである。このような半導体チップとして、パッケージ基板の底面に、半球状の外部入出力端子をアレイ状に配設したBGA(Ball Grid Array)パッケージが知られている。このBGAパッケージは、外部入出力端子を多数配設することができ、また、半導体パッケージのサイズを半導体チップと同程度に小型化できる等の特長を有しており、半導体部品の高密度実装が要求される携帯電話等の携帯型電子機器において好適に用いられている。
ところで、このようなBGAパッケージとしては、パッケージ基板を複数積層した多層構成のものも提案されているが、製造工程が簡易であり、低コストであることから、1枚のパッケージ基板を用い、その一方の面に半導体チップを搭載し、他方の面に外部入出力端子を形成した構成のものが多用されている。このような構成のBGAパッケージで用いられるパッケージ基板の一例を図5(a)、(b)に示す。
図5(a)、(b)に示すように、このパッケージ基板101は、半導体チップが搭載される半導体チップ搭載面102と、外部入出力端子となる複数の信号用端子電極103および接地用端子電極104がアレイ状に配設された端子電極形成面105とを有する。
半導体チップ搭載面102には、半導体チップ搭載領域106と、複数の信号用配線107および接地用配線108とを有する。
図5(a)、(b)に示すように、このパッケージ基板101は、半導体チップが搭載される半導体チップ搭載面102と、外部入出力端子となる複数の信号用端子電極103および接地用端子電極104がアレイ状に配設された端子電極形成面105とを有する。
半導体チップ搭載面102には、半導体チップ搭載領域106と、複数の信号用配線107および接地用配線108とを有する。
各信号用配線107は、それぞれ、その一端部が、半導体チップの各信号用端子に対応するように、半導体チップ搭載領域106の略中央に沿って配列し、他端部が、端子電極形成面105に設けられた各信号用端子電極103に対応する領域(信号用端子電極103の形成領域の裏側)の近傍となるように、線状のパターンで設けられている。
また、各接地用配線108は、それぞれ、その一端部が、半導体チップの各接地用端子に対応するように、各信号用配線107の一端部と並んで、半導体チップ搭載領域102の略中央に沿って配列し、他端部が、半導体チップ搭載領域106の一方の外縁近傍に位置するように、線状のパターンで設けられている。
また、各接地用配線108は、それぞれ、その一端部が、半導体チップの各接地用端子に対応するように、各信号用配線107の一端部と並んで、半導体チップ搭載領域102の略中央に沿って配列し、他端部が、半導体チップ搭載領域106の一方の外縁近傍に位置するように、線状のパターンで設けられている。
一方、端子電極形成面105には、複数の信号用端子電極103に対応して設けられた複数の信号用微小配線109と、接地用導体層110とが設けられている。
複数の信号用微小配線109は、それぞれ、短い線状のパターンで設けられ、その一端部が、各信号用端子電極103に接続され、他端部が、後述する信号用スルーホール111内に設けられた各導体111aに接続されている。
複数の信号用微小配線109は、それぞれ、短い線状のパターンで設けられ、その一端部が、各信号用端子電極103に接続され、他端部が、後述する信号用スルーホール111内に設けられた各導体111aに接続されている。
接地用導体層110は、端子電極形成面105の所定の領域(グランド領域)に、各信号用端子電極103、各信号用微小配線109、各信号用スルーホール111およびこれら各部103、109、111の周囲と、半導体チップ搭載領域106に対応する領域(半導体チップ搭載領域106の裏面)を除いて、且つ、接地用端子電極104と接触するように、ベタパターン(面状のパターン)で設けられている。すなわち、接地用導体層110は、各信号用端子電極103、各信号用微小配線109および各信号用スルーホール111内の導体111aとは、これら各部の周囲に接地用導体層110が設けられていないことにより、非導通となっており、接地用端子電極104とは導通している。なお、以下の説明では、これら各部103、109、111と、接地用導体層110との間の領域(接地用導体層が設けられていない領域)を、クリアランスと言う。また、図5(b)は、端子電極形成面105のグランド領域を示すものであり、図示していないが、端子電極形成面105のグランド領域以外の領域にも、同様に、信号用端子電極103、信号用微小配線109および信号用スルーホール111等が設けられている。
また、パッケージ基板101には、各信号用配線107の他端部および各信号用微小配線109の他端部に対応する位置と、各接地用配線108の他端部に対応する位置に、それぞれ、信号用スルーホール111および接地用スルーホール112が設けられている。これらスルーホール111、112内には、導体111a、112aが設けられており、各信号用配線107と各信号用微小配線109、および、各接地用配線108と接地用導体層110は、それぞれ、これらスルーホール111、112内の導体111a、112aを介して電気的に接続されている。
以上のようなパッケージ基板101では、信号用配線107、信号用スルーホール111内の導体111a、信号用微小配線109および信号用端子電極103によって、半導体チップからの電気信号を伝送する信号回路が構成され、接地用配線108、接地用スルーホール112内の導体112a、接地用導体層110、接地用端子電極104によって接地回路が構成される。
この種のBGAパッケージの他の例として、プリント基板上に電極を有するベース基板を介して実装される電子部品に加わるノイズを電源およびGNDに接続するために、第1のベタパターンと第2のベタパターンのいずれかがGNDに接続された構成のバイパスコンデンサが知られている。(特許文献1参照)
また、基準電位に対して少なくとも3つの異なる電圧レベルを有する電源電圧が動作電圧として供給される半導体装置において配線基板間に複数の配線層を設け各配線層を面状のベタパターンとしたグランドプレーンとしてなる構造が知られている。(特許文献2)
また、信号用配線層としての第1配線テープの下に、電源およびグランド用配線層としての第2配線テープを貼り合わせた構造の半導体装置が知られている。
特開平9−82557号公報
特開2001−168266号公報
特開2002−164469号公報
また、基準電位に対して少なくとも3つの異なる電圧レベルを有する電源電圧が動作電圧として供給される半導体装置において配線基板間に複数の配線層を設け各配線層を面状のベタパターンとしたグランドプレーンとしてなる構造が知られている。(特許文献2)
また、信号用配線層としての第1配線テープの下に、電源およびグランド用配線層としての第2配線テープを貼り合わせた構造の半導体装置が知られている。
しかしながら、前述の構成のパッケージ基板101を有するBGAパッケージでは、信号用端子電極103および信号用微小配線109を流れる信号電流が、クリアランスを跨いで接地用導体層110にリークしてしまう場合がある。そうすると、周囲に接地用導体層110が設けられている領域(グランド領域)と、接地用導体層が設けられていない領域とで、信号用端子電極103から出力される電気信号の特性インピーダンスが異なってしまい、インピーダンス値のミスマッチによる反射信号が発生し、信号品質が劣化するといった不都合が生じる。
また、このように端子電極形成面105に接地用導体層110を設ける構成では、接地用導体層110に対して、信号用端子電極103、信号用微小配線109および信号用スルーホール111内の導体を非接触とする点から、接地用導体層110の形成領域が大きく制限される。このため、接地用導体層110の面積が狭くなり、接地回路のインダクタンスが上昇し、ノイズや誤動作を招来するおそれがある構造となっている。
以上のような事情は先の特許文献1〜3に記載されている半導体装置においても解決策が開示されていない状況であり、インピーダンス値のミスマッチによる反射信号が発生せず、信号品質が劣化するといった不都合が生じない半導体パッケージの構造が望まれている。
以上のような事情は先の特許文献1〜3に記載されている半導体装置においても解決策が開示されていない状況であり、インピーダンス値のミスマッチによる反射信号が発生せず、信号品質が劣化するといった不都合が生じない半導体パッケージの構造が望まれている。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、接地用導体層の面積を十分に確保することができ、また、信号回路を流れる信号電流が、接地用導体層にリークするのを防止することができ、ノイズや誤動作を招来する虞が少なく、信号品質に優れる半導体パッケージを提供することを目的とする。
上記の課題を解決するため、本発明の半導体パッケージは、電気信号を入力または出力する信号用端子と、接地用端子とが設けられた半導体チップと、前記半導体チップが搭載された半導体チップ搭載面と、前記信号用端子と電気的に接続された信号用端子電極および前記接地用端子と電気的に接続された接地用端子電極とがアレイ状に配設された端子電極形成面とを有するパッケージ基板とを備え、前記半導体チップ搭載面に、前記信号用端子電極と接続された第1信号用配線と、前記接地用端子電極と接続された接地用配線と、前記接地用配線と接続され、前記第1信号用配線の形成領域以外の領域に面状のパターンで形成された接地用導体層とが設けられ、前記端子電極形成面に、前記信号用端子電極と接続された第2信号用配線と、前記接地用端子電極と接続された接地用微小配線とが設けられ、前記第1信号用配線と前記第2信号用配線とが、前記パッケージ基板に貫通して設けられた信号用スルーホール内の導体を介して接続され、前記接地用導体層と前記接地用微小配線とが、前記パッケージ基板に貫通して設けられた接地用スルーホール内の導体を介して接続されていることを特徴とする。
この構成によれば、接地用導体層の面積を十分に確保することができ、また、信号回路を流れる信号電流が接地用導体層にリークするのを防止することができ、優れた信号品質を得ることができる。
この構成によれば、接地用導体層の面積を十分に確保することができ、また、信号回路を流れる信号電流が接地用導体層にリークするのを防止することができ、優れた信号品質を得ることができる。
本発明においては、前記第1信号用配線および前記接地用配線は、前記半導体チップ搭載面の前記半導体チップの搭載領域と該搭載領域の一方の外縁近傍の領域とを合わせた領域に設けられているのが望ましい。
この構成によれば、信号回路を流れる信号電流が接地用導体層にリークするのを確実に防止することができ、また、接地用導体層の面積を、より広く確保することができる。
この構成によれば、信号回路を流れる信号電流が接地用導体層にリークするのを確実に防止することができ、また、接地用導体層の面積を、より広く確保することができる。
本発明においては、前記第1信号用配線と前記第2信号用配線とを合わせた面積に対する前記第2信号用配線の面積の割合が、70%以上であるのが望ましい。
この構成によれば、接地用導体層の面積を、より広く確保することができる。
この構成によれば、接地用導体層の面積を、より広く確保することができる。
本発明においては、前記半導体チップ搭載面に、前記半導体チップの電源信号用端子と接続された第1電源信号用配線と、該第1電源信号用配線と接続された第2電源信号用配線とが設けられ、前記端子電極形成面に、電源信号用端子電極と、該電源信号用端子電極と接続された電源信号用微小配線とが設けられ、前記第2電源信号用配線と前記電源信号用微小配線とが、前記パッケージ基板に貫通して設けられた電源信号用スルーホール内の導体を介して接続されているのが望ましい。
この構成によれば、端子電極形成面における配線密度を低減することができ、配線形成工程において、配線となる導体層のパターニングを簡易化することができる。
この構成によれば、端子電極形成面における配線密度を低減することができ、配線形成工程において、配線となる導体層のパターニングを簡易化することができる。
本発明においては、前記第2電源信号用配線は、前記接地用導体層の形成領域に入り込むように設けられているのが望ましい。
この構成によれば、第2電源信号用配線を、より広い面積で形成することができ、電源信号用回路のインダクタンスを低減することができる。
この構成によれば、第2電源信号用配線を、より広い面積で形成することができ、電源信号用回路のインダクタンスを低減することができる。
本発明においては、前記第2電源信号用配線は、前記第1電源信号用配線よりも幅広であるのが望ましい。
この構成によれば、電源信号用回路のインダクタンスを、確実に低減することができる。
この構成によれば、電源信号用回路のインダクタンスを、確実に低減することができる。
本発明の半導体パッケージは、電気信号を入力または出力する信号用端子と、接地用端子とを有する半導体チップと、前記半導体チップが搭載された半導体チップ搭載面と、前記信号用端子と電気的に接続された信号用端子電極および前記接地用端子と電気的に接続された接地用端子電極とがアレイ状に配設された端子電極形成面とを有するパッケージ基板とを備え、前記半導体チップ搭載面に、前記接地用端子電極と接続され、面状のパターンで形成された接地用導体層が設けられ、前記端子電極形成面に、前記信号用端子電極と接続された信号用配線が設けられ、前記半導体チップの前記信号用端子電極と前記信号用配線とが、前記パッケージ基板に貫通して設けられた信号用スルーホール内に充填された導体を介して接続され、前記接地用導体層と前記接地用端子電極とが、前記パッケージ基板に貫通して設けられた接地用スルーホール内に充填された導体を介して接続されていることを特徴とする。
この構成によれば、接地用導体層の面積を十分に確保することができ、また、信号回路を流れる信号電流が接地用導体層にリークするのを防止することができ、優れた信号品質を得ることができる。
この構成によれば、接地用導体層の面積を十分に確保することができ、また、信号回路を流れる信号電流が接地用導体層にリークするのを防止することができ、優れた信号品質を得ることができる。
本発明においては、前記半導体チップの信号用端子および接地用端子は、それぞれ、バンプであるのが望ましい。
これにより、半導体チップの信号用端子および接地用端子を、パッケージ基板の半導体チップ搭載面に、簡易な工程で、強固に接合することができる。
これにより、半導体チップの信号用端子および接地用端子を、パッケージ基板の半導体チップ搭載面に、簡易な工程で、強固に接合することができる。
以上説明したように、本発明によれば、接地用導体層が、半導体チップ搭載面の第1信号用配線の形成領域を除いた領域に設けられ、第1信号用配線およびスルーホール内の導体以外の信号回路が、端子電極形成面に設けられていることにより、信号回路を構成する各部(第1信号用配線、スルーホール内の導体、第2信号用配線および信号用端子電極)と接地用導体層とが近接した状態となるのを防止することができる。これにより、信号回路を流れる信号電流が、接地用導体層にリークするのが防止され、グランド領域とそれ以外の領域とで、各信号用端子電極から出力される電気信号の特性インピーダンスを略同程度とすることができる。その結果、良好な信号品質を得ることができる。
また、半導体チップ搭載面に設けられる接地用導体層は、配線領域の面積を制御することにより、比較的広い面積で形成することができる。これにより、接地回路のインダクタンスが低減し、ノイズや誤動作の発生を抑えることができる。
また、半導体チップ搭載面に設けられる接地用導体層は、配線領域の面積を制御することにより、比較的広い面積で形成することができる。これにより、接地回路のインダクタンスが低減し、ノイズや誤動作の発生を抑えることができる。
さらに、本発明によれば、接地用導体層が、半導体チップ搭載面に設けられ、スルーホール内の導体以外の信号回路が、端子電極形成面に設けられていることにより、信号回路を構成する各部(信号用スルーホール内の導体、信号用配線および信号用端子電極)と接地用導体層とが近接した状態となるのを防止することができる。これにより、信号回路を流れる信号電流が、接地用導体層にリークするのが防止され、グランド領域とそれ以外の領域とで、各信号用端子電極から出力される電気信号の特性インピーダンスを略同程度とすることができる。その結果、良好な信号品質を得ることができる。
また、この場合、接地用導体層は、半導体チップ搭載面の信号用スルーホールおよびその周囲のみを除いた領域、すなわち、略全領域に形成し得るので、広い面積で形成することができる。これにより、接地回路のインダクタンスが低減し、ノイズや誤動作の発生を抑えることができる。
また、この場合、接地用導体層は、半導体チップ搭載面の信号用スルーホールおよびその周囲のみを除いた領域、すなわち、略全領域に形成し得るので、広い面積で形成することができる。これにより、接地回路のインダクタンスが低減し、ノイズや誤動作の発生を抑えることができる。
以下、本発明の半導体パッケージを、図面を参照して説明する。
図1は、本発明の半導体パッケージの第1実施形態を示す縦断面図、図2(a)、(b)は、第1実施形態の半導体パッケージが備えるパッケージ基板を示す平面図である。
図1に示すように、第1実施形態の半導体パッケージは、半導体チップ1と、半導体チップ1が搭載されたパッケージ基板2と、半導体チップ1を覆うモールド樹脂3を有している。
図1は、本発明の半導体パッケージの第1実施形態を示す縦断面図、図2(a)、(b)は、第1実施形態の半導体パッケージが備えるパッケージ基板を示す平面図である。
図1に示すように、第1実施形態の半導体パッケージは、半導体チップ1と、半導体チップ1が搭載されたパッケージ基板2と、半導体チップ1を覆うモールド樹脂3を有している。
半導体チップ1は、各種半導体回路と、半導体回路からの信号または電源信号等の電気信号を入力または出力する複数の信号用端子と、複数の接地用端子と、各信号用端子および各接地用端子とそれぞれ接続された複数の信号用バンプおよび接地用バンプとを有する。なお、各端子および各バンプの図示は省略する。
複数の信号用バンプおよび接地用バンプは、半導体チップ1の表面(パッケージ基板側の表面)に、その略中央に沿って列状に配設され、それぞれ、後述するパッケージ基板2の各第1信号用配線および各接地用配線に接合されている。
各信号用バンプおよび各接地用バンプの材料および形状は、特に限定されないが、例えば金または金を含有する合金によって構成され、角錐状、円錐状等の錐状に形成されている。
複数の信号用バンプおよび接地用バンプは、半導体チップ1の表面(パッケージ基板側の表面)に、その略中央に沿って列状に配設され、それぞれ、後述するパッケージ基板2の各第1信号用配線および各接地用配線に接合されている。
各信号用バンプおよび各接地用バンプの材料および形状は、特に限定されないが、例えば金または金を含有する合金によって構成され、角錐状、円錐状等の錐状に形成されている。
パッケージ基板2は、半導体チップ1が搭載される半導体チップ搭載面6と、外部入出力端子となる複数の信号用端子電極(信号用突起電極)7および接地用端子電極(接地用突起電極)8がアレイ状に配設された端子電極形成面(突出電極形成面)9とを有する。
図2(a)に示すように、半導体チップ搭載面6には、例えば横長の長方形状の半導体チップ搭載領域10と、複数の第1信号用配線11および接地用配線12と、接地用導体層13とが設けられている。
各第1信号用配線11および各接地用配線12、接地用導体層13は、例えば銅等の導電性材料によって構成されている。
図2(a)に示すように、半導体チップ搭載面6には、例えば横長の長方形状の半導体チップ搭載領域10と、複数の第1信号用配線11および接地用配線12と、接地用導体層13とが設けられている。
各第1信号用配線11および各接地用配線12、接地用導体層13は、例えば銅等の導電性材料によって構成されている。
複数の第1信号用配線11は、それぞれ、その一端部が、半導体チップ1の各信号用バンプに対応するように、半導体チップ搭載領域10の略中央に沿って配列し、他端部が、半導体チップ搭載領域10の一方の外縁近傍に位置するように、線状のパターンで設けられている。
また、複数の接地用配線12は、それぞれ、その一端部が、半導体チップ1の各接地用バンプに対応するように、各第1信号用配線11の一端部と並んで、半導体チップ搭載領域10の略中央に沿って配列し、他端部が、半導体チップ搭載領域10の一方の外縁近傍に位置するように、線状のパターンで設けられている。
接地用導体層13は、半導体チップ搭載面6の所定の領域(グランド領域)に、半導体チップ搭載領域10と該搭載領域10の一方の外縁近傍を除いてベタパターン(面状のパターン)で設けられている。この接地用導体層12は、各第1信号用配線11と、後述する信号用スルーホール内の導体とは接触せず、非導通となっており、接地用配線12の他端部および後述する接地用スルーホール内の導体とは接触し、導通している。
なお、図2(a)は、半導体チップ搭載面6のグランド領域を示すものであり、図示していないが、半導体チップ搭載面6のグランド領域以外の領域にも、同様に、第1信号用配線11および信号用スルーホール等が設けられている。
パッケージ基板2は半導体チップ1を搭載する基板であるので、半導体チップ1よりも当然面積が大きく形成されており、この例では図2の如く平面視横長の半導体チップ搭載面6とされているので、接地用導体層13は半導体チップ搭載面6において半導体チップ搭載領域10以外の部分の殆どの部分を覆うように形成されている。
前記横長の半導体チップ搭載領域10の中央側には、半導体チップ搭載領域10の長さ方向に沿って導体列10Aが形成され、導体列10Aを構成する1つ1つの導体10aに先の第1信号用配線11あるいは接地用配線12が接続されている。従って第1信号用配線11と接地用配線12は、半導体チップ搭載領域10の細い縦幅の部分の半分程の距離にほぼ直線的に配置され、第1信号用配線11は導体10aから接地用導体層13に接近するように延出形成されており、第1信号用配線11は接地用導体層13の直前位置において接地用導体層13と接触することなくパッケージ基板2を貫通する後述の導体16に接続されている。また、接地用導体層13は半導体チップ搭載領域10において前述の第1信号用配線11と同様に平行に延出されて、半導体チップ搭載領域10の縁部において接地用導体層13の縁部分に接続されている。なお、第1信号用配線11が複数密集している部分においては、接地用導体層13との接触を回避する目的で接地用導体層13の縁の部分に凹部13aを複数設けて導体16の周囲の部分にクリアランスを設け、導体16と接地用導体層13との接続を回避している。
なお、図2(a)は、半導体チップ搭載面6のグランド領域を示すものであり、図示していないが、半導体チップ搭載面6のグランド領域以外の領域にも、同様に、第1信号用配線11および信号用スルーホール等が設けられている。
パッケージ基板2は半導体チップ1を搭載する基板であるので、半導体チップ1よりも当然面積が大きく形成されており、この例では図2の如く平面視横長の半導体チップ搭載面6とされているので、接地用導体層13は半導体チップ搭載面6において半導体チップ搭載領域10以外の部分の殆どの部分を覆うように形成されている。
前記横長の半導体チップ搭載領域10の中央側には、半導体チップ搭載領域10の長さ方向に沿って導体列10Aが形成され、導体列10Aを構成する1つ1つの導体10aに先の第1信号用配線11あるいは接地用配線12が接続されている。従って第1信号用配線11と接地用配線12は、半導体チップ搭載領域10の細い縦幅の部分の半分程の距離にほぼ直線的に配置され、第1信号用配線11は導体10aから接地用導体層13に接近するように延出形成されており、第1信号用配線11は接地用導体層13の直前位置において接地用導体層13と接触することなくパッケージ基板2を貫通する後述の導体16に接続されている。また、接地用導体層13は半導体チップ搭載領域10において前述の第1信号用配線11と同様に平行に延出されて、半導体チップ搭載領域10の縁部において接地用導体層13の縁部分に接続されている。なお、第1信号用配線11が複数密集している部分においては、接地用導体層13との接触を回避する目的で接地用導体層13の縁の部分に凹部13aを複数設けて導体16の周囲の部分にクリアランスを設け、導体16と接地用導体層13との接続を回避している。
一方、図2(b)に示すように、端子電極形成面9には、複数の信号用端子電極7および接地用端子電極8と、複数の第2信号用配線14および接地用微小配線15とが設けられている。
各信号用端子電極7および各接地用端子電極8は、それぞれ、球状をなし、半田等の導電性材料によって構成されている。これら信号用端子電極7および接地用端子電極8は、半導体チップ搭載領域10に対応する領域(半導体チップ搭載領域10の裏面)を除いた部分に、アレイ状に配設されている。
各信号用端子電極7および各接地用端子電極8は、それぞれ、球状をなし、半田等の導電性材料によって構成されている。これら信号用端子電極7および接地用端子電極8は、半導体チップ搭載領域10に対応する領域(半導体チップ搭載領域10の裏面)を除いた部分に、アレイ状に配設されている。
また、各第2信号用配線14および各接地用微小配線15は、例えば銅等の導電性材料によって構成されている。
複数の第2信号用配線14は、それぞれ、その一端部が各信号用端子電極7と接続し、他端部が各信号用スルーホール16内の導体16aと接続するように、線状のパターンで設けられている。
複数の接地用微小配線15は、それぞれ、短い線状のパターンで設けられ、その一端部が接地用端子電極8と接続し、他端部が各接地用スルーホール17内の導体17aと接続している。
複数の第2信号用配線14は、それぞれ、その一端部が各信号用端子電極7と接続し、他端部が各信号用スルーホール16内の導体16aと接続するように、線状のパターンで設けられている。
複数の接地用微小配線15は、それぞれ、短い線状のパターンで設けられ、その一端部が接地用端子電極8と接続し、他端部が各接地用スルーホール17内の導体17aと接続している。
また、パッケージ基板2には、各第1信号用配線11および各第2信号用配線14の他端部に対応する位置に、それぞれ、信号用スルーホール16が設けられ、第2接地用配線15の他端部に対応する位置に、それぞれ、接地用スルーホール17が設けられている。これらスルーホール16、17内には、導体16a、17aが設けられ、各第1信号用配線11と各第2信号用配線14、および、各接地用導体層13と各接地用微小配線15は、それぞれ、各スルーホール16、17内の導体16a、17aを介して電気的に接続されている。
以上のようなパッケージ基板2では、第1信号用配線11、信号用スルーホール16内の導体16a、第2信号用配線14および信号用端子電極7によって、半導体チップ1からの信号および電源信号を伝送する信号回路が構成され、第1接地用配線12、接地用導体層13、接地用スルーホール17内の導体17a、接地用微小配線15および接地用端子電極8によって接地回路が構成される。
また、パッケージ基板2の半導体チップ搭載面10上には、半導体チップ1を覆うようにエポキシ樹脂等よりなるモールド樹脂3が設けられている。これにより、半導体チップ1や半導体チップ搭載面10に設けられた配線等が、外部ストレス(温度、湿度、応力等)から保護される。
以上のような半導体パッケージは、例えば、プリント配線基板に設けられた電極上に、各端子電極7、8を重ね合わせて載置し、リフローを行うことにより、プリント配線基板に実装する。
プリント配線基板に実装された半導体パッケージでは、半導体チップ1からの電気信号が、信号用バンプから出力され、信号回路(第1信号用配線11、導体16a、第2信号用配線14および信号用端子電極7)を介して、プリント基板の配線に伝送される。
また、接地用バンプから導出された電流は、接地用回路(第1接地用配線12、接地用導体層13、導体17a、接地用微小配線15および接地用端子電極8)を介して、グランドに落とされる。
プリント配線基板に実装された半導体パッケージでは、半導体チップ1からの電気信号が、信号用バンプから出力され、信号回路(第1信号用配線11、導体16a、第2信号用配線14および信号用端子電極7)を介して、プリント基板の配線に伝送される。
また、接地用バンプから導出された電流は、接地用回路(第1接地用配線12、接地用導体層13、導体17a、接地用微小配線15および接地用端子電極8)を介して、グランドに落とされる。
このとき、この形態の半導体パッケージでは、接地用導体層13が、半導体チップ搭載面6の第1信号用配線12の形成領域を除いた領域に設けられ、第1信号用配線11および導体16a以外の信号回路が、端子電極形成面9に設けられていることにより、信号回路を構成する各部(第1信号用配線11、導体16a、第2信号用配線14および信号用端子電極7)と接地用導体層13とが近接した状態となるのを防止することができる。これにより、信号回路を流れる信号電流が、接地用導体層13にリークするのが防止され、グランド領域とそれ以外の領域とで、各信号用端子電極7から出力される電気信号の特性インピーダンスを略同程度とすることができる。その結果、良好な信号品質を得ることができる。
また、本実施形態では、第1信号用配線12の形成領域が、半導体チップ搭載領域10とその一方の外縁近傍の領域を合わせた狭い領域とされていることにより、接地用導体層13を広い面積で形成することができる。したがって、接地回路のインダクタンスが低減し、ノイズや誤動作の発生を抑えることができる。
ここで、第1信号用配線11と第2信号用配線14とを合わせた合計面積に対する第2信号用配線14の面積の割合は、70%以上であるのが望ましい。これにより、接地用導体層13の形成領域を確実に広く採ることができ、接地回路のインダクタンスを確実に低減することができる。
次に、半導体パッケージの第2実施形態について説明する。
なお、第2実施形態においては、前記第1実施形態と同様の構成についてはその説明を省略する。
図3(a)、(b)は、第2実施形態の半導体パッケージが備えるパッケージ基板を示す平面図と裏面図である。
第2実施形態の半導体パッケージは、電源信号が伝送される信号回路(電源信号回路)の構成および接地用導体層のパターンが異なる以外は、第1実施形態の場合と同様である。
すなわち、図3(a)に示すように、第2実施形態の半導体パッケージでは、半導体チップ搭載面6に、複数の第1電源信号用配線18および第2電源信号用配線19が設けられている。
なお、第2実施形態においては、前記第1実施形態と同様の構成についてはその説明を省略する。
図3(a)、(b)は、第2実施形態の半導体パッケージが備えるパッケージ基板を示す平面図と裏面図である。
第2実施形態の半導体パッケージは、電源信号が伝送される信号回路(電源信号回路)の構成および接地用導体層のパターンが異なる以外は、第1実施形態の場合と同様である。
すなわち、図3(a)に示すように、第2実施形態の半導体パッケージでは、半導体チップ搭載面6に、複数の第1電源信号用配線18および第2電源信号用配線19が設けられている。
各第1電源信号用配線18は、それぞれ、その一端部が、半導体チップの各電源信号用バンプに対応するように、第1信号用配線11の一端部と並んで、半導体チップ搭載領域10の略中央に沿って配列し、他端部が、半導体チップ搭載領域10の一方の外縁近傍に位置するように、線状のパターンで設けられている。
各第2電源信号用配線19は、それぞれ、接地用導体層13の形成領域に入り込むように設けられ、その一端部が各第1電源信号用配線18と連続し、他端部が、後述する電源信号用端子電極(電源信号用突起電極)20に対応する領域(電源信号用端子電極20の裏面)の近傍に位置するように、線状のパターンで設けられ、第2電源信号用配線19の周囲の接地用導体層13には導体層を略した線状であって第2電源信号用配線19よりも幅広の隔離エリア13bが形成されていて、第2電源信号用配線19と接地用導体層13とが接触しないようにされている。また、各第2電源信号用配線19は、それぞれ、先の第1電源信号用配線18より幅広とされている。
接地用導体層13は、半導体チップ搭載面6の所定の領域(グランド領域)に、半導体チップ搭載領域10及び該搭載領域10の一方の外縁近傍と、第2電源信号用配線19およびその周囲を除いて、ベタパターン(面状のパターン)で設けられている。この接地用導体層13は、第1信号用配線11および信号用スルーホール16内の導体16aと、電源信号用配線18、19および後述する電源信号用スルーホール22内の導体21aとは接触せず、非導通となっており、接地用配線12および接地用スルーホール17内の導体17aとは接触し、導通している。なお、図3(a)は、半導体チップ搭載面6のグランド領域を示すものであり、図示していないが、半導体チップ搭載面6のグランド領域以外の領域にも、同様に、第1信号用配線11と、第1電源信号用配線18および第2電源信号用配線19と、信号用スルーホール16および電源信号用スルーホール22等が設けられている。
一方、図3(b)に示すように、端子電極形成面9には、複数の電源信号用端子電極20および電源信号用微小配線21とが設けられている。
複数の電源信号用端子電極20は、それぞれ、半導体チップ1からの電気信号を出力する信号用端子電極7および接地用端子電極8と並んで、アレイ状に設けられている。
複数の電源信号用端子電極20は、それぞれ、半導体チップ1からの電気信号を出力する信号用端子電極7および接地用端子電極8と並んで、アレイ状に設けられている。
また、複数の電源信号用微小配線21は、それぞれ、短い線状のパターンで設けられ、その一端部が、電源信号用端子電極に接続され、他端部が、各電源信号用スルーホール22内に設けられた導体22aに接続されている。
また、パッケージ基板2には、各第2電源信号用配線19および各電源信号用微小配線21の他端部に対応する位置に、それぞれ、電源信号用スルーホール22が設けられている。これら電源信号用スルーホール22内には、導体22aが設けられ、各第2電源信号用配線19と各電源信号用微小配線21は、それぞれ、各電源信号用スルーホール22内の導体22aを介して電気的に接続されている。
以上のようなパッケージ基板2では、第1電源信号用配線18、第2電源信号用配線19、電源信号用スルーホール22内の導体22a、電源信号用微小配線21および電源信号用端子電極20によって、電源信号を伝送する電源回路が構成される。
以上のようなパッケージ基板2では、第1電源信号用配線18、第2電源信号用配線19、電源信号用スルーホール22内の導体22a、電源信号用微小配線21および電源信号用端子電極20によって、電源信号を伝送する電源回路が構成される。
第2実施形態においても、前記第1実施形態と同様の効果が得られる。
また、第2実施形態では、特に、電源回路の一部(第2電源信号用配線19)が、半導体チップ搭載面6に設けられていることにより、端子電極形成面9の配線密度が低減するので、端子電極形成面9に配線を形成する工程において、配線となる導体のパターニングを容易に行うことができる。
また、第2電源信号用配線19が、第1電源用信号配線18よりも幅広のパターンで設けられていることにより、電源回路のインダクタンス低減を図ることができるという効果も得られる。
また、第2実施形態では、特に、電源回路の一部(第2電源信号用配線19)が、半導体チップ搭載面6に設けられていることにより、端子電極形成面9の配線密度が低減するので、端子電極形成面9に配線を形成する工程において、配線となる導体のパターニングを容易に行うことができる。
また、第2電源信号用配線19が、第1電源用信号配線18よりも幅広のパターンで設けられていることにより、電源回路のインダクタンス低減を図ることができるという効果も得られる。
なお、第2実施形態では、このような幅広の第2電源信号用配線19を、接地用導体層13の形成領域に割り込むように設けるが、第1実施形態で説明したように、半導体チップ搭載面6では、端子電極形成面9に比べて接地用導体層の形成領域を広く採ることができるため、第2電源信号用配線19の分だけ接地用導体層13の形成領域が減じても、接地用導体層13の面積は十分に確保することができる。したがって、接地回路のインダクタンスを低く抑えつつ、電源回路のインダクタンスも低減することができる。
次に、半導体パッケージの第3実施形態について説明する。
なお、第3実施形態においては、前記第1実施形態と同様の構成についてはその説明を省略する。
図4(a)、(b)は、第3実施形態の半導体パッケージが備えるパッケージ基板を示す平面図と裏面図である。
第3実施形態の半導体パッケージは、信号回路および接地用回路の構成と、接地用導体層のパターンが異なる以外は、第1実施形態の場合と同様である。
なお、第3実施形態においては、前記第1実施形態と同様の構成についてはその説明を省略する。
図4(a)、(b)は、第3実施形態の半導体パッケージが備えるパッケージ基板を示す平面図と裏面図である。
第3実施形態の半導体パッケージは、信号回路および接地用回路の構成と、接地用導体層のパターンが異なる以外は、第1実施形態の場合と同様である。
すなわち、図4に示すように、第3実施形態の半導体パッケージでは、パッケージ基板2は、半導体チップ1が搭載される半導体チップ搭載面6と、外部入出力端子となる複数の信号用端子電極7および接地用端子電極8がアレイ状に配設された端子電極形成面9とを有する。
図4(a)に示すように、半導体チップ搭載面6には、接地用導体層13が、所定の領域(グランド領域)に、後述する信号用スルーホール16およびその周囲を除いて、ベタパターン(面状のパターン)で設けられている。
図4(a)に示すように、半導体チップ搭載面6には、接地用導体層13が、所定の領域(グランド領域)に、後述する信号用スルーホール16およびその周囲を除いて、ベタパターン(面状のパターン)で設けられている。
一方、図4(b)に示すように、端子電極形成面9には、複数の信号用端子電極7および接地用端子電極8と、複数の信号用配線23とが設けられている。
各信号用端子電極7および各接地用端子電極8の構成は、第1実施形態の場合と同様である。
各信号用配線23は、それぞれ、その一端部が、各信号用端子電極7と接続し、他端部が、各信号用スルーホール16内の導体16aと接続するように、線状のパターンで設けられている。
各信号用端子電極7および各接地用端子電極8の構成は、第1実施形態の場合と同様である。
各信号用配線23は、それぞれ、その一端部が、各信号用端子電極7と接続し、他端部が、各信号用スルーホール16内の導体16aと接続するように、線状のパターンで設けられている。
パッケージ基板2には、半導体チップ1の各信号用バンプに対応するように、半導体チップ搭載領域10の略中央に沿って、複数の信号用スルーホール16が設けられ、また、接地用端子電極8に対応するように、複数の接地用スルーホール17が設けられ、それぞれ、その内部に導体16a、17aが充填されている。半導体チップ1の各信号用バンプは、それぞれ、各信号用スルーホール16内の導体16aに直接接合されており、導体16aを介して、各信号用配線23に電気的に接続されている。また、半導体チップ1の各接地用バンプは、接地用導体層13に接合されており、接地用導体層13およびスルーホール17内の導体17aを介して、各接地用端子電極8に電気的に接続されている。
この形態のパッケージ基板2では、スルーホール内16、17内に導体16a、17aが充填されていることにより、このように各スルーホール16上に直接各信号用バンプ4を接合することができ、また、各スルーホール17上に直接接地用端子電極8を設けることができる。
この形態のパッケージ基板2では、スルーホール内16、17内に導体16a、17aが充填されていることにより、このように各スルーホール16上に直接各信号用バンプ4を接合することができ、また、各スルーホール17上に直接接地用端子電極8を設けることができる。
以上のようなパッケージ基板2では、信号用スルーホール16内の導体16a、信号用配線23および信号用端子電極7によって、半導体チップ1からの信号および電源信号を伝送する信号回路が構成され、接地用導体層13、接地用スルーホール17内の導体17aおよび接地用端子電極8によって接地回路が構成される。
この第3実施形態の半導体パッケージでは、接地用導体層13が、半導体チップ搭載面6に設けられ、信号用スルーホール16内の導体16a以外の信号回路が、端子電極形成面に設けられていることにより、信号回路を構成する各部(導体16a、信号用配線23および信号用端子電極7)と接地用導体層13とが近接した状態となるのを防止することができる。これにより、信号回路を流れる信号電流が、接地用導体層13にリークするのが防止され、グランド領域とそれ以外の領域とで、各信号用端子電極7から出力される電気信号の特性インピーダンスを略同程度とすることができる。その結果、良好な信号品質を得ることができる。
また、この場合、接地用導体層13は、半導体チップ搭載面6の信号用スルーホール16およびその周囲のみを除いた領域、すなわち、略全領域に形成し得るので、広い面積で形成することができる。これにより、接地回路のインダクタンスが低減し、ノイズや誤動作の発生を抑えることができる。
なお、前記実施形態において、半導体パッケージの各部の構成は一例であって、本発明の範囲を逸脱しない範囲で適宜変更することができる。
例えば、半導体チップの各端子と、パッケージ基板の各配線との接続は、バンプを介さずにワイヤを介して行ってもよい。
また、本実施形態の半導体パッケージは、パッケージ基板を1枚のみ有しているが、さらに、単層または複数層のパッケージ基板を積層するようにしてもよい。
例えば、半導体チップの各端子と、パッケージ基板の各配線との接続は、バンプを介さずにワイヤを介して行ってもよい。
また、本実施形態の半導体パッケージは、パッケージ基板を1枚のみ有しているが、さらに、単層または複数層のパッケージ基板を積層するようにしてもよい。
本発明の活用例として、DIMM(Dual Inline Memory Module)に搭載される各DRAM(Dynamic Random Access Memory)等が挙げられる。
1…半導体チップ、2…パッケージ基板、3…モールド樹脂、6…半導体チップ搭載面、7…信号用端子電極、8…接地用端子電極、9…端子電極形成面、10…半導体チップ搭載領域、11…第1信号用配線、12…接地用配線、13…接地用導体層、14…第2信号用配線、15…接地用微小配線、16…信号用スルーホール、16a…導体、17…接地用スルーホール、17a…導体、18…第1電源信号用配線、19…第2電源信号用配線、20…電源信号用端子電極、21…電源信号用微小配線、22…電源信号用スルーホール、22a…導体、23…信号用配線
Claims (8)
- 電気信号を入力または出力する信号用端子と、接地用端子とが設けられた半導体チップと、
前記半導体チップが搭載された半導体チップ搭載面と、前記信号用端子と電気的に接続された信号用端子電極および前記接地用端子と電気的に接続された接地用端子電極とがアレイ状に配設された端子電極形成面とを有するパッケージ基板とを備え、
前記半導体チップ搭載面に、前記信号用端子と接続される第1信号用配線と、前記接地用端子と接続された接地用配線と、前記接地用配線と接続され、前記第1信号用配線の形成領域以外の領域に面状のパターンで形成された接地用導体層とが設けられ、
前記端子電極形成面に、前記信号用端子電極と接続された第2信号用配線と、前記接地用端子電極と接続された接地用微小配線とが設けられ、
前記第1信号用配線と前記第2信号用配線とが、前記パッケージ基板に貫通して設けられた信号用スルーホール内の導体を介して接続され、前記接地用導体層と前記接地用微小配線とが、前記パッケージ基板に貫通して設けられた接地用スルーホール内の導体を介して接続されていることを特徴とする半導体パッケージ。 - 前記第1信号用配線および前記接地用配線は、前記半導体チップ搭載面の前記半導体チップの搭載領域と該搭載領域の一方の外縁近傍の領域とを合わせた領域に設けられている請求項1に記載の半導体パッケージ。
- 前記第1信号用配線と前記第2信号用配線とを合わせた面積に対する前記第2信号用配線の面積の割合が、70%以上である請求項1又は2に記載の半導体パッケージ。
- 前記半導体チップ搭載面に、前記半導体チップの電源信号用端子と接続された第1電源信号用配線と、該第1電源信号用配線と接続された第2電源信号用配線とが設けられ、
前記端子電極形成面に、電源信号用端子電極と、該電源信号用端子電極と接続された電源信号用微小配線とが設けられ、
前記第2電源信号用配線と前記電源信号用微小配線とが、前記パッケージ基板に貫通して設けられた電源信号用スルーホール内の導体を介して接続されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかの項に記載の半導体パッケージ。 - 前記第2電源信号用配線は、前記接地用導体層の形成領域に入り込むように設けられている請求項4に記載の半導体パッケージ。
- 前記第2電源信号用配線は、前記第1電源信号用配線よりも幅広である請求項4又は5に記載の半導体パッケージ。
- 電気信号を入力または出力する信号用端子と、接地用端子とを有する半導体チップと、
前記半導体チップが搭載された半導体チップ搭載面と、前記信号用端子と電気的に接続された信号用端子電極および前記接地用端子と電気的に接続された接地用端子電極とがアレイ状に配設された端子電極形成面とを有するパッケージ基板とを備え、
前記半導体チップ搭載面に、前記接地用端子電極と接続され、面状のパターンで形成された接地用導体層が設けられ、
前記端子電極形成面に、前記信号用端子電極と接続された信号用配線が設けられ、
前記半導体チップの前記信号用端子電極と前記信号用配線とが、前記パッケージ基板に貫通して設けられた信号用スルーホール内に充填された導体を介して接続され、前記接地用導体層と前記接地用端子電極とが、前記パッケージ基板に貫通して設けられた接地用スルーホール内に充填された導体を介して接続されていることを特徴とする半導体パッケージ。 - 前記半導体チップの前記信号用端子および前記接地用端子は、それぞれ、バンプである請求項1〜7のいずれかの項に記載の半導体パッケージ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007169247A JP2009010118A (ja) | 2007-06-27 | 2007-06-27 | 半導体パッケージ |
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