JP2009007545A - シンチレータ用単結晶、シンチレータ用単結晶を製造するための熱処理方法、及びシンチレータ用単結晶の製造方法 - Google Patents
シンチレータ用単結晶、シンチレータ用単結晶を製造するための熱処理方法、及びシンチレータ用単結晶の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】下記一般式(1)で表されるセリウム付活オルト珪酸塩化合物を含むシンチレータ用単結晶。
Lm2−(x+y+z)LnxLuyCezSiO5 (1)
(式中、LmはLuよりも原子番号が小さいランタノイド系元素、並びにSc及びYの中から選ばれる少なくとも1種の元素を示し、Lnはイオン半径がLmとLuとの間にあるランタノイド系元素並びにSc、Y、B、Al、Ga及びInから選ばれる少なくとも1種の元素を示し、xは0超0.5以下の値を示し、yは1超2未満の値を示し、zは0超0.1以下の値を示す。)
【選択図】 なし
Description
xは、1×10‐4〜0.2
yは、1×10‐5〜0.05
[式中、Aは、LuとGd、Sc、Y、La、Pr、Nd、Sm、Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Ybからなるグループから選択された少なくとも1種の元素であり、Meは、H、Li、Be、B、C、N、Na、Mg、Al、P、S、Cl、K、Ca、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、As、Se、Rb、Sr、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Cs、Ba、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Hg、Tl、Pb、Bi、U、Thからなるグループから選択された少なくとも1種の元素である。]で表されるものが記載されている。特許文献7、8において、Luに置換するMeとしてHからThまでの50以上の元素が記載されているが、これらはシンチレーション素子の切削及び製造中の結晶のクラッキングを防止する効果、並びに導波路素子内で導波路特性を作り出すために効果があると記載されている。
Lm2−(x+y+z)LnxLuyCezSiO5 (1)
(式中、LmはLuよりも原子番号が小さいランタノイド系元素、並びにSc及びYの中から選ばれる少なくとも1種の元素を示し、Lnはイオン半径がLmとLuとの間にあるランタノイド系元素並びにSc、Y、B、Al、Ga及びInから選ばれる少なくとも1種の元素を示し、xは0超0.5以下の値を示し、yは1超2未満の値を示し、zは0超0.1以下の値を示す。)
Lm2−(x+y+z)LnxLuyCezSiO5 (1)
(式中、LmはLuよりも原子番号が小さいランタノイド系元素、並びにSc及びYの中から選ばれる少なくとも1種の元素を示し、Lnはイオン半径がLmとLuとの間にあるランタノイド系元素並びにSc、Y、B、Al、Ga及びInから選ばれる少なくとも1種の元素を示し、xは0超0.5以下の値を示し、yは1超2未満の値を示し、zは0超0.1以下の値を示す。)。
前記単結晶体を、酸素濃度が10〜100体積%である窒素若しくは不活性ガスを含む雰囲気中で、700〜1300℃の温度で熱処理する工程と
を備える、シンチレータ用単結晶の製造方法である。
Lm2−(x+y+z)LnxLuyCezSiO5 (1)
(式中、LmはLuよりも原子番号が小さいランタノイド系元素、並びにSc及びYの中から選ばれる少なくとも1種の元素を示し、Lnはイオン半径がLmとLuとの間にあるランタノイド系元素並びにSc、Y、B、Al、Ga及びInから選ばれる少なくとも1種の元素を示し、xは0超0.5以下の値を示し、yは1超2未満の値を示し、zは0超0.1以下の値を示す。)
本発明のシンチレータ用単結晶は、下記一般式(1)で表されるセリウム付活オルト珪酸塩化合物を含むシンチレータ用単結晶である。
Lm2−(x+y+z)LnxLuyCezSiO5 (1)
(式中、LmはLuよりも原子番号が小さいランタノイド系元素、並びにSc及びYの中から選ばれる少なくとも1種の元素を示し、Lnはイオン半径がLmとLuとの間にあるランタノイド系元素並びにSc、Y、B、Al、Ga及びInから選ばれる少なくとも1種の元素を示し、xは0超0.5以下の値を示し、yは1超2未満の値を示し、zは0超0.1以下の値を示す。)
本発明のシンチレータ用単結晶の製造方法は、下記一般式(1)で表されるセリウム付活オルト珪酸塩化合物を含むシンチレータ用単結晶の構成元素を含有する原料を準備し、チョクラルスキー法によって単結晶体を育成する工程と、
前記単結晶体を、酸素濃度が10〜100体積%である窒素若しくは不活性ガスを含む雰囲気中で、700〜1300℃の温度で熱処理する工程と
を備える、シンチレータ用単結晶の製造方法である。
Lm2−(x+y+z)LnxLuyCezSiO5 (1)
(式中、LmはLuよりも原子番号が小さいランタノイド系元素、並びにSc及びYの中から選ばれる少なくとも1種の元素を示し、Lnはイオン半径がLmとLuとの間にあるランタノイド系元素並びにSc、Y、B、Al、Ga及びInから選ばれる少なくとも1種の元素を示し、xは0超0.5以下の値を示し、yは1超2未満の値を示し、zは0超0.1以下の値を示す。)
単結晶はチョクラルスキー法にしたがって育成した。まず、直径150mm、高さ150mm、厚み3mmのイリジウム製るつぼの中に、Gd2−(x+y)YxLuyCezSiO5(x=0.02,y=1.86,z=0.003)の原料を投入した。出発原料は、酸化ガドリニウム(Gd2O3、純度99.99質量%)747.13g、酸化ルテチウム(Lu2O3、純度99.99質量%)13,038.28g、酸化イットリウム(Y2O3、純度99.99質量%)79.56g、二酸化珪素(SiO2、純度99.9999質量%)2,127.43g、酸化セリウム(CeO2、純度99.99質量%)18.19gでほぼ所定の量論比になるように混合し、混合物を合計で16,011gと炭酸カルシウム(CaCO3、純度99.99質量%)2.821g(Ca成分として0.007質量%)を仕込み、高周波誘導加熱炉で融点約2100℃まで加熱して融液を得た。なお、融点は電子式光高温計(チノー製、パイロスタModel UR−U)により測定した。この時、それぞれの原料中に含まれる不純物である4、5、6価の元素は全て1ppm未満であった。
出発原料として、酸化ガドリニウム(Gd2O3、純度99.99質量%)621.29g、酸化ルテチウム(Lu2O3、純度99.99質量%)13,077.64g、酸化イットリウム(Y2O3、純度99.99質量%)159.59g、二酸化珪素(SiO2、純度99.9999質量%)2,133.85g、酸化セリウム(CeO2、純度99.99質量%)18.25gをGd2−(x+y)YxLuyCezSiO5(x=0.04,y=1.86,z=0.003)のほぼ量論組成になるように混合し、混合物を合計で16,011gと炭酸カルシウム(CaCO3、純度99.99質量%)2.830g(Ca成分として0.007質量%)を仕込んだ以外は、実施例1と同様にしてシンチレータ用単結晶を作製した。この時、それぞれの原料中に含まれる不純物である4、5、6価の元素は全て1ppm未満であった。得られた単結晶体の外観は、平行部の最下部までボイド欠陥による結晶内部のにごりは見られず、表面の透明度も高い結晶であった(表1)。
出発原料として、酸化ガドリニウム(Gd2O3、純度99.99質量%)867.26g、酸化ルテチウム(Lu2O3、純度99.99質量%)13,001.15g、酸化ガリウム(Ga2O3、純度99.99質量%)2.63g、二酸化珪素(SiO2、純度99.9999質量%)2,121.37g、酸化セリウム(CeO2、純度99.99質量%)18.14gをGd2−(x+y)GaxLuyCezSiO5(x=0.0008,y=1.86,z=0.003)のほぼ量論組成になるように混合し、混合物を合計で16,011gと炭酸カルシウム(CaCO3、純度99.99質量%)2.813g(Ca成分として0.007質量%)を仕込んだ以外は、実施例1と同様にしてシンチレータ用単結晶を作製した。この時、それぞれの原料中に含まれる不純物である4、5、6価の元素は全て1ppm未満であった。得られた単結晶体の外観は、平行部の最下部10mm部分に、ボイド欠陥によると思われる結晶内部のにごりが見られ、その部分は結晶表面の透明度も低下していたが、蛍光出力やエネルギー分解能等の蛍光特性が高いレベルであった(表1)。
出発原料として、酸化ガドリニウム(Gd2O3、純度99.99質量%)616.26g、酸化ルテチウム(Lu2O3、純度99.99質量%)13,079.66g、酸化イットリウム(Y2O3、純度99.99質量%)159.62g、酸化ガリウム(Ga2O3、純度99.99質量%)2.65g、二酸化珪素(SiO2、純度99.9999質量%)2,134.18g、酸化セリウム(CeO2、純度99.99質量%)18.25gをGd2−(x+y)Yx−0.0008Ga0.0008LuyCezSiO5(x=0.0408,y=1.86,z=0.003)のほぼ量論組成になるように混合し、混合物を合計で16,011gと炭酸カルシウム(CaCO3、純度99.99質量%)2.830g(Ca成分として0.007質量%)を仕込んだ以外は、実施例1と同様にしてシンチレータ用単結晶を作製した。この時、それぞれの原料中に含まれる不純物である4、5、6価の元素は全て1ppm未満であった。得られた単結晶体の外観は、平行部の最下部までボイド欠陥による結晶内部のにごりは見られず、表面の透明度も高い結晶であった(表1)。
出発原料として、酸化ガドリニウム(Gd2O3、純度99.99質量%)494.68g、酸化ルテチウム(Lu2O3、純度99.99質量%)13,117.24g、酸化イットリウム(Y2O3、純度99.99質量%)240.11g、二酸化珪素(SiO2、純度99.9999質量%)2,140.32g、酸化セリウム(CeO2、純度99.99質量%)18.30gをGd2−(x+y)YxLuyCezSiO5(x=0.06,y=1.86,z=0.003)のほぼ量論組成になるように混合し、混合物を合計で16,011gと炭酸カルシウム(CaCO3、純度99.99質量%)2.838g(Ca成分として0.007質量%)を仕込んだ以外は、実施例1と同様にしてシンチレータ用単結晶を作製した。この時、それぞれの原料中に含まれる不純物である4、5、6価の元素は全て1ppm未満であった。得られた単結晶体の外観は、平行部の最下部までボイド欠陥による結晶内部のにごりは見られず、表面の透明度も高い結晶であった。
出発原料として、酸化ガドリニウム(Gd2O3、純度99.99質量%)872.22g、酸化ルテチウム(Lu2O3、純度99.99質量%)12,999.15g、二酸化珪素(SiO2、純度99.9999質量%)2,121.05g、酸化セリウム(CeO2、純度99.99質量%)18.14gをGd2−(y+z)LuyCezSiO5(y=1.86,z=0.003)のほぼ量論組成になるように混合し、混合物を合計で16,011gと炭酸カルシウム(CaCO3、純度99.99質量%)2.813g(Ca成分として0.007質量%)を仕込んだ以外は、実施例1と同様にしてシンチレータ用単結晶を作製した。得られた単結晶体の外観は、平行部の最下部40mm部分に、ボイド欠陥によると思われる結晶内部のにごりが見られ、その部分は自動直径制御による結晶径の制御が悪化して、形状に乱れが発生していた。
出発原料として、酸化ガドリニウム(Gd2O3、純度99.99質量%)1,257.15g、酸化ルテチウム(Lu2O3、純度99.99質量%)12,609.24g、二酸化珪素(SiO2、純度99.9999質量%)2,126.01g、酸化セリウム(CeO2、純度99.99質量%)18.18gをGd2−(y+z)LuyCezSiO5(y=1.80,z=0.003)のほぼ量論組成になるように混合し、混合物を合計で16,011gと炭酸カルシウム(CaCO3、純度99.99質量%)2.819g(Ca成分として0.007質量%)を仕込んだ以外は、実施例1と同様にしてシンチレータ用単結晶を作製した。得られた単結晶体の外観は、平行部の最下部20mm部分に、ボイド欠陥によると思われる結晶内部のにごりが見られ、その部分は結晶表面の透明度も低下していた。
直径180mm、高さ180mm、厚み3mmのイリジウム製るつぼの中に、Gd2−(x+y)YxLuyCezSiO5(x=0.06,y=1.86,z=0.003)の原料を投入した。出発原料は、酸化ガドリニウム(Gd2O3、純度99.99質量%)881.15g、酸化ルテチウム(Lu2O3、純度99.99質量%)23,365.08、酸化イットリウム(Y2O3、純度99.99質量%)427.70g、二酸化珪素(SiO2、純度99.9999質量%)3,812.44g、酸化セリウム(CeO2、純度99.99質量%)32.60gでほぼ所定の量論比になるように混合し、混合物を合計で28,518.97gと炭酸カルシウム(CaCO3、純度99.99質量%)5.056g (Ca成分として0.007質量%)を仕込み、高周波誘導加熱炉で融点約2100度まで加熱して融液を得た。なお、融点は電子式光高温計(チノー製、パイロスタModel UR−U)により測定した。この時、それぞれの原料中に含まれる不純物である4、5、6価の元素は全て1ppm未満であった。
出発原料として、酸化ガドリニウム(Gd2O3、純度99.99質量%)651.82g、酸化ルテチウム(Lu2O3、純度99.99質量%)23,850.78g、酸化スカンジウム(Sc2O3、純度99.99質量%)174.02g、二酸化珪素(SiO2、純度99.9999質量%)3,790.80g、酸化セリウム(CeO2、純度99.99質量%)32.58gをGd2−(x+y)ScxLuyCezSiO5(x=0.04,y=1.90,z=0.003)のほぼ量論組成になるように混合し、混合物を合計で28,519gと炭酸カルシウム(CaCO3、純度99.99質量%)5.052g(Ca成分として0.007質量%)を仕込んだ以外は、実施例6と同様にしてシンチレータ用単結晶を作製した。この時、それぞれの原料中に含まれる不純物である4、5、6価の元素は全て1ppm未満であった。得られた単結晶体の外観は、平行部の最下部までボイド欠陥による結晶内部のにごりは見られず、表面の透明度も高い結晶であった。
出発原料として、酸化イットリウム(Y2O3、純度99.99質量%)714.92g、酸化ルテチウム(Lu2O3、純度99.99質量%)23,378.99g、酸化スカンジウム(Sc2O3、純度99.99質量%)450.13g、二酸化珪素(SiO2、純度99.9999質量%)3,922.25、酸化セリウム(CeO2、純度99.99質量%)33.71gをY2−(x+y)ScxLuyCezSiO5(x=0.10,y=1.80,z=0.003)のほぼ量論組成になるように混合し、混合物を合計で28,520gと炭酸カルシウム(CaCO3、純度99.99質量%)5.227g(Ca成分として0.007質量%)を仕込んだ以外は、実施例6と同様にしてシンチレータ用単結晶を作製した。この時、それぞれの原料中に含まれる不純物としては、4、5、6価の元素は全て1ppm未満であった。得られた単結晶体の外観は、平行部の最下部までボイド欠陥による結晶内部のにごりは見られず、表面の透明度も高い結晶であった。
出発原料として、酸化ガドリニウム(Gd2O3、純度99.99質量%)2,239.30g、酸化ルテチウム(Lu2O3、純度99.99質量%)22,460.21g、二酸化珪素(SiO2、純度99.9999質量%)3,768.11g、酸化セリウム(CeO2、純度99.99質量%)32.38gをGd2−yLuyCezSiO5(y=1.80,z=0.003)のほぼ量論組成になるように混合し、混合物を合計で28,519gと炭酸カルシウム(CaCO3、純度99.99質量%)5.022g(Ca成分として0.007質量%)を仕込んだ以外は、実施例6と同様にしてシンチレータ用単結晶を作製した。この時、それぞれの原料中に含まれる不純物である4、5、6価の元素は全て1ppm未満であった。しかし、単結晶体の平行部育成中に自動結晶径制御において、結晶重量の増加量及び加熱出力が大きく変動する現象が見られたため、結晶育成を停止し、冷却を行った。
出発原料として、酸化ガドリニウム(Gd2O3、純度99.99質量%)235.09g、酸化ルテチウム(Lu2O3、純度99.99質量%)13,600.94g、酸化イットリウム(Y2O3、純度99.99質量%)39.579g、二酸化珪素(SiO2、純度99.9999質量%)2,116.81g、酸化セリウム(CeO2、純度99.99質量%)18.10gをGd2−(x+y)YxLuyCezSiO5(x=0.01,y=1.95,z=0.003)のほぼ量論組成になるように混合し、混合物を合計で16,011g仕込んだ以外は、実施例1と同様にしてシンチレータ用単結晶を作製した。この時、それぞれの原料中に含まれる不純物である4、5、6価の元素は全て1ppm未満であった。得られた単結晶体の外観は、平行部の最下部までボイド欠陥による結晶内部のにごりは見られず、表面の透明度も高い結晶であった。
出発原料として、酸化ガドリニウム(Gd2O3、純度99.99質量%)1,301.51g、酸化ルテチウム(Lu2O3、純度99.99質量%)11,748.81g、酸化イットリウム(Y2O3、純度99.99質量%)740.77g、二酸化珪素(SiO2、純度99.9999質量%)2,201.04g、酸化セリウム(CeO2、純度99.99質量%)18.82gをGd2−(x+y)YxLuyCezSiO5(x=0.18,y=1.62,z=0.003)のほぼ量論組成になるように混合し、混合物を合計で16,011g仕込んだ以外は、実施例1と同様にしてシンチレータ用単結晶を作製した。この時、それぞれの原料中に含まれる不純物である4、5、6価の元素は全て1ppm未満であった。得られた単結晶体の外観は、平行部の最下部40mm部分に、ボイド欠陥によると思われる結晶内部のにごりが見られ、その部分は結晶表面の透明度が少し低下していた。
出発原料として、酸化ガドリニウム(Gd2O3、純度99.99質量%)2,422.81g、酸化ルテチウム(Lu2O3、純度99.99質量%)11,428.50g、二酸化珪素(SiO2、純度99.9999質量%)2,141.03g、酸化セリウム(CeO2、純度99.99質量%)18.31gをGd2−(y+z)LuyCezSiO5(y=1.62,z=0.003)のほぼ量論組成になるように混合し、混合物を合計で16,011g仕込んだ以外は、実施例1と同様にしてシンチレータ用単結晶を作製した。得られた単結晶体の外観は、平行部の中央部付近から徐々にボイド欠陥によると思われる結晶内部のにごりが見られ始め、平行部の最下部にかけてボイド欠陥による結晶内部のにごり及び結晶表面の透明度の低下も顕著になっていた。平行部下部では自動直径制御による結晶径の制御が悪化して、形状に乱れが発生していた。
Claims (10)
- 下記一般式(1)で表されるセリウム付活オルト珪酸塩化合物を含むシンチレータ用単結晶。
Lm2−(x+y+z)LnxLuyCezSiO5 (1)
(式中、LmはLuよりも原子番号が小さいランタノイド系元素、並びにSc及びYの中から選ばれる少なくとも1種の元素を示し、Lnはイオン半径がLmとLuとの間にあるランタノイド系元素並びにSc、Y、B、Al、Ga及びInから選ばれる少なくとも1種の元素を示し、xは0超0.5以下の値を示し、yは1超2未満の値を示し、zは0超0.1以下の値を示す。) - 前記LmはGdであり、前記LnはSc、Y、Yb、Tm、Er、Ho、Dy、Tb、B、Al、Ga及びInから選ばれる少なくとも1種の元素である、請求項1記載のシンチレータ用単結晶。
- 前記LnはYである、請求項2記載のシンチレータ用単結晶。
- 前記xは0超0.2以下であり、かつ前記[2−(x+y+z)]よりも小さい値であり、前記yは1.6超2未満の値であり、前記zは0.001超0.02以下の値である、請求項3記載のシンチレータ用単結晶。
- 前記Lnはイオン半径がLmのイオン半径よりも2pm以上小さく、Luのイオン半径よりも4pm以下大きいランタノイド系元素、並びにSc及びYの中から選ばれる少なくとも1種の元素である、請求項1記載のシンチレータ用単結晶。
- 周期表2族に属する元素から選ばれる少なくとも1種の添加元素を前記単結晶の全質量に対して0.00005〜0.1質量%含有する、請求項1〜5のいずれか一項記載のシンチレータ用単結晶。
- 周期表13族に属する元素から選ばれる少なくとも1種の添加元素を前記単結晶の全質量に対して0.00005〜0.1質量%含有する、請求項1〜6のいずれか一項記載のシンチレータ用単結晶。
- 周期表4、5、6、14、15及び16族に属する元素から選ばれる少なくとも1種の元素を前記単結晶の全質量に対して0.002質量%以下含有する、請求項1〜7のいずれか一項記載のシンチレータ用単結晶。
- 請求項1〜8のいずれか一項記載のシンチレータ用単結晶を製造するための熱処理方法であって、
下記一般式(1)で表されるセリウム付活オルト珪酸塩化合物を含むシンチレータ用単結晶の構成元素を含有する原料を用いて単結晶体を育成した後、前記単結晶体を酸素濃度が10〜100体積%である窒素若しくは不活性ガスを含む雰囲気中で、700〜1300℃の温度で熱処理する、熱処理方法。
Lm2−(x+y+z)LnxLuyCezSiO5 (1)
(式中、LmはLuよりも原子番号が小さいランタノイド系元素、並びにSc及びYの中から選ばれる少なくとも1種の元素を示し、Lnはイオン半径がLmとLuとの間にあるランタノイド系元素並びにSc、Y、B、Al、Ga及びInから選ばれる少なくとも1種の元素を示し、xは0超0.5以下の値を示し、yは1超2未満の値を示し、zは0超0.1以下の値を示す。) - 請求項1〜8のいずれか一項記載のシンチレータ用単結晶の製造方法であって、
下記一般式(1)で表されるセリウム付活オルト珪酸塩化合物を含むシンチレータ用単結晶の構成元素を含有する原料を準備し、チョクラルスキー法によって単結晶体を育成する工程と、
前記単結晶体を、酸素濃度が10〜100体積%である窒素若しくは不活性ガスを含む雰囲気中で、700〜1300℃の温度で熱処理する工程と
を備える、シンチレータ用単結晶の製造方法。
Lm2−(x+y+z)LnxLuyCezSiO5 (1)
(式中、LmはLuよりも原子番号が小さいランタノイド系元素、並びにSc及びYの中から選ばれる少なくとも1種の元素を示し、Lnはイオン半径がLmとLuとの間にあるランタノイド系元素並びにSc、Y、B、Al、Ga及びInから選ばれる少なくとも1種の元素を示し、xは0超0.5以下の値を示し、yは1超2未満の値を示し、zは0超0.1以下の値を示す。)
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Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011026547A (ja) * | 2009-06-29 | 2011-02-10 | Hitachi Chem Co Ltd | シンチレータ用単結晶、シンチレータ用単結晶を製造するための熱処理方法、及びシンチレータ用単結晶の製造方法 |
WO2010150981A3 (en) * | 2009-06-24 | 2011-03-24 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Luminescent substances having eu2+-doped silicate luminophores |
US8071988B2 (en) | 2004-05-06 | 2011-12-06 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | White light emitting device comprising a plurality of light emitting diodes with different peak emission wavelengths and a wavelength converter |
US8075802B2 (en) | 2004-06-10 | 2011-12-13 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Luminescent material |
US8089084B2 (en) | 2004-06-10 | 2012-01-03 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device |
US8134165B2 (en) | 2007-08-28 | 2012-03-13 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device employing non-stoichiometric tetragonal alkaline earth silicate phosphors |
US8188492B2 (en) | 2006-08-29 | 2012-05-29 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device having plural light emitting diodes and at least one phosphor for emitting different wavelengths of light |
US8273266B2 (en) | 2005-11-11 | 2012-09-25 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Copper-alkaline-earth-silicate mixed crystal phosphors |
US8308980B2 (en) | 2004-06-10 | 2012-11-13 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device |
US8501040B2 (en) | 2007-08-22 | 2013-08-06 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Non-stoichiometric tetragonal copper alkaline earth silicate phosphors and method of preparing the same |
JPWO2012105202A1 (ja) * | 2011-01-31 | 2014-07-03 | 古河機械金属株式会社 | シンチレータ用ガーネット型結晶、及びこれを用いた放射線検出器 |
US8847254B2 (en) | 2005-12-15 | 2014-09-30 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device |
JP2015502423A (ja) * | 2011-11-24 | 2015-01-22 | サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド | 発光物質、及び発光物質を形成するためのプロセス |
JP2015038219A (ja) * | 2009-06-29 | 2015-02-26 | 日立化成株式会社 | シンチレータ用単結晶、シンチレータ用単結晶を製造するための熱処理方法、及びシンチレータ用単結晶の製造方法 |
US9312246B2 (en) | 2006-03-31 | 2016-04-12 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device and lighting system having the same |
KR20170110588A (ko) * | 2015-01-09 | 2017-10-11 | 포슝스베르분드 베를린 에.베. | 금속 도가니에 담겨진 용융물로부터 베타 상의 산화 갈륨 단결정을 성장시키는 방법 |
CN112630818A (zh) * | 2020-11-16 | 2021-04-09 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种硅位掺杂改善稀土正硅酸盐闪烁材料及其制备方法和应用 |
CN112654896A (zh) * | 2018-09-04 | 2021-04-13 | 佳能电子管器件株式会社 | 放射线检测器、放射线检测器的制造方法和装置、闪烁体面板、闪烁体面板的制造方法和装置 |
CN115044373A (zh) * | 2022-06-15 | 2022-09-13 | 中国电子科技集团公司第二十六研究所 | 一种Al、Ga/Ce共掺硅酸钇镥闪烁晶体材料及退火方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01203492A (ja) * | 1987-12-22 | 1989-08-16 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | Lu―Gd―Y系蛍光体及びその製造方法 |
JP2001524163A (ja) * | 1998-01-12 | 2001-11-27 | ティーエイエスアール リミテッド | シンチレーション材料およびシンチレーション導波路素子 |
WO2006018586A1 (fr) * | 2004-08-09 | 2006-02-23 | Saint-Gobain Cristaux Et Detecteurs | Materiau scintillateur dense et rapide a faible luminescence retardee |
JP2007016197A (ja) * | 2005-06-10 | 2007-01-25 | Hitachi Chem Co Ltd | シンチレータ用単結晶及びその製造方法 |
-
2008
- 2008-01-10 JP JP2008003581A patent/JP5521273B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01203492A (ja) * | 1987-12-22 | 1989-08-16 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | Lu―Gd―Y系蛍光体及びその製造方法 |
JP2001524163A (ja) * | 1998-01-12 | 2001-11-27 | ティーエイエスアール リミテッド | シンチレーション材料およびシンチレーション導波路素子 |
WO2006018586A1 (fr) * | 2004-08-09 | 2006-02-23 | Saint-Gobain Cristaux Et Detecteurs | Materiau scintillateur dense et rapide a faible luminescence retardee |
JP2007016197A (ja) * | 2005-06-10 | 2007-01-25 | Hitachi Chem Co Ltd | シンチレータ用単結晶及びその製造方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6012052446; 'Thermoluminescence and Scintillation Properties of Rare Earth Oxyorthosilicate Scintillators' IEEE Transactions on Nuclear Science Vol.51, No.3, June 2004, pp.1103-1110, 2004 * |
Cited By (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8071988B2 (en) | 2004-05-06 | 2011-12-06 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | White light emitting device comprising a plurality of light emitting diodes with different peak emission wavelengths and a wavelength converter |
US8252203B2 (en) | 2004-06-10 | 2012-08-28 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Luminescent material |
US8075802B2 (en) | 2004-06-10 | 2011-12-13 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Luminescent material |
US8089084B2 (en) | 2004-06-10 | 2012-01-03 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device |
US8158028B2 (en) | 2004-06-10 | 2012-04-17 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Luminescent material |
US8900482B2 (en) | 2004-06-10 | 2014-12-02 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device |
US8308980B2 (en) | 2004-06-10 | 2012-11-13 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device |
US8318044B2 (en) | 2004-06-10 | 2012-11-27 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device |
US8883040B2 (en) | 2004-06-10 | 2014-11-11 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Luminescent material |
US8273266B2 (en) | 2005-11-11 | 2012-09-25 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Copper-alkaline-earth-silicate mixed crystal phosphors |
US8847254B2 (en) | 2005-12-15 | 2014-09-30 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device |
US11322484B2 (en) | 2006-03-31 | 2022-05-03 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device and lighting system having the same |
US9576939B2 (en) | 2006-03-31 | 2017-02-21 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device and lighting system having the same |
US9312246B2 (en) | 2006-03-31 | 2016-04-12 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device and lighting system having the same |
US8674380B2 (en) | 2006-08-29 | 2014-03-18 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device having plural light emitting diodes and plural phosphors for emitting different wavelengths of light |
US8188492B2 (en) | 2006-08-29 | 2012-05-29 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device having plural light emitting diodes and at least one phosphor for emitting different wavelengths of light |
US8501040B2 (en) | 2007-08-22 | 2013-08-06 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Non-stoichiometric tetragonal copper alkaline earth silicate phosphors and method of preparing the same |
US8431954B2 (en) | 2007-08-28 | 2013-04-30 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device employing non-stoichiometric tetragonal alkaline earth silicate phosphors |
US8134165B2 (en) | 2007-08-28 | 2012-03-13 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device employing non-stoichiometric tetragonal alkaline earth silicate phosphors |
CN102803438A (zh) * | 2009-06-24 | 2012-11-28 | 首尔半导体股份有限公司 | 具有掺杂Eu2+的硅酸盐发光体的发光物质 |
RU2543196C2 (ru) * | 2009-06-24 | 2015-02-27 | Сеул Семикондактор Ко., Лтд. | Люминесцентные вещества, содержащие силикатные люминофоры, легированные eu2+ |
US8703014B2 (en) | 2009-06-24 | 2014-04-22 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Luminescent substances having Eu2+-doped silicate luminophores |
WO2010150981A3 (en) * | 2009-06-24 | 2011-03-24 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Luminescent substances having eu2+-doped silicate luminophores |
KR101121717B1 (ko) * | 2009-06-24 | 2012-03-09 | 리텍-엘피 게엠베하 | Eu(2+)-도핑된 규산염 발광체를 갖는 발광물질 |
JP2016056378A (ja) * | 2009-06-29 | 2016-04-21 | 株式会社オキサイド | シンチレータ用単結晶、シンチレータ用単結晶を製造するための熱処理方法、及びシンチレータ用単結晶の製造方法 |
JP2011026547A (ja) * | 2009-06-29 | 2011-02-10 | Hitachi Chem Co Ltd | シンチレータ用単結晶、シンチレータ用単結晶を製造するための熱処理方法、及びシンチレータ用単結晶の製造方法 |
JP2015038219A (ja) * | 2009-06-29 | 2015-02-26 | 日立化成株式会社 | シンチレータ用単結晶、シンチレータ用単結晶を製造するための熱処理方法、及びシンチレータ用単結晶の製造方法 |
JPWO2012105202A1 (ja) * | 2011-01-31 | 2014-07-03 | 古河機械金属株式会社 | シンチレータ用ガーネット型結晶、及びこれを用いた放射線検出器 |
JP5952746B2 (ja) * | 2011-01-31 | 2016-07-13 | 古河機械金属株式会社 | シンチレータ用ガーネット型単結晶、及びこれを用いた放射線検出器 |
JP2015502423A (ja) * | 2011-11-24 | 2015-01-22 | サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド | 発光物質、及び発光物質を形成するためのプロセス |
KR20170110588A (ko) * | 2015-01-09 | 2017-10-11 | 포슝스베르분드 베를린 에.베. | 금속 도가니에 담겨진 용융물로부터 베타 상의 산화 갈륨 단결정을 성장시키는 방법 |
KR101979130B1 (ko) | 2015-01-09 | 2019-05-15 | 포슝스베르분드 베를린 에.베. | 금속 도가니에 담겨진 용융물로부터 베타 상의 산화 갈륨 단결정을 성장시키는 방법 |
CN112654896A (zh) * | 2018-09-04 | 2021-04-13 | 佳能电子管器件株式会社 | 放射线检测器、放射线检测器的制造方法和装置、闪烁体面板、闪烁体面板的制造方法和装置 |
CN112630818A (zh) * | 2020-11-16 | 2021-04-09 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种硅位掺杂改善稀土正硅酸盐闪烁材料及其制备方法和应用 |
CN115044373A (zh) * | 2022-06-15 | 2022-09-13 | 中国电子科技集团公司第二十六研究所 | 一种Al、Ga/Ce共掺硅酸钇镥闪烁晶体材料及退火方法 |
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Publication number | Publication date |
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JP5521273B2 (ja) | 2014-06-11 |
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